- •Полупроводники с электронной электропроводностью
- •Дрейфовый ток
- •Полупроводники с дырочной электропроводностью
- •Диффузионный ток
- •Электронно-дырочный переход в состоянии равновесия
- •Прямое включение p-n перехода
- •Обратное включение р-п-перехода
- •Теоретическая вольтамперная характеристика p-n перехода
- •Реальная вольтамперная характеристика p-n перехода
- •Емкости p-n перехода
- •Гетеропереходы
- •Контакт между полупроводниками одного типа электропроводности
- •Контакт металла с полупроводником
- •Омические контакты
- •Явления на поверхности полупроводника
- •Выпрямительные диоды
- •Стабилитроны и стабисторы
- •Универсальные и импульсные диоды
- •Варикапы
- •Биполярные транзисторы
- •Статические характеристики биполярных транзисторов
- •Дифференциальные параметры биполярного транзистора
- •Линейная (малосигнальная) модель биполярного транзистора
- •Частотные свойства биполярного транзистора
- •Способы улучшения частотных свойств биполярных транзисторов
- •Работа транзистора в усилительном режиме
- •Переходные процессы при переключении транзистора
- •Полевой транзистор с p-n переходом.
- •Полевой транзистор с изолированным затвором (мдп-транзистор).
Способы улучшения частотных свойств биполярных транзисторов
Рассмотренное выше позволяет сделать следующие выводы. Для улучшения частотных свойств (повышение предельной частоты ) рекомендуется следующее.
1. Уменьшать время пролета инжектированных носителей в базовой области, т.е.а) уменьшать ширину базовой области WБ; б) создавать n-р-n транзисторы, так как подвижность электронов выше, чем у дырок, примерно в 2 раза; в) использовать германиевые БТ, так как в германии подвижность носителей выше. Еще большие возможности открывает использование арсенида галлия.
-
Создавать ускоряющее поле в базовой области для инжектированных из эмиттера носителей. Последнее возникает при неравномерном распределении примесей в базе по направлению от эмиттера к коллектору (рисунок 3.12). Концентрацию около эмиттера делают примерно в 100 раз больше, чем около коллектора.
Рисунок 3.12 К образованию электрического поля в базе дрейфого БТ.
Появление поля объясняется просто. Так как концентрация основных носителей в любой точке базы (дырок n-р-n транзистора) приблизительно равна концентрации примесей в этой точке, то распределение примесей Na(х) одновременно будет и распределением дырок p(х). Под влиянием градиента концентрации дырок будет происходить их диффузионное движение к коллектору, приводящее к нарушению условия электрической нейтральности: около эмиттера будет избыток отрицательного заряда ионов акцепторов, а около коллектора - избыток положительного заряда дырок, которые приходят к коллекторному переходу, но не проходят через него. Нарушение электрической нейтральности приводит к появлению внутреннего электрического поля в базовой области (минус у эмиттера, плюс у коллектора). Появляющееся поле, в свою очередь, вызовет встречное дрейфовое движение дырок. Нарастание поля и дрейфового потока будет происходить до того момента, когда дрейфовый и диффузионный токи дырок уравняются. Легко видеть, что установившееся (равновесное) значение поля будет ускоряющим для электронов, которые входят в рабочем режиме из эмиттера в базу и будут уменьшать их время пролета, т.е. повышать предельную частоту БТ. Биполярные транзисторы с неравномерным распределением примесей в базе, приводящим к появлению ускоряющего поля, называются дрейфовыми, а обычные - бездрейфовыми. Практически все современные высокочастотные и сверхвысокочастотные БТ являются дрейфовыми. Уменьшение времени пролета в базовой области n-р-n транзистора при экспоненциальном законе убывания концентрации акцепторов от Nа(0) до Nа(WБ) учитывается коэффициентом неоднородности базы: =0,5lnNА(0)/NА(WБ) Поэтому [см. (5.93)] можно написать
Для бездрейфовых транзисторов=0 , а типичные значения для дрейфовых транзисторов .
3. Уменьшать барьерные емкости эмиттерного и коллекторного переходов путем уменьшения сечения областей транзистора и увеличения ширины переходов (выбором концентрации примесей и рабочего напряжения).
4. Уменьшать омическое сопротивление областей базы rББ.
5. Уменьшать время пролета носителей в области коллекторного перехода.
Следует отметить, что ряд требований несовместимы и необходимо при создании транзисторов применять компромиссные решения.