Добавил:

korayakov Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.

Вуз:

Национальный исследовательский университет «МИЭТ»

Предмет:

Технические процессы и оборудование в микроэлектронике

Файл:

Самойликов / Коллоквиум / Kolokv / PIC / t1

.txt

Скачиваний:

9

Добавлен:

17.04.2013

Размер:

112 б

Скачать

☆

Какой из стадий реакции определяется
скорость осаждения эпитаксиальных
слоев кремния при низких температурах ?

Соседние файлы в папке PIC

#
17.04.201327 Кб9r51.bmp
#
17.04.201327 Кб9r52.bmp
#
17.04.201327 Кб9r61.bmp
#
17.04.201327 Кб10r62.bmp
#
17.04.201327 Кб10r8.bmp
#
17.04.2013112 б9t1.txt
#
17.04.201359 б8t10.txt
#
17.04.2013100 б10t11.txt
#
17.04.2013100 б10t12.txt
#
17.04.2013103 б8t13.txt
#
17.04.201329 б10t14.txt