- •Теория и расчет полупроводниковых приборов и интегральных схем Раздел: Полевые транзисторы
- •Часть II
- •Аннотация
- •I. Цель работы
- •II. Введение
- •Входная емкость определяется как емкость затвор-исток
- •III. Описание измерительной установки
- •IV. Задание
- •V. Порядок выполнения работы и указания по технике безопасности.
- •VI. Литература
- •VII. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 8
- •I. Цель работы
- •II. Введение
- •Таким образом, с помощью анализа реальных вольт-фарадных характеристик мдп-структур и сравнения их с идеальными можно определить:
- •III. Методика измерения и измерительная установка
- •IV. Задание
- •V. Порядок выполнения работы и указания по технике безопасности
- •VI. Обработка результатов эксперимента
- •VII. Содержание отчета
- •Основные параметры мдп-структуры
- •Экспериментальные значения емкости мдп-структуры
- •VIII. Контрольные вопросы
- •II. Введение
- •III. Методика измерения и измерительная установка
- •IV. Задание
- •V. Порядок выполнения работы и указания по технике безопасности
- •VI. Обработка результатов эксперимента
- •VII. Содержание отчета
- •VII. Контрольные вопросы
- •I. Цель работы
- •II. Введение Физические ограничения предельной частоты полевого транзистора
- •III. Методика измерения и измерительная установка
- •IV. Задание
- •V. Порядок выполнения работы и указания по технике безопасности
- •VI. Обработка результатов эксперимента
- •VII. Содержание отчета
- •VIII. Контрольные вопросы
- •Литература
- •Основные параметры мдп-транзисторов Приложение 1
- •Содержание
- •Часть II
Таким образом, с помощью анализа реальных вольт-фарадных характеристик мдп-структур и сравнения их с идеальными можно определить:
а) Тип проводимости полупроводника, на котором нанесен слой окисла и изготовлена МДП-структура.
б) Диэлектрическую проницаемость окисла по известной площади металлического электрода МДП-структуры и известной толщине диэлектрика.
в) Концентрацию легирующей примеси в полупроводнике.
г) Эффективную концентрацию поверхностных состояний на границе раздела между диэлектриком и полупроводником.
д) Энергетический спектр поверхностных состояний на границе раздела.
III. Методика измерения и измерительная установка
Существуют различные методы измерения вольт-фарадных характеристик МДП-структур. Наиболее простой метод - измерение на малом высокочастотном синусоидальном тестовом сигнале. В качестве измерителя емкости применяются мостовые или резонансные измерители. В качестве измерителя в данной работе используется мост для измерения полной проводимости Л2-7. С помощью этого измерителя можно разделить активную и емкостную составляющие проводимости МДП-структуры. В приборе Л2-7 используются мостовые схемы измерения, когда в одно плечо моста включается измеряемая емкость, параллельно емкости и проводимости для установки начального баланса. Емкость и сопротивление устанавливают начальный баланс со вторым плечом моста, в который включены переменное сопротивление и емкость.
В диагонали моста включен индикатор, служащий для регистрации баланса. После установления начального баланса включается измеряемая емкость, происходит нарушение баланса, который вновь устанавливается переменное емкостью и сопротивлением. Измерения проводятся на частоте тестового сигнала, который вместе с постоянным смещением подается от генератора ГКЗ-40.
Емкость МДП-структуры можно измерять методом емкостно-омического делителя и подавать смещение от генератора пилообразных напряжений. Схема такой установки приведена на рис. 5.
Токосъемное сопротивление в RС - делителе выбирается много меньше полного сопротивления исследуемой МДП-структуры. Если считать, что активная проводимость МДП-структуры много меньше реактивной, то напряжение сигнала, поданного на усилитель:
UВХ = UГС rМ С,
UГС - напряжение тестового сигнала;
- угловая частота подаваемого тестового сигнала.
Таким образом, сигнал, подающийся на вертикальный вход регистрирующего прибора (осциллографа или самописца) пропорционален измеряемой емкости.
Тестовый сигнал подается от высокочастотного генератора с амплитудой 10-25 мВ и частотой 1 МГц.
Источник смещения служит для подачи смещения на испытуемую структуру и одновременно на горизонтальный вход регистрирующего прибора. Напряжение подается через резистор Rб, служащий для предотвращения попадания переменного напряжения на вход источника. Конденсатор Сб служит для предотвращения попадания постоянного сигнала на вход усилительного каскада. Полезный сигнал, пропорциональный измеряемой емкости усиливается, детектируется и через схему установки нуля подается на вертикальный вход самописца.
Высокочастотный метод определения вольт-фарадных характеристик МДП-структур можно применять только для исследования режима обеднения или слабого обогащения. Режим инверсии не может быть реализован, так как неосновные носители не успевают следовать за частотой тестового сигнала. Если уменьшить частоту тестового сигнала ниже критической, то поверхностные состояния под этим воздействием успевают перезаряжаться, а это приводит к увеличению емкости всей МДП-структуры. При таких частотах МДП-структура находится в термодинамическом равновесии при изменении напряжения смещения и тестового сигнала. Этот метод называется квазистатическим методом. Принципиальная схема установки показана на рис.6. Напряжение треугольной формы подается с генератора периодических колебаний (например, Г6-15) низкой частоты (10-3 Гц 10-1 Гц) на исследуемую МДП-структуру и одновременно на вход «Х» двухкоординатного самописца. На вход «Y» этого же самописца подается сигнал от электрометра ВК-2-16. Скорость изменения сигнала от генератора настолько мала, что МДП-структура все время находится при условии теплового равновесия. Электрометром BK-2-16 измеряется ток смещения через емкость МДП-структуры, пропорциональной емкости при условии, что остается постоянной. Поданные на разные входы «Х» и «Y» двухкоординатного самописца сигналы обеспечивают запись квазистатической вольт-фарадной характеристики.
Условие, которое должно соблюдаться при измерении квазистатических характеристик заключается в том, что ток смещения через окисел должен быть меньше, чем ток генерации неосновных носителей при образовании инверсного слоя .
Ток генератора определяется шириной области пространственного заряда и временем жизни носителей, поэтому ток генерации может быть рассчитан. Исходя из его величины и емкости окисла, определяется скорость развертки самописца по оси Х.