- •А.С. Бадаев а.В. Чернышов
- •1. Микроэллектронные структуры и их строение
- •1.1. Виды химической связи
- •1.2. Основные свойства материалов, определяемые особенностями химических связей.
- •1.3.1. Кристаллические тела
- •1.3.3. Структура аморфных твердых тел
- •1.3.4. Структура тонких металлических пленок
- •1.3.5. Перспективные углеродные структуры
- •1.3.6. Проблема атомных радиусов
- •2. Механические свойства твердых тел
- •2.1. Деформация и механическое напряжение. Закон Гука.
- •2.2. Пластическая деформация кристаллов
- •2.3. Прочность и разрушение твердых тел
- •3. Тепловые свойства твердых тел
- •3.1. Нормальные колебания кристаллической решетки
- •3.1.1. Колебания в одномерной решетке
- •3.1.2. Колебания трехмерной кристаллической решетки
- •3.1.3. Энергия нормальных колебаний. Фононы
- •3.2. Теплоемкость твердого тела
- •3.3. Тепловое расширение твердых тел
- •3.4. Теплопроводность твердых тел
- •3.5. Диффузия в твердых телах
- •4. Основы зонной теории твердых тел
- •4.1. Волновые свойства электронов
- •4.2. Энергетические уровни электрона в изолированном атоме
- •4.3. Энергетический спектр электронов в кристалле
- •4.4. Эффективная масса электрона
- •4.5. Заполнение зон электронами у металлов, диэлектриков и полупроводников
- •5. Физические свойства диэлектриков
- •5.1. Диэлектрическая проницаемость и виды поляризации диэлектриков
- •5.2. Электропроводность диэлектриков
- •5.3. Диэлектрические потери
- •5.4. Электрическая прочность
- •5.5. Сегнетоэлектрики
- •5.6. Пьезоэлектрики
- •5.7. Электреты
- •6. Магнитные свойства твердых тел
- •6.1. Классификация твердых тел по магнитным свойствам
- •6.2. Природа ферромагнитизма
- •6.3. Процессы при намагничивании ферромагнетиков
- •6.4. Поведение ферромагнетиков в переменных магнитных полях
- •6.5. Ферриты
- •6.6. Тонкие магнитные пленки
- •6.7. Магнитный резонанс
- •Часть I
- •394026 Воронеж, Московский просп., 14
4.4. Эффективная масса электрона
Согласно формуле де Бройля, импульс свободного электрона связан с его волновым вектором k следующим соотношением:
,
а скорость поступательного движения электрона
(4.38)
Дифференцируя (4.25) по k, получим
.
Подставляя это в (4.23) и (4.38), найдем:
,. (4.39)
В таком виде выражения для импульса и скорости поступательного движения оказывают справедливыми не только для свободных электронов, но и для электронов, движущихся в периодическом поле кристалла. Импульс р в этом случае называют квазиимпульсом электрона.
Создадим в кристалле внешнее поле Е. Это поле действует на электрон с силой
,
сообщая ему ускорение
.
За время dt сила F производит работу
.
Эта работа идет на приращение энергии электрона dE:.
Отсюда находим . Подставляя это в правую часть выражения дляа, получим
. (4.40)
Выражение (4.40) является аналогом второго закона Ньютона, вследствие чего величина
, (4.41)
имеющая размерность массы получила название эффективной массы электрона.
Эффективная масса не является массой в обычном понимании. Это понятие удобно для описания движения электрона в внешнем поле так, как описывается движение свободного электрона. Эффективная масса может быть как положительной, так и отрицательной: по абсолютному значению она может быть как во много раз больше, так и во много раз меньше массы m покоя электрона. Кроме того meэф в кристалле может изменяться с изменением его волнового вектора (рис.4.9).
Рис. 4.9. Зависимость энергии (а), скорости (б) и эффективной массы (в) электрона от волнового вектора
Для электронов, располагающихся у дна зоны, энергия , вторая производная от нее по k равна . Подставляя это в (4.41), получим следующее выражение для эффективной массы электрона:
. (4.42)
Так как АД>0, то mn>0. Таким образом, электроны, располагающиеся у дна энергетической зоны, обладают положительной эффективной массой. Поэтому во внешнем поле, созданном в кристалле, они ведут себя нормально, ускоряясь в направлении действующей силы. Отличие таких электронов от свободных состоит в том, что их эффективная масса может значительно отличаться от массы покоя. Из (4.42) видно, что чем больше АД, т. е. чем шире разрешенная зона, тем меньше эффективная масса электронов, располагающихся у дна этой зоны.
Для электронов, находящихся у вершины зоны, энергия , вторая производная от Е по k равна d2E/dk2=-2Ава2 и эффективная масса
. (4.43)
Она является величиной отрицательной. Такие электроны ведут себя во внешнем поле, созданном в кристалле, аномально: они ускоряются в направлении, противоположном действию внешней силы. Абсолютная величина , и в этом случае определяется шириной энергетической зоны: чем шире зона, тем меньше .
Выясним теперь, чем обусловлено столь «странное» поведение электрона в кристалле.
Для свободного электрона вся работа А внешней силы F идет на увеличение кинетической энергии поступательного движения:
.
Дифференцируя Eк дважды по k, получим d2Eк/dk2 =ћ2/m. Подставляя это в формулу (4.41), найдем тэф = т. Таким образом, эффективная масса свободного электрона равна просто массе покоя. Иначе может обстоять дело с электроном в кристалле, где он обладает не только кинетической, но и. потенциальной энергией. При движении его под действием внешней силы F часть работы этой силы может перейти в кинетическую энергию , другая часть — в потенциальную энергию U, так что А = +U. В этом случае кинетическая энергия, а следовательно, и скорость движения электрона будут возрастать медленнее, чем у свободного электрона. Электрон становится как бы тяжелее, двигаясь под действием силы F с меньшим ускорением, чем свободный электрон.
Если вся работа внешней силы будет переходить в потенциальную энергию U электрона, т. е. А =U, то приращения кинетической энергии и скорости движения электрона происходить не будет – электрон будет вести себя как частица с бесконечно большой эффективной массой.
Наконец, если при движении электрона в потенциальную энергию будет проходить не только вся работа внешней силы F, но и часть кинетической энергии , имевшейся у электрона, так что U=А+, то по мере движения скорость такого электрона в кристалле будет уменьшаться, он будет замедляться, ведя себя как частица, обладающая отрицательной эффективной массой. Именно так и ведут себя электроны, располагающиеся у вершины энергетической зоны.
Однако в кристалле может реализоваться и случай, когда при движении электрона под действием внешней силы F в кинетическую энергию переходит не только вся работа внешней силы, но и часть потенциальной энергии электрона U', так что =А + U. У такого электрона и скорость будут расти быстрее, чем у свободного электрона. Он становится как бы легче свободного электрона, обладая эффективной массой тэф < т.
У дна зоны (вблизи k = 0), пока с увеличением k энергия Е(k) электрона растет примерно пропорционально k2, скорость поступательного движения электрона увеличивается пропорционально k, ускорение движения положительно и эффективная масса сохраняет постоянное положительное значение тn. В точке А перегиба кривой Е(k) вторая производная d2E/dk2= 0, а первая производная dE/dk достигает максимума. Поэтому при приближении к этой точке , а. За точкой перегиба dE/dk начинает убывать, поэтому убывает и ; ускорение становится, таким образом, отрицательным, что при сохранившемся направлении действия внешней силы F эквивалентно изменению знака эффективной массы с положительного на отрицательный. При этом может измениться и абсолютная величина , еслименяется кривизна кривой Е(k), пропорциональная d2E/dk2. У вершины зоны Е(k) снова становится квадратичной функцией k и эффективная масса достигает постоянного отрицательного значения