Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

kolda_test5

.pdf
Скачиваний:
80
Добавлен:
24.03.2015
Размер:
328.93 Кб
Скачать

-~2-

V.ПОЛУЧЕНИЕ КОЛЛОИДНЫХ СИСТЕМ.

1.Вопросы с одним праsиnьным ответом.

3а вопросо" И.I1М lle38коичеflНЫ'" утверждеlНtем следует tteelCOJlWrO ответов. В вопросах .!\'!.Iу! 1 -17 выберите ОДИН праВltЛЫlыii ответ.

1. Кому из русских поэтов принадпежит строка: «Ьсе истины PaCt8O-

рены в мицеппе».

 

А) К. Ба'lЬМОТОНУ;

С) 11. Ce0t1'''''''''Y;

В) В. Брюсову:

Д) А. Блоку.

2. Работа ДИСl1ергирован~,я при получении коллоидных систем мето-

дом диспергировани~ ра8на......

д) rcl60Te ..1.ефОРМaI11111 ,

в) Р,lботе образования новой поверхности; С) работе разрушеНIIЯ;

Д) CYM'le работ деформаЦJIII Jt обрюоваНШIIIО80Й noвepxнot11i.

3.Каков механизм пептизации путем поверхностной ДИССОЦИ8ЦИ1I 7

А) образование растворнмых coenиненнR на поаерХНОСТИ;

В) нов IЫЙ обмен;

С) солюбнлизаЦJlЯ осад1Са Мlщелламн;

Д) действие структурно-механическоro фактора устоllчивoct1i.

4.Причина адсорбционнoro noнижения прочностм (эффetcт Ребмнде­ ре) СОСТОИТ 8 .....

А) уменьшен"" энтропнн;

В) сншкенни энергии lCогезии;

С) уменьшении свободной ПО8срХНостиоll эиерl1lН;

д) уменьшении 8НyrpeIIнеА энерmи.

6. Укажите правиnЫfYlO формулу мицеnnы аоля Sb2s,. C11IБМл....

poeaННOlO Na2S.

А) (mSЬ~з "S2-(,,-.х)Nа~)хNа+; В) {тSЬzSз ,,82-2(,,-х)На+}2хНа"':

с) {mSb2SJ 21182- (" - X)N8 + }xNa • ;

д) {",Sb2S, 2nNa+(,,- x)S2- ):\'81.

-53-

6. Какая система является исходной для получения коллоидной си­ стемы методом конденсации?

А) гомогенная;

С I осадок В жидкости.

В) гетерогенная;

 

7. Какое соединение образует потенциалопределяюшие ионы с про..

тивоионами ?

 

А) высокоплавкое;

С) растворимое;

В) низкоплавкое;

Д) нерастворнмое.

8. Назовите причину растворения осадка при адсорбционной пеnт.

38ции.

А) улучшение качества растворителя;

В) солюбилизация OCa;tKa мицеллами;

С) обрюование двойного электрического слоя;

Д) ионный обмен.

9. Какова причина наличия максимума на кривой зависимости pu-

мера частиц от концентрации сливаемых растворов при получении

коллоидных систем методом конденсации?

А) дезагрегация частиц;

В) уменьшение скорости роста кристаллов; С) увеличение скорости НУКJlеации;

Д) повышение вязкости растворов.

10. К коллоидным системам. обраэующимся саМОПРОИ3ВОJ1bl1O ба

стабиЛизатора. относят.....

А) мицеллярные растворы ПАВ; В) золи благородных металлов; с) золь ОКСИда nrraна;

Д) золь оксида креМНИJI.

11.какие ИОНI,' являются noтенциanonредenяющимм для миц8М 3о­

МAlPO•• стабилизированноro На2НРО.?

А) На+ ;

В) HPO~-;

С) дl3+

12. Укажите "')ичину невозможности получения КОJ1J1OИДных частиц

..-тодом дисneprирования без стабилизатора.

М,., А) НИ3ICU МОЩНОСТЬ дезипreгратора;

В) рекомбинация Мem<ИХ частиц; С) низкое тренне между частицамн.

-54-

13. Какие ионы являются противоионами для мицeлn золя ДИОКСМД8 tepeмния?

А) SIOJ-; В) ОН-; С) н+.

14. Как изменится размер комоИДных частиц при получени" их ....

ТОДОМ конденсации?

А) 10 нм· 80 им;

С) 30 нм 300 НМ;

В) 10 МI<М ·80 мкм;

Д) 0,8 нм 50 им.

15. Каково соотношение работ reтepoгeHHoro и roмoгeнHO~ oбpuo-

еания критического зародыша ?

.1\fI~·Ю

Л) W roM = wre,..

 

кр.

кр. ,

 

В) Wre'l' = !(o)wroм

 

кр.

••

 

16. При гомогенном зародыweoбpaзоеании размер IфИтическоro 38·

родыша равен•••.

 

А) 'Iф. = 2GVm ·IAt.tI;

с) 'Iф. = 2crVm 'IAJ1I;

В) 'кр. =2a·IAt.tI'V..;

Д) 'кр.... VmlAfal 120 .

17.Какой заряд имеет lOМOИДН8Я частица ?

А) ОдJIоимcнкьtit С l1p011IВOионами;

В) ОдJIоимениыJl е потенциапОRpQе1ШОщими нонами;

с) эnектроиeitrpanыJа.

18.Причинoi растеоренмя осадка при nonyчeн"и lCOIIn08tДНWX сметем· nenтмэaциеА путем Пpollbl88НИЯ 0C8ДIC8 является••.•

А) улучшение качества р8CDOритeтr;

В) ооmoБИ1lJfЭ81lИJl ocaдn мнцeпnaми;

С) c:ame двоАиoro Эneln'pnескоro CJlOJI;

д) расширение д80ЯНОro злепричetJCОГО ело,..

-55-

2. Вопросы с подбором соответствующих ответов

(парные вопросы)

к переЧJlЮ npOlfYMepOB31111blX вопросов (фра) ПРII.1агаl:тея еПltсо,,"

ответов, об03l,ачаемых б)'ква'ШI. ,Д.1Я I,'ЭЖДОГО ВОl1рОСЭ надо выбрать

ОДИН соотвеТСТВ~'ЮЩllii OlBeT. ОТВС1'Ы, оБО)lIачены б)'''ва:\1ll, могут не­

ПОЛЬЗ0ваться О,ЩН раз, lIecKO.lbKO раз IL'III не Itсполь)оваться совсем. К

вопросам .1\!Х!! 19 - 47 II)'ЖIIО подобрать соотвеТСТВУЮЩllе

вопрос: «вопрос - OTBC'f»).

Вопросы }Ij!J''!19 - 22

Охарактеризуйте методы получения кnллоидных систем.

19. Конденсаuия.

20, Дllспергироваине.

21. Пептиззщtя,

22. самопроизвольное ДJ\спергирование.

А) образование лнофtmьных коллондных снстем из истинных

растворов;

В) образование устойчнвой свобоДНОДIfСПерсной системы из

осадка Или гели;

СJ образование устойчивой свободнодисперсиой системы из roмогеищ)й в результате ассоциаЦИ11 молекул, атомов или ионов в ar-

pmtTbl;

Д) дробление и измельчение.

Вопросы .м16 23 - 26

Мицeлna золя Сr(<?Н)э. стабил~эирова"нoro СrClз, имеет вид:

{тСr(ОН)з nCr3+3(n-х)СГ}ЭхСl- Как lt83Ы88eТCЯ элементы ммцen­

nы?

23.nCr3+;

24.{mСr(ОН), nCr3+3(n-х)С'-};

25.3(n- x)CI-;

26.ЭхСl-.

А) идро;

В) потенциалоnpeдemnoщнй ион;

С) адсорбционный слой пporнвононов;

Д)частица.

-56-

Вопросы J'!.''! 27 - зо

Какие вещества являются стабилизаторами ДЛЯ гидрозолей:

27. АI(ОН)з:

29. Cu2 [Fe(CN)e};

'28. AgBr;

30. Fe2 (HPO.),.

А) Fе(ОН)з;

Д) CUS04;

в) Na2HP04;

Е) КJ.

с) NaOH;

 

Вопросы X!JV! 31 - з4

Какими методами получают следующие коллоидные системы:

31.30.% каНllфОЛИ.

32.30ЛЬ берЛlШСКОЙ лазури.

33.fvlицеллярный раствор лаурилсульфата натрия;

34.30ЛЬ ДlfQксида марганца.

А) самопроlf3ВОЛЬНЫМ дисперГИРОВ&iнием; В) диспергироваНl1ем;

С) хнмической конденсацией;

Д) фюической конденсацией; Е) пептюацнеЙ.

Вопрос.. .Ni.М ЗS·38

как ФОРМУЛИРУЮТСЯ следующие правила '1

35. Антонова.

36.Дюкло Траубе.

37.Уравнивання полярнocreii Ребнндера.

38.Осадков Оствальда.

А) вещество может адсорбироваться на границе раэдenа фаз, ecnи оно по ПОЛJIрнocrи занимает npoмежуточное положенне между

8еЩec11Iамн, опредernuoщнмн фазы;

В) прн посто_нном содержании пemиэатора с возрастанием

количества 83J1ТOГO дЛJI пerrmэации осадка, количество осадка пере­

ШCЩlllerO 8 pacrвop, сначала yвenнчнваeral, а затем yмeньmaerar;

С) при увеличеиии дnИны углеводородного paдиJt8Л8 8 гомо­

лоmчеасом РIJIY ПАВ~И8 одну ~Нr группу ПО&ерХНOC11lаа tUmI8-

ность 8Озраct&eт 8 3,2 раза;

д) межфазное наПРJlжение двух 8заимно насыщенных ид­

кOC1'di равно р83нOCJ1I ПО&ерхнOC11lЫX Н8Т11Жеиий п взаимно MCЫ~

_etDIЫX растворо8 ка границе с 8О3дУХОм.

-~­

Вопрос.. .МJ6 39 - 41

На рисунке представлена зависимость размера частиц КОМО­

иДМЫХ систем от концентрации реаГИРУf"\щих веществ при образова­

нии умерено растворимых соединений. Какие дисneрсны~ системы

образуются в различных областях кривой?

d

А) осадок;

В) гель;

С) золь; Д) осадок с минимальным размером

частиц;

Е) осадок с максимальным размером

частиц.

с

Вопросы »А 43 - 46 ~ золя молибдата свинца, стабилизированного молибдатом

К8J1ИЯ, имеет вид: {mРЬМоО. "MoO~-2(,,-x)К+}2xK+ Как называют­

ся элементы мицеллы?

 

43.2(,,-х)к+;

45. mРЬМоО. "MoO~-;

А) диффузионный слой противононов; В) адсорбционный слой противоионов;

с)ядро; Д)агрегат.

3. Вопросы с множественными ответами.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

в

 

 

 

 

Е

 

ерно

если верно

если верно

если верно

еспи верно

ько

только

только

только

все

123

13

 

 

24

4

 

 

4.,. ~акие факторы влияют на размер частиц, получаемых конденеа­

цион~ым методом?

1) схорость нyюtеации:

3) концентрация реагентов:

2) CKOpocrь роста кристаллов;

4) ВЯJI<ОСТЬ срелы.

-58-

48. Перечислите типы потенциалопределяющих ИОН08.

1)ионы, входящие в COC'l(tB твердой фазы;

2)изоморфные IfOHhI;

3)орr'аюtческие ионы с высокой адсорбционной способностью;

4)ионы металлов с переменной валентностью.

49.Каковы методы получения лиофильных диспеprчых систем?

1)КОliденсаultя;

2)диспеРГJlрованне;

3)пепТlШЩИЯ;

4)самопроизволыюе днспергирование.

50.Сущность адсорбционного понижения прочности (эффект Ребин

дера) состоит В.....

1)оБJlегчении деформации и разрушеиия вcnе,~"ТВИН lННЖенн, С1\обо.:\ноЙ поверхностной энергии;

2)умсНt,шеНltlf работы, затрачиваемо. на образоваиие новой по'

BepXHOC'11t ;

3)адсорбцни ПАВ на стенках МlПqютрещин;

4)возрастаю," расклинивающего"давлеНЮI, экраиироваиии СМ

сцеПJIения.

51. Основнои причиной понижения механической прочности реал....

ных твердых тел по сравнению с их теорет~ческой прочностью ЯВ­

ляется....

1) микротрещины на основе дефекто& криcтanличеасой решетки; 2) микротрещины, ШI'рокие части которых BЫXOДIIТ иа поаер~·

'ость тела, а тупики остаютс. 8Иyrpи тела;

3)BHyrpeHHlle МllкpoтpeIЦИИЫ;

4)поверхность МИIC~и.

52.Перечислите принцмпы построения формуnы мицем МОНОСТ8бм· ЛМ3Мр088нных золе" ?

1)агрегат мицeлnы .В1IIIe'ЮI иерастворимым с:оецннением;

2)потснциалопредемющне иоиы образуют с npoтиaoиоиом РАС­

творимое соедииение;

3)потенциалоnpсдemrющими ионами DJIJIIOТCI ИОНЫ, 8ХОДIЩие ,. tocra8 тверДОА фазы. изоморфные им или органические ионы с &...00·

кой адсорбционной способиостью;

4)Nиц~а эnектронеАтральиа.

53.Каковы методы получения лмофобных дисперсных систем?

t) ICОНдеИС3ЦИI:

3) .lПfсперГИРО&8иие;

2) lюалесцеИШf_;

4) tiзотерМlfчеаАЯ neveroНlo,

-59-

54. Пути создания меl'астабильности исходной системы при физической конденсации связанны с изменением.......

 

1) темпераl уры;

:.,

состава растворителя;

 

2) давления;

4)

концентрации BeL...~'CТBa.

55.

Как изменяется размер частиц при получении их методом пепти­

эации?

 

 

 

1) 10 нм - 100 нм;

3) 20 мкм - 80 мкм;

 

2) 300 нм - 50 нм;

4)

1 мкм - 60 мкм.

56.

К диспергирующим устройствам отНосятся......

 

1) шаровые мельницы;

3) коллоидные мельницы:

 

2) вальцы;

4) краскотерки.

57. Что является причиной образования ДИффузионного слоя протм­ !Омонов?

1)электростатическое притяжение иоиов;

2)тепловое движение ионов;

3)избирательная ионная адсорбция;

4)электроститнческое отталкивание ионов.

58~ ЛИофобные дисперсные системы принципиально агрегативно не-

устойчивы АследствиИ......

1)высокой дисперсности частиц;

2)гетерогенности;

3)большой межфазной поверхности частиц;

4)избытка своБОднОЙ поверХНОСТНОЙ энергии на разВИТОЙ ме.­ фазНОЙ поверхностн.

59.В какой части мицемы находятся противоионы ?

J) в агрегате;

3) в ядре;

2) в адсорбциоином слое;

4) в диффузионном спое.

80. Какая система является исходной при получении коллоидных си­

С1ем методом nemизации ?

1) гerepoгениu;

3) осадок в ЖИДКОСТИ;

2) гомогеиная;

4) истинный раствор.

81.Укажите условия получения золей методом конденсации.

1)м8ЛU растворимоcrь полученного соединения;

2)низкu ICонцентрация электролита, ие являюшеГОС!l стабилиза­

тором;

3)наличие стабилизатора;

4)окраска раствора.

-60-

62. В какую часть мицеллы входят потенциалопределяющие ионы 1

1) в <trperaT;

3) в адсорбционный слой;

2) в ядро;

4) в частицу.

63. Пептиэация происходит в следсТВии.......

1)поверхностной ДllссоциаЦlШ;

2)стаБИЛll3аЦШf ионами электролита, добавля{'мого k осадку;

3)Р<tСШИРСНllе двойного элеКТРИ'lССkОI-О Cr(Q>i "ри промывании

осадка;

4)ТJfКСОТРОПНЫХ СВОЙС1в осадка.

4.Вопросы на определение причинной зависимости.

в вопросах ~!.1'! 64 - 82 Прll отаетах НСП6.fJьэуiiте прнведеиную ни­

же схему:

 

 

 

-

 

 

 

Выберите:

 

 

 

 

 

Ответ:

Утверждение I

УтвеРУ',ениеll

Связь:

 

А

верно

верно

 

верно

 

В

верно

верно

неверно

 

С

верно

неверно

неверно

 

Д

неверно

верно

неверно

 

Е

неверно

неверно

неверно

64. Мицелла иоиостабилизированного "'ОШI имеет заряд, одиои­ менный по знаку с зарядом противоиона, ПОТОМУ что противоио­ ны диффузионного слоя не полнocrью компенсируют заряд поверх­

ностн.

65. При днспергнрованнн в ЖНДICОЙ поверхнocrи происходит ад­

сорбцнонное ПОН&I,кение прочностн, потому что деформаЦl1S и

разрушеиие облегчаются в следствии yвeJIичения свободной поверх­

ностной энергии.

66. Лиофобные дисперсные системы принципиanьно термодина­ мически неравновесиы, потому что дnя придания лиофобным дис­ персным системам кинemчссlCОЙ устойчивости в систему ВВОДИТ ста­ билизаторы, образуюшие на поверхности частиц эaщиrные спои.

67. Химические методы создания метастаБНJJЬНОСТИ IIСХОДНОЙ си­ стемы, ПРИВОдllщие It получению комондных систем, чре3вычаltи(')

разиообразны, потому что любu ~, приводяща. к обра'Ц)­

взнию нерастворнмоro, а 8 cnyчае конденсированных фаз If пeтyqt'п,

продукта, может испольэоватьса ДrUI получения КОЛЛОИдНЫХ систем.

-61-

68. При диспергировании в жидкой среде происходит адсорбци­

онное пони_ение прочности, потому ЧТО увеличивается работа,

идущая на образованllе новой поверхности.

69. Золь иодида серебра получают пептиззцией осадка, образо­

аавшеСОСII в результате обратимой коагуляции дисперсных cl,cтeM,

потому что прн пептизаци., осадка двойной электрический слоii

увеличивает свою толщнну и вызывает коллоидное растворение осад­

ка.

70. При получении коллоидных систем методом пептизацнн ра­ бота гетерогенного зародыlеобразованняя всегда меньше работы го­

могенного зародыwеобразования, потому что наличие поверхно­

стей, избирательно смачиваемых новой фазой в присутствии старой,

прнводит к сильному уменьшению работы образования кристалличе­

ClCИХ зародышей.

71. Одним из методов получения коллоидных систем является фи-

3.1)(0- химическое дробление осадков (пептизация), потому что

диспергирование - это измельчение твердых или жидких тел в .tнepт­

иой среде, ПРИВОДJIщее к увеличению дисперсности вещества.

72. При дисперrиpoвании в жидкоii среде происходит адсоpvци­ онное понижение прочности, потому ЧТО возрастает расклини-

88Ющее дав"ение.

73. З6ль каннфоли получают методом замены растворителя, ПО­ тому что прн физической конденсацн", происходит расщепление на

первичные частицы под действнем виешней среды агрегатов, вознИ)(­ тнх в результате обратимой коагуляциИ дисперсных систем.

74. При дисперrиpoвании В ЖJlД)(ой cpQe происходит адсорбци­ онное повышение проЧIIОСТН, потому ЧТО уменьшается работа

ДltCllерrиpoваННI, идущая на образование иовой поверхностн.

75. Прочность IВЛЯeIOl поверхиостным свойcrвом, потому что на иа прочность можно влиnь, измеиu поверхностное навже­

ние.

76. Лиофобные дисперсные системы можно получать путем са­

мопроизвольного диспергированИl, потому что образование nио­

фобных тepl. Jдинамически устойчнвых систем, как и истинных рас­

творов, происходит самопроизвольно, сопровождаясь уменьшением

свободной энергин.

Соседние файлы в предмете Коллоидная химия