Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Скачиваний:
66
Добавлен:
26.05.2014
Размер:
723.13 Кб
Скачать

Лекция 8. Кикучи – дифракция. Дифракция в сходящемся пучке.

КИКУЧИ - ДИФРАКЦИЯ

 

 

 

 

 

Помимо пятен на электронограмме при

 

достаточно большой толщине образца возникает

 

система линий, известных под названием

 

Кикучи-линий. Основная причина появления

 

Кикучи-дифракции – диффузное рассеяние

 

электронов.

В

благоприятном

случае

 

наблюдаются как пятна, так и Кикучи-линии,

 

рис.8.1. Механизм образования Кикучи-линий

 

поясняется на рис.8.2. Часть из диффузно (но

 

преимущественно

вперед)

 

рассеянных

 

электронов движутся под углом Брэгга θВ к

Рис.8. 1. Наиболее ценная

некоторой

hkl-плоскости

и

испытывают

картина получается, когда

дифракцию.

При этом,

поскольку имеется спектр

наблюдаются как пятна, так и

ориентаций

вектора

k,

дифрагированые

Кикучи-линии.

электроны будут двигаться по поверхности

конуса, называемого

конусом

Косселя

(Kossel

 

cones). Каждой плоскости будет соответствовать пара конусов Косселя с ±g, другая

 

 

 

 

 

пара - ±2g и т.д.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Поскольку

 

сфера

 

 

 

 

 

Эвальда

 

почти

 

 

 

 

 

плоскость

 

вблизи

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

первоначального

 

 

 

 

 

направления

пучка,

то

 

 

 

 

 

на ДК конуса Косселя

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

проявятся

как

пара

 

 

 

 

 

 

 

зеркально-

 

 

 

 

 

симметричных парабол.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Эту пару Кикучи-линий

 

 

 

 

 

иногда

 

называют

 

 

 

 

 

Кикучи-полосой,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

включая также область

 

 

 

 

 

между

линиями.

Из

 

 

 

 

 

рис.8.2б видно, что те

 

 

Рис.8.3. Схема ДК а) при

Рис.8.2. Схема

 

из лучей,

которые

 

ориентации пленки так что

формирования

 

 

первоначально

 

возбуждается один hkl-

 

Кикучи-линий.

 

движутся

ближе

к

 

рефлекс и б) при

 

 

оптической

оси,

после

 

 

 

симметричной ориентации.

 

 

рассеяния

 

уходят

 

 

Если пленка достаточно

 

 

 

дальше

от

оптической

 

 

толстая, то образуются

 

 

оси и на экране дают

 

 

Кикучи-линии (внизу).

 

 

светлую

 

линию,

 

 

 

 

 

 

называемую избыточной, и, наоборот, лучи, первоначально движущиеся вдали от оптической и поэтому имеющие более слабую интенсивность, после рассеяния будут двигаться вблизи от оптической оси и будут давать темную линию.

3

Рис.8.5. Переход от Кикучи-линии для В=[001] к В=[101].
Рис. 8.7. К определению вектора отклонения s.

Таким образом, чтобы проиндексировать светлую Кикучи-линию необходимо найти симметричную (а вблизи оптической оси – параллельную) ей линию – партнера по отражению от данной плоскости. Можно провести центральную линию между двумя линиями данной пары, тем самым определить положение данной плоскости hkl. Следует иметь ввиду, что расстояние между Кикучи-

Рис.8.4. Схема Кикучи-линий для пучка В=[001].

Рис. 8.6. Схема локализации полюса Р по Кикучи-линиям.

линиями (-g) и g равно g, а не 2g, поскольку угол между ними равен 2θВ, как следует из рис. 8.2.

Конуса Косселя и, стало быть, Кикучи-линии ведут себя как будто бы они привязаны к данной плоскости hkl,

т.е. к кристаллу. Это свойство отличает Кикучи-линии от обычных дифракционных рефлексов, которые при наклоне кристалла смещаются незначительно, но изменяют свою интенсивность, появляются и гаснут,

рис. 8.3.

Кикучи-линии используют для точной ориентировки кристаллов. Используемые для этого методы в значительной мере базируются на разработках Томаса и его

4

сотрудников [20]. Схема Кикучи-линий иллюстрируется на рис. 8.4 [16,2]. Каждый из g-векторов в нулевой зоне Лауэ сопровождается парой Кикучи-линий. Например, g020 делится пополам вертикальной линией Н, а смежная линия –Н делит пополам вектор g0- 20. Как показано на рис. 8.5, от наблюдаемой картины с В=[001] можно перейти к полюсу В=[101], если наклонять кристалл в направлении g = 020, поскольку Кикучилинии 020 и 0-20 являются общими для этих двух зон. Аналогичные схемы перехода и структур Кикучи-линий можно построить и для других направлений.

Если полюс Р находится вне пределов ДК, то с помощью экстраполяции Кикучи-линий можно определить его местоположение, как показано на рис. 8.6, где цифрами 1-4 показано местоположение дифрагирующих плоскостей, определяемое по Кикучи линиям, пересечение плоскостей дает искомый полюс.

С помощью Кикучи-дифракции можно определить знак и величину параметра отклонения s от узла обратной решетки. Схема определения показана на рис. 8.7. Если sg отрицателен, то избыточная g-линия Кикучи лежит по ту же сторону от g что и О. Когда же sg положителен, избыточная линия лежит по другую сторону, как изображено линией L1. Волновой вектор дифрагированного луча kD при этом развернут на угол 2θB+η, где η соответствует величине вектора отклонения s (и δθ на рис.8.3). Зная дифракционную длину L, мы можем записать для угла η

η = x/L = xλ/(Rd). (8.1)

Расстояния x и R измеряют на электронограмме. Угол ε на рис.7.7 равен

ε =s/g.

(8.2)

Далее мы полагаем ε = η и получаем

s =εg = (x/L)g = x/(Ld).

(8.3)

В малоугловом приближении расстояние между избыточной и дефицитной Кикучилиниями, R, эквивалентно 2θВL. Из условия Брэгга

R/L = 2θB = λ/d.

(8.4)

Следовательно,

 

s = (x/R)λg2.

(8.5)

ДИФРАКЦИЯ В СХОДЯЩЕМСЯ ПУЧКЕ

В Л5 мы уже говорили, что с помощью селекторной апертуры можно уменьшить размер области микродифракции до 0.5 мкм, что часто бывает недостаточно. На ПЭМ высокого разрешения с малой аберрацией Сs можно исследовать микродифракцию в области диаметром >/~0.1 мкм. Многие кристаллы преципитатов, определяющие свойства материалов, имеют существенно меньшие размеры. Дифракция в сходящихся пучках (CBED) позволяет преодолеть этот

барьер пространственного разрешения.

Никакая другая дифракционная методика не может сравниться со CBED по пространственному разрешению! Это самое

важное преимущество CBED.

Недостатки: повышенные радиационные повреждения, нагрев, загрязнения, и, связанные с ними, механические напряжения.

Помимо этого CBED позволяет Рис.8.8. Формирование CBED. определять толщину образца, параметры

элементарной ячейки, кристаллическую

систему и 3D-симметрию кристаллов.

5

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Рис.8.10. Сопоставление SAED (а) и CBED

 

 

 

(б) от [111] Si.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Схема формирования CBED представлена

 

 

на рис.8.8. а в конкретной реализации в

Рис.8.9. Диаграмма лучей в

микроскопе LEO-912AB приведена на рис. 8.9.

Линза С1 определяет размеры пучка, С2 и С3

режиме CBED в LEO-912AB

определяют угол сходимости 2α, а верхняя

 

конденсорная линза поддерживает фокус на

 

образце.

Сопоставление ДК в режиме SAED (дифракция в выбранной области, см. Л5) и в режиме CBED приведена на рис.8.10 [24]. Вместо четких и ярких рефлексов в SAED (рис.8.10а), наблюдаются диски (рис.8.10б), причем в пределах этих дисков виден контраст от деталей образца, формирующих данный рефлекс.

Вид ДК в режиме CBED зависит от сходимости пучка, дифракционной длины и толщины образца.

Угол сходимости (2α на рис.8.11) влияет на размер диска и может варьироваться либо апертурой, либо силой С2. Если диски не перекрываются, то такая ДК называется картиной Косселя-

Мелленштедта (К-М, Kossel-Möllenstedt pattern), рис.8.11а,г. Такая дифракция наблюдается, если 2α<2θВ. Угол Брэгга обычно составляет несколько милирадиан и достаточно апертуры в 10-50 мкм, чтобы

Рис. 8.11. Зависимость ДК CBED от расходимости пучка

 

 

 

 

 

 

это

условие

выполнялось.

С

 

увеличением α диски перекрываются и

 

в конце концов отдельные рефлексы

Рис.8.12. Зависимость ДК CBED от

становятся

неразличимы, формируя

дифракционной длины, убывающей от

картину называемую картиной Косселя

а) к в).

(рис.8.11в,е).

Картины Косселя

лучше

 

6

всего рассматривать с малой дифракционной длиной – в этом случае они охватывают очень большую область обратного пространства и при больших 2α и при не очень тонких образцах демонстрируют сильные Кикучи-линии.

Зависимость ДК от дифракционной длины L проиллюстрирована на рис.8.12. Напомним, что L определяет «увеличение» в режиме дифракции – большее значение L позволяет увидеть более мелкие детали, но в меньшем угловом (обратном) пространстве, и наоборот. Типично, значения L > 150-600 см используются для изображения деталей диска 000, рис.8.12а, и L < 50 см для изображения ДК в широком диапазоне углов, рис. 8.12в. Наконец, при очень малых L начинают просматриваться зоны Лауэ более высокого порядка.

Эффект толщины демонстрируется на рис. 8.13 для случая σ-фазы нержавеющей стали с ориентацией [001]. При малых толщинах условия близки к кинематическим, поэтому CBED от для тонкой фольги (а) не содержит новой информации по сравнению с SAED, за исключением того, что она идет с меньшего размера анализируемой области. Для более толстой фольги (б) начинают проявляться динамические эффекты.

Рис.8.13. ДК [001] CBED от σ-фазы нержавеюшей стали а)-для тонкой, б) - для более толстой фольги.

7

Соседние файлы в папке Лекции МГУ