- •Институт информационных технологий
- •Контрольная работа №3
- •I. Выберите правильный вариант видовременной формы глагола, перепишите предложения и переведите их на русский язык, указав, в какой видовременной форме находится выбранный вами глагол.
- •II. Прочитайте предложения, перепишите их, выделив указательные местоимения. Переведите письменно предложения на русский язык.
- •III. Прочитайте предложения, перепишите их, обращая внимание на выделенное местоимение it, переведите предложения на русский язык.
- •IV. Прочитайте предложения, перепишите их, обращая внимание на выделенные слова ones, one, переведите предложения на русский язык.
- •V. Перепишите предложения, употребив глаголы в правильной видовременной форме, переведите предложения на русский язык. Обратите внимание на функции глаголов to have, to do, to be в предложениях.
- •VI. Перепишите предложения, подчеркните инфинитив. Переведите предложения на русский язык.
- •VII. Перефразируйте следующие предложения, употребив субъектный инфинитивный оборот. Напишите их и переведите на русский язык.
- •Работа над текстом
- •I. Прочитайте текст, используя пояснения к тексту. Выполните упражнения к тексту. Doping and Dopants
- •Таким образом, кристалл кремния, легируемый бором создает полупроводник р-типа, а он же, легируемый фосфором, создает материал n-типа.
- •Следует отметить, что даже высокие уровни легирования предполагают низкие концентрации примесей по отношению к базовому полупроводнику.
-
Therefore, a silicon crystal chopped with boron creates a p-type semiconductor, whereas one doped with phosphorus result in n-type material.
-
Таким образом, кристалл кремния, легируемый бором создает р-тип полупроводника, в то время, как он, легируемый фосфором, результирует в n-тип материала.
-
Таким образом, в результате легирования бором кристалла кремния создается полупроводник р-типа, а он же, легируемый фосфором, создает материал n-типа.
-
Таким образом, кристалл кремния, легируемый бором создает полупроводник р-типа, а он же, легируемый фосфором, создает материал n-типа.
-
-
It is useful to note that even degenerate levels of doping imply low concentrations of impurities with respect to the base semiconductor.
-
Следует отметить, что даже высокие степени легирования подразумевают низкие концентрации примесей по отношению к основному полупроводнику.
-
Следует отметить, что даже высокие степени легирования предполагали низкие концентрации примесей по отношению к основному полупроводнику.
-
Следует отметить, что даже высокие уровни легирования предполагают низкие концентрации примесей по отношению к базовому полупроводнику.
-
V. Переведите письменно абзацы 1 – 3 текста.
-
Свойство полупроводников, которое делает их самыми полезными для построения электронных устройств, такое, что их проводимость может быть легко изменена, вводя примеси в их кристаллическую решетку. Процесс добавления контролируемых примесей в полупроводник известен как легирование. Количество примеси, или легирующей примеси, добавленной к собственному (чистому) полупроводнику, изменяет его уровень проводимости. Легированные полупроводники часто называют внешними.
2. Материалы, выбранные в качестве подходящих легирующих примесей, зависят от атомных свойств легирующей примеси и материала, которого нужно легировать. В общем, легирующие примеси, которые производят желаемые контролируемые изменения, классифицируются как акцепторы электронов или доноров. Донорный атом, который активирует (то есть становится включен в кристаллической решетке), жертвует слабо связанные валентные электроны в материал, создавая избыток отрицательных носителей заряда. Полупроводники, легированные донорными примесями, называют N-типа, а легированные акцепторными примесями называют р-типа.
3. Концентрация легирующей примеси, введенная собственному полупроводнику, определяет его концентрацию и косвенно влияет на многие его электрические свойства. Наиболее важным фактором, который непосредственно влияет на легирование, является концентрация носителей материала. В собственном полупроводнике при тепловом равновесии концентрации электронов и дырок эквивалентны. Внутренняя концентрация собственного проводника варьируется от материалов и зависит от температуры. Внутренняя концентрация кремния, например, составляет примерно 1 × 1010 см-3 при 300 градусах Кельвина (комнатной температуры).