МИНОБРНАУКИ РОССИИ
Санкт-Петербургский государственный
электротехнический университет
«ЛЭТИ» им. В.И. Ульянова (Ленина)
Кафедра МВЭ
ОТЧЕТ
по лабораторной работе №3
по дисциплине «Основы проектирования электронной компонентной базы»
Тема: «: «Определение Sinopsys TCAD»
Студент гр. 9201 |
|
Рауан М. |
Преподаватель |
|
Шевченко С.А. |
Санкт-Петербург
2022
Задание 1 «Полупроводниковый резистор на полуизолирующей подложке GаAs»
Моделирование полупроводникового резистора, изготовленного на полуизолирующей подложке из GaAs будем рассматривать без учёта эффектов генерации и рекомбинации носителей заряда в структуре.
Целью моделирования является получение ВАХ резистора, а также расчет распределения напряженности электрического поля в структуре для определения места, где вероятнее всего произойдет электрический пробой структуры.
1.1. Создадим структуру полупроводникового резистора на полуизолирующей подложке GaAs в программе Sentaurus Structure Editor:
-Для начала мы выберем материал(GaAs) из которого должна состоять наша структура и определим границы устройства;
-Далее зададим на структуре области канала, где будет локализован ток, и прилегающих к контактам областей дополнительного подлегирования для реализации их невыпрямляющих свойств, а также области, прилегающие к стоку и истоку;
-Произведем распределение концентрации легирующих примесей во всех областях; -Зададим параметры генерации расчетной сетки;
-Нельзя обойтись без основных элементов устройства – прилегающих контактов, так что добавим их.
Рисунок 1.1. Результат моделирования резистора с использованием сетки
На рисунке 1 наблюдаем распределение концентрации легирующей примеси, расчетную сетку, а также основные области структуры.
1.2. Создадим командный файл Sentaurus Device:
После того как задана структура устройства и создана расчетная сетка, на которой будет решаться ФСУ, необходимо написать командный файл для его исполнения модулем Sentaurus Device. Чтобы упростить процедуру создания командного файла, можно использовать в качестве шаблона следующий код:
Рисунок 1.2. Листинг кода командного файла для расчета.
Получим результат данного расчета в программе SVisual:
Рисунок 1.3. Результат расчета командного файла (Зависимость тока стока Iс от Uси).
На этой зависимости (Рисунок 1.3.) мы видим ВАХ полупроводникового резистивного элемента. На рисунке наблюдается следующие области:
Оммическая область (зона резкого возрастания тока стока). Канал «исток-сток» ведет себя как резистор, чье сопротивление управляется напряжением на затворе транзистора.
Область насыщения она имеет почти линейный вид. Здесь происходит перекрытие канала в области стока, которое увеличивается при дальнейшем росте напряжения исток-сток. Соответственно, растет и сопротивление канала, а стоковый ток меняется очень слабо (закон Ома, однако). Именно этот участок характеристики используют в усилительной технике, поскольку здесь наименьшие нелинейные искажения сигналов и оптимальные значения малосигнальных параметров, существенных для усиления.
1.3. Отобразим распределение напряженности электрического поля в структуре:
Рисунок 1.4. Распределение напряженности электрического поля в смоделированном резисторе.
На полученном распределении напряженности мы можем наблюдать пробой в области стока. При напряжении стока, равном напряжению пробоя , происходит пробой стокового перехода, за счёт прокола канала. Области обеднения стока и истока смыкаются. Происходит сквозное перекрытие канала объёмным пространственным зарядом, который создаёт сильное продольное электрическое поле, что значительно увеличивает инжекцию электронов из истока. Ток стока резко возрастает.