Добавил:

korayakov Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.

Вуз:

Национальный исследовательский университет «МИЭТ»

Предмет:

Технические процессы и оборудование в микроэлектронике

Файл:

Самойликов / Коллоквиум / Kolokv / PIC / t2

.txt

Скачиваний:

8

Добавлен:

17.04.2013

Размер:

113 б

Скачать

☆

Какой из стадий реакции определяется
скорость осаждения эпитаксиальных
слоев кремния при высоких температурах ?

Соседние файлы в папке PIC

#
17.04.201399 б9t15.txt
#
17.04.201385 б8t16.txt
#
17.04.201364 б9t17.txt
#
17.04.201378 б9t18.txt
#
17.04.201364 б9t19.txt
#
17.04.2013113 б8t2.txt
#
17.04.201373 б9t20.txt
#
17.04.201362 б8t21.txt
#
17.04.201371 б9t22.txt
#
17.04.201374 б9t23.txt
#
17.04.201375 б8t24.txt