Лекции МГУ / EM08
.pdfЛекция 8. Кикучи – дифракция. Дифракция в сходящемся пучке.
КИКУЧИ - ДИФРАКЦИЯ |
|
|
|
|
|||
|
Помимо пятен на электронограмме при |
||||||
|
достаточно большой толщине образца возникает |
||||||
|
система линий, известных под названием |
||||||
|
Кикучи-линий. Основная причина появления |
||||||
|
Кикучи-дифракции – диффузное рассеяние |
||||||
|
электронов. |
В |
благоприятном |
случае |
|||
|
наблюдаются как пятна, так и Кикучи-линии, |
||||||
|
рис.8.1. Механизм образования Кикучи-линий |
||||||
|
поясняется на рис.8.2. Часть из диффузно (но |
||||||
|
преимущественно |
вперед) |
|
рассеянных |
|||
|
электронов движутся под углом Брэгга θВ к |
||||||
Рис.8. 1. Наиболее ценная |
некоторой |
hkl-плоскости |
и |
испытывают |
|||
картина получается, когда |
дифракцию. |
При этом, |
поскольку имеется спектр |
||||
наблюдаются как пятна, так и |
ориентаций |
вектора |
k, |
дифрагированые |
|||
Кикучи-линии. |
электроны будут двигаться по поверхности |
||||||
конуса, называемого |
конусом |
Косселя |
(Kossel |
||||
|
cones). Каждой плоскости будет соответствовать пара конусов Косселя с ±g, другая
|
|
|
|
|
пара - ±2g и т.д. |
||||
|
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
Поскольку |
|
сфера |
||
|
|
|
|
|
Эвальда |
|
– |
почти |
|
|
|
|
|
|
плоскость |
|
вблизи |
||
|
|
|
|
|
|
||||
|
|
|
|
|
первоначального |
||||
|
|
|
|
|
направления |
пучка, |
то |
||
|
|
|
|
|
на ДК конуса Косселя |
||||
|
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
проявятся |
как |
пара |
||
|
|
|
|
|
|
|
зеркально- |
||
|
|
|
|
|
симметричных парабол. |
||||
|
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
Эту пару Кикучи-линий |
||||
|
|
|
|
|
иногда |
|
называют |
||
|
|
|
|
|
Кикучи-полосой, |
||||
|
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
включая также область |
||||
|
|
|
|
|
между |
линиями. |
Из |
||
|
|
|
|
|
рис.8.2б видно, что те |
||||
|
|
Рис.8.3. Схема ДК а) при |
|||||||
Рис.8.2. Схема |
|
из лучей, |
которые |
||||||
|
ориентации пленки так что |
||||||||
формирования |
|
|
первоначально |
||||||
|
возбуждается один hkl- |
|
|||||||
Кикучи-линий. |
|
движутся |
ближе |
к |
|||||
|
рефлекс и б) при |
||||||||
|
|
оптической |
оси, |
после |
|||||
|
|||||||||
|
|
симметричной ориентации. |
|||||||
|
|
рассеяния |
|
уходят |
|||||
|
|
Если пленка достаточно |
|
||||||
|
|
дальше |
от |
оптической |
|||||
|
|
толстая, то образуются |
|||||||
|
|
оси и на экране дают |
|||||||
|
|
Кикучи-линии (внизу). |
|||||||
|
|
светлую |
|
линию, |
|||||
|
|
|
|
|
|
называемую избыточной, и, наоборот, лучи, первоначально движущиеся вдали от оптической и поэтому имеющие более слабую интенсивность, после рассеяния будут двигаться вблизи от оптической оси и будут давать темную линию.
3
Таким образом, чтобы проиндексировать светлую Кикучи-линию необходимо найти симметричную (а вблизи оптической оси – параллельную) ей линию – партнера по отражению от данной плоскости. Можно провести центральную линию между двумя линиями данной пары, тем самым определить положение данной плоскости hkl. Следует иметь ввиду, что расстояние между Кикучи-
Рис.8.4. Схема Кикучи-линий для пучка В=[001].
Рис. 8.6. Схема локализации полюса Р по Кикучи-линиям.
линиями (-g) и g равно g, а не 2g, поскольку угол между ними равен 2θВ, как следует из рис. 8.2.
Конуса Косселя и, стало быть, Кикучи-линии ведут себя как будто бы они привязаны к данной плоскости hkl,
т.е. к кристаллу. Это свойство отличает Кикучи-линии от обычных дифракционных рефлексов, которые при наклоне кристалла смещаются незначительно, но изменяют свою интенсивность, появляются и гаснут,
рис. 8.3.
Кикучи-линии используют для точной ориентировки кристаллов. Используемые для этого методы в значительной мере базируются на разработках Томаса и его
4
сотрудников [20]. Схема Кикучи-линий иллюстрируется на рис. 8.4 [16,2]. Каждый из g-векторов в нулевой зоне Лауэ сопровождается парой Кикучи-линий. Например, g020 делится пополам вертикальной линией Н, а смежная линия –Н делит пополам вектор g0- 20. Как показано на рис. 8.5, от наблюдаемой картины с В=[001] можно перейти к полюсу В=[101], если наклонять кристалл в направлении g = 020, поскольку Кикучилинии 020 и 0-20 являются общими для этих двух зон. Аналогичные схемы перехода и структур Кикучи-линий можно построить и для других направлений.
Если полюс Р находится вне пределов ДК, то с помощью экстраполяции Кикучи-линий можно определить его местоположение, как показано на рис. 8.6, где цифрами 1-4 показано местоположение дифрагирующих плоскостей, определяемое по Кикучи линиям, пересечение плоскостей дает искомый полюс.
С помощью Кикучи-дифракции можно определить знак и величину параметра отклонения s от узла обратной решетки. Схема определения показана на рис. 8.7. Если sg отрицателен, то избыточная g-линия Кикучи лежит по ту же сторону от g что и О. Когда же sg положителен, избыточная линия лежит по другую сторону, как изображено линией L1. Волновой вектор дифрагированного луча kD при этом развернут на угол 2θB+η, где η соответствует величине вектора отклонения s (и δθ на рис.8.3). Зная дифракционную длину L, мы можем записать для угла η
η = x/L = xλ/(Rd). (8.1)
Расстояния x и R измеряют на электронограмме. Угол ε на рис.7.7 равен
ε =s/g. |
(8.2) |
Далее мы полагаем ε = η и получаем
s =εg = (x/L)g = x/(Ld). |
(8.3) |
В малоугловом приближении расстояние между избыточной и дефицитной Кикучилиниями, R, эквивалентно 2θВL. Из условия Брэгга
R/L = 2θB = λ/d. |
(8.4) |
Следовательно, |
|
s = (x/R)λg2. |
(8.5) |
ДИФРАКЦИЯ В СХОДЯЩЕМСЯ ПУЧКЕ
В Л5 мы уже говорили, что с помощью селекторной апертуры можно уменьшить размер области микродифракции до 0.5 мкм, что часто бывает недостаточно. На ПЭМ высокого разрешения с малой аберрацией Сs можно исследовать микродифракцию в области диаметром >/~0.1 мкм. Многие кристаллы преципитатов, определяющие свойства материалов, имеют существенно меньшие размеры. Дифракция в сходящихся пучках (CBED) позволяет преодолеть этот
барьер пространственного разрешения.
Никакая другая дифракционная методика не может сравниться со CBED по пространственному разрешению! Это самое
важное преимущество CBED.
Недостатки: повышенные радиационные повреждения, нагрев, загрязнения, и, связанные с ними, механические напряжения.
Помимо этого CBED позволяет Рис.8.8. Формирование CBED. определять толщину образца, параметры
элементарной ячейки, кристаллическую
систему и 3D-симметрию кристаллов.
5
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Рис.8.10. Сопоставление SAED (а) и CBED |
|
||
|
|
(б) от [111] Si. |
|
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Схема формирования CBED представлена |
|
|
|
на рис.8.8. а в конкретной реализации в |
||||
Рис.8.9. Диаграмма лучей в |
микроскопе LEO-912AB приведена на рис. 8.9. |
||||
Линза С1 определяет размеры пучка, С2 и С3 |
|||||
режиме CBED в LEO-912AB |
определяют угол сходимости 2α, а верхняя |
||||
|
конденсорная линза поддерживает фокус на |
||||
|
образце. |
Сопоставление ДК в режиме SAED (дифракция в выбранной области, см. Л5) и в режиме CBED приведена на рис.8.10 [24]. Вместо четких и ярких рефлексов в SAED (рис.8.10а), наблюдаются диски (рис.8.10б), причем в пределах этих дисков виден контраст от деталей образца, формирующих данный рефлекс.
Вид ДК в режиме CBED зависит от сходимости пучка, дифракционной длины и толщины образца.
Угол сходимости (2α на рис.8.11) влияет на размер диска и может варьироваться либо апертурой, либо силой С2. Если диски не перекрываются, то такая ДК называется картиной Косселя-
Мелленштедта (К-М, Kossel-Möllenstedt pattern), рис.8.11а,г. Такая дифракция наблюдается, если 2α<2θВ. Угол Брэгга обычно составляет несколько милирадиан и достаточно апертуры в 10-50 мкм, чтобы
Рис. 8.11. Зависимость ДК CBED от расходимости пучка
|
|
|
|
|
|
|
это |
условие |
выполнялось. |
С |
|
||
увеличением α диски перекрываются и |
|
|||||
в конце концов отдельные рефлексы |
Рис.8.12. Зависимость ДК CBED от |
|||||
становятся |
неразличимы, формируя |
дифракционной длины, убывающей от |
||||
картину называемую картиной Косселя |
а) к в). |
|||||
(рис.8.11в,е). |
Картины Косселя |
лучше |
|
6
всего рассматривать с малой дифракционной длиной – в этом случае они охватывают очень большую область обратного пространства и при больших 2α и при не очень тонких образцах демонстрируют сильные Кикучи-линии.
Зависимость ДК от дифракционной длины L проиллюстрирована на рис.8.12. Напомним, что L определяет «увеличение» в режиме дифракции – большее значение L позволяет увидеть более мелкие детали, но в меньшем угловом (обратном) пространстве, и наоборот. Типично, значения L > 150-600 см используются для изображения деталей диска 000, рис.8.12а, и L < 50 см для изображения ДК в широком диапазоне углов, рис. 8.12в. Наконец, при очень малых L начинают просматриваться зоны Лауэ более высокого порядка.
Эффект толщины демонстрируется на рис. 8.13 для случая σ-фазы нержавеющей стали с ориентацией [001]. При малых толщинах условия близки к кинематическим, поэтому CBED от для тонкой фольги (а) не содержит новой информации по сравнению с SAED, за исключением того, что она идет с меньшего размера анализируемой области. Для более толстой фольги (б) начинают проявляться динамические эффекты.
Рис.8.13. ДК [001] CBED от σ-фазы нержавеюшей стали а)-для тонкой, б) - для более толстой фольги.
7