Скачиваний:
11
Добавлен:
08.02.2019
Размер:
935.94 Кб
Скачать

МИНОБРНАУКИ РОССИИ

Санкт-Петербургский государственный

электротехнический университет

«ЛЭТИ» им. В.И. Ульянова (Ленина)

Кафедра МНЭ

отчет

по лабораторной работе №2

по дисциплине «Физико-химические основы технологии изделий электроники и наноэлектроники»

Тема: Моделирование диаграмм состояния с ограниченной растворимостью компонентов(полупроводник-примесь)

Студенты гр. 4209

Кучинов А.Д.

Доброславин А.А.

Преподаватель

Максимов А.И.

Санкт-Петербург

2016

Цель работы.

Изучение фазовых равновесий в бинарной системе полупроводник

(Si, Ge)-примесь методом компьютерного моделирования; расчет параметров межатомного взаимодействия; выбор моделей растворов, адекватно описывающих экспериментальные Т-х-диаграммы состояния; расчет спинодалей и определение областей устойчивого и метастабильного состояний твердых растворов в заданной системе.

Обработка результатов измерений.

  1. Приведены T-x-проекции (в обычном и полулогарифмическом масштабах) исследованной диаграммы состояния на рисунках 1, 2 соответственно. Указаны подобранные оптимальные параметры межатомного взаимодействия в твёрдом и жидком растворах.

Рис.1. Линия солидуса для системы Si-Sn

Рис.2. Линия солидуса для системы Ge-Ag в полулагорифмическом масштабе

Оптимальные параметры межатомного взаимодействия Wlopt и Wsopt в жидком и твердом растворах:

Wlopt=20815 Дж/моль Wsopt=42165 Дж/моль

  1. Сравнение линии ликвидуса, построенные в рамках моделей идеальных, регулярных и квазирегулярных растворов, с экспериментальной, приведенной на T-x-проекции. Выберем модель, наиболее адекватно описывающую экспериментальные данные. На рисунке 3 представлена диаграмма состояния системы Si-Sn.

Рис 3. Диаграмма состояния системы Si-Sn

  1. Рассчитаем и построим концентрационные зависимости коэффициентов активностей компонентов в твердом растворе при Т=( Тпл(А) + Тэвт)/2 в пределах области растворимости, а также жидком растворе во всем диапозоне составов от х=0 до 1 при Т=Тпл(А). На тех же рисунках построены зависимости, соответствующие модели идеального раствора.

3.1. Коэффициенты активности компонентов в твердом растворе при

Т=(Тпл(А)эвт)/2 в пределах области растворимости представлены в таблице1. Т=( Тпл(А) + Тэвт)/2=1095 K

Xb

0,000794

0,015299

0,029804

0,044309

0,058814

0,073319

0,087824

0,102329

γ

102,1496

89,39755

78,39016

68,87226

60,62809

53,47493

47,2578

41,84499

α

0,08114

1,367722

2,336365

3,051683

3,565799

3,920745

4,150383

4,281968

0,999206

0,984701

0,970196

0,955691

0,941186

0,926681

0,912176

0,897671

γ

1,000003

1,001085

1,004125

1,009139

1,016158

1,025223

1,036387

1,049718

0,999206

0,984701

0,970196

0,955691

0,941186

0,926681

0,912176

0,897671

α

0,999209

0,985769

0,974197

0,964425

0,956393

0,950054

0,945367

0,942301

    1. . Коэффициенты активностей компонентов в жидком растворе во всем диапозоне составов от х=0 до 1 при Т=Тпл(А)=1685 К

Xb

0

0,1

0,2

0,3

0,4

0,5

0,6

0,7

0,8

0,9

1

γ

4,42175

3,33374

2,5893

2,0718

1,70771

1,4501

1,2685

1,143

1,0613

1,015

1

Xa

1

0,9

0,8

0,7

0,6

0,5

0,4

0,3

0,2

0,1

0

γ

4,421753

3,333738

2,589289

2,071769

1,70771

1,450102

1,268514

1,143151

1,061265

1,014976

1

  1. Рассчитаем равновесный коэффициент распределения компонента В(Ag) при Т=( Тпл(А) + Тэвт)/2=1095 К

  1. Построим спинодали при температурах от Ткомн до Тпл(А).

Т,К

298

471,375

644,75

818,125

991,5

1164,875

1338,25

1511,625

1685

Xs

0,030282

0,048835

0,068184

0,088441

0,109749

0,132289

0,156304

0,182129

0,210246

Xl

0,06352

0,10515

0,151722

0,205569

0,271787

0,367816

#ЧИСЛО!

#ЧИСЛО!

#ЧИСЛО!

12

Соседние файлы в предмете Физико-химические основы технологии материалов электронной техники