госы мехатроника / 37

Фотолитография-процесс избирательного травления поверхностного слоя с использованием фотомаски и фотошаблона.

Подготовка поверхности к нанесению фотослоя заключается в ее обработке парами органического растворителя для удаления жировых пленок, которые препятствуют сцеплению фоторезиста с поверхностью. При нанесении фотослоя используется раствор светочувствительного полимера в органическом растворителе, он же фоторезист. Внесение фоторезиста выполняется одним из двух способов: 1. Центрофугирования, 2. распыление. Под совмещением перед экспонированием понимается точная ориентация фотошаблона относительно пластины, при которой элементы очередного топологического слоя (на фотошаблоне) занимают конкретное положение относительно элементов предыдущего слоя, предписанное разработчиком топологии. После выполнения совмещения подводят осветитель, включаемый одновременно с реле времени, который контролирует время экспонирования.