- •Лазерная техника Содержание
- •1. Газовые лазеры (гл)
- •Классификация гл
- •1.2. Некоторые сведения из физики газового разряда
- •1.2.1. Понятие плазмы газового разряда
- •1.2.2. Основные элементарные процессы в плазме гр
- •1.2.3. Понятие устойчивости гр
- •1.2.4. Описание гр с помощью вольтамперной характеристики (вах)
- •1.2.5. Несамостоятельный гр и его применение в гл
- •1.2.6. Самостоятельный гр и его применение в гл
- •1.2.7. Особенности конструкции гл с самостоятельным гр
- •1.2.8. Использование переменных полей для возбуждения гл
- •1.2.9. Импульсный гр и его применение в гл
- •1.3.1. Схема энергетических уровней молекулы , участвующих в процессе лазерной генерации
- •1.3.2. Создание инверсии на лазерных переходах
- •1.3.3. Формирование частотного спектра лазерного излучения
- •1.3.4. Зависимость мощности генерации со -лазера от температуры активной среды
- •1.3.5. Диффузионное охлаждение рабочей смеси
- •1.3.6. Многолучевые системы на базе диффузионного лазера
- •1.3.7. Конвективное охлаждение рабочей смеси
- •1.3.8. Импульсные -лазеры
- •1.3.9. Газодинамические -лазеры
- •1.5. Химические лазеры
- •1.5.1. Основные требования, необходимые для прямого преобразования химической энергии в световую
- •1.6. Атомарные лазеры (Не-Ne-лазер)
- •1.7. Ионные лазеры (Ar-лазер)
- •1.8. Лазеры на самоограниченных переходах
- •1.9. Эксимерные лазеры
- •2.Твердотельные лазеры с оптической накачкой
- •2.1. Общие характеристики и особенности генерации твердотельных лазеров с оптической накачкой
- •2.2 Рубиновый лазер
- •2.3. Лазеры на стекле с неодимом
- •2.4. Лазеры на гранате с неодимом (иаг-лазеры)
- •3. Полупроводниковые лазеры
- •3.1. Вынужденное излучение в полупроводниках
- •3.2. Создание инверсии в полупроводниках
- •3.3. Лазеры на гомоструктурах
- •3.4. Лазеры на гетероструктурах
- •4. Лазеры на растворах органических красителей
- •4.1. Лазерные красители
- •4.1.1. Общие сведения
- •4.1.2. Поглощение света лазерными красителями и их флуоресценция
- •4.1.3. Пути дезактивации возбужденных молекул красителя
- •4.1.4. Распространенные красители
- •4.2. Условие генерации
- •4.2.1. Режим многократного прохождения излучения в резонаторе
- •4.2.2. Режим сверхизлучения
- •4.3. Системы накачки
- •4.3.1. Поперечный способ накачки
- •4.3.2 Продольный способ накачки
- •4.4. Дисперсионные резонаторы лазеров на красителях
- •4.4.1. Резонаторы с дифракционной решеткой
- •4.4.2. Резонаторы с оптическими призмами
- •4.4.3. Резонаторы с интерферометром Фабри-Перо
- •4.4.4. Лазеры на красителях с распределенной обратной связью
3.2. Создание инверсии в полупроводниках
Рассмотрим собственный полупроводник. В условиях термодинамического равновесие (Т = О К) валентная зона полупроводника полностью заполнена электронами (концентрация дырок равна нулю), а зона проводимости пуста. Предположим, что на полупроводник падает поток квантов электромагнитного излучения, энергия которых превышает ширину запрещенной зоны hv > E Падающее излучение поглощается в веществе, так как энергия квантов здесь достаточна для перевода электронов из состояний зоны проводимости в состояния валентной зоны. Другими словами, в результате поглощения излучения в полупроводнике образуются электронно-дырочные пары. Одновременно с процессом образования электронно-дырочных пар протекает процесс их рекомбинации. Результатом акта рекомбинации электронно-дырочкой пары может быть образование кванта электромагнитною излучения (излучательная ре комбинация). Оптические переходы, сопровождающиеся поглощением и излучением электромагнитной энергии в полупроводнике, схематически изображены на рис. 50, из которого видно, что энергия излученного кванта меньше по сравнению с энергией кванта света, генерирующего электронно-дырочную пару (правило Стокса-Роммеля). Разница энергий поглощаемого и излучаемого квантов света преобразуется в энергию колебательного движения атомов кристаллической решетки.
В условиях термодинамического равновесия вероятность перехода с поглощением фотона (валентная зона - зона проводимости) равна вероятности излучательного перехода (зона проводимости - валентная зона).
Предположим, что в результате какого-то внешнего воздействия полупроводник выведен из состояния термодинамического равновесия, причем в нем созданы одновременно высокие концентрации электронов в зоне проводимости и дырок в валентной зоне. Электроны переходят в состояние с некоторой энергией F вблизи дна зоны проводимости, аналогично дырки переходят в состояния до энергии F вблизи потолка валентной зоны. Рассматриваемая ситуация иллюстрируется диаграммами, приведенными на рис. 51. Так как все состояния вблизи дна зоны проводимости заполнены электронами, а все состояния с энергиями вблизи потолка валентной зоны заполнены дырками, то переходы с поглощением фотонов, сопровождающиеся увеличением энергии электронов, становятся невозможными. Единственно возможными переходами электронов в полупроводнике в рассматриваемых условиях являются переходы зона проводимости - валентная зона, сопровождающиеся рекомбинацией электронно-дырочной пары и испусканием кванта электромагнитного излучения. В полупроводнике создаются условия, при которых происходит усиление электромагнитной волны. Иными словами, коэффициент поглощения полупроводника становится отрицательным, а рассматриваемая ситуация отвечает состоянию с инверсной плотностью населенности.
Поток квантов излучения, энергия которых находится в пределах от h до h , распространяется через возбужденный полупроводник беспрепятственно. Одновременно с этим начальное поле квантов излучения приводит к росту скорости излучательной рекомбинации, что вызывает увеличение плотности фотонов, которые, в свою очередь, индуцируют дальнейшую рекомбинацию. Образующиеся в процессе вынужденных переходов фотоны обладают теми же характеристиками (энергией, фазой, поляризацией и направлением распространения), что и кванты исходного электромагнитного излучения. Рассматриваемые эффекты оптического усиления, естественно, могут быть использованы для реализации лазерного эффекта в полупроводниках. Для этой цели, как известно, необходимо выполнить два условия: во-первых, усиление за счет индуцированного излучения должно превышать потери и, во-вторых, необходимо ввести положительную обратную связь.
Рассмотрим более детально концепцию инверсной плотности населенности в полупроводниках. Предположим, что под действием кванта электромагнитного излучения. энергия которого превышает ширину запрещенной зоны (hv > Е ), в полупроводнике реализуется оптический переход с образованием электронно-дырочной пары (рис. 50). Электрон в зоне проводимости имеет энергию, которая на величину , превышает энергию дна зоны проводимости. Аналогично дырки в валентной зоне находятся в состоянии с энергией, меньшей энергии потолка валентной зоны на величину . Эти избыточные по отношению к краям зоны энергии электрона и дырки и представляют собой кинетическую энергию.
Если полупроводник освещен потоком квантов электромагнитного излучения с энергией, превышающей ширину запрещенной зоны (h v> Е ), то в нем образуется некоторая избьггочная концентрация электронно-дырочных пар. Таким образом, генерируемые светом электронно-дырочные пары являются неравновесными. После отключения внешней освещенности полупроводник стремится вернуться к равновесному состоянию. При этом релаксационные процессы, сопровождающиеся аннигиляцией электронно-дырочных пар. протекают в два этапа. На первом этапе скорости электронов и дырок уменьшаются в результате соударений с ионами (или атомами), находящимися в узлах кристаллической решетки. В результате кинетическая энергия электрона и дырки' уменьшается ( и ) и на энергетической диаграмме электрон смещается ко дну зоны проводимости, а дырка - К потолку валентной зоны. Избыточная кинетическая энергия и , при этом переходит в энергию колебательного движения атомов кристаллической решетки. Схематически этот процесс изображен волнистыми линиями на энергетической зонной диаграмме (рис. 50)
Рис. 51. Схема процесса в полупроводнике с инверсной плотностью населенности уровня
Процесс замедления характеризуется некоторой постоянной времени . Согласно теоретическим оценкам постоянная времени для процесса замедления в полупроводниках составляет = 10 с. Второй этап состоит собственно в излучательной рекомбинации электронно-дырочной пары, разделенной энергией h v = Е . в результате которой электронно- дырочная пара аннигилирует с образованием кванта электромагнитного излучения. Этот переход показан сплошной линией на рис. 50 и характеризуется постоянной времени .
Для реализации процесса излучательной рекомбинации необходимо выполнить два условия. Во-первых, электрон и дырка должны локализоваться в одной и той же точке координатного пространства. Во-вторых, электрон и дырка должны иметь одинаковые по значению и противоположно направленные скорости.
Иными словами, электрон и дырка должны быть локализованы в одной и той же точке k- пространства. Так как импульс образующегося в результате рекомбинации электронно- дырочной пары фотона значительно меньше по сравнению с квазиимпульсами электрона и дырки, то для выполнения закона сохранения квазиимпульса требуется обеспечить равенство квазиимпульсов электрона и дырки, участвующих в акте излучательной рекомбинации.
Оптическим переходам с сохранением квазиимпульса соответствуют вертикальные в k- пространстве (прямые) переходы. Сохранение квазиимпульса в процессе излучательного перехода может рассматриваться как квантовомеханическое правило отбора (в том случае, когда в акте излучательной рекомбинации не принимают участие третьи частицы, например, фононы или атомы примеси). Невертикальные в й-пространстве (непрямые) переходы имеют значительно меньшую вероятность по сравнению с прямыми переходами, так как в этом случае требуется сбалансировать некоторый разностный квазиимпульс k (рис. 52). Так как импульс, образующийся в акте излучательной рекомбинации фотона, мал, то только его участия в акте излучательной рекомбинации недостаточно для выполнения этой балансировки. Поэтому невертикальные в k-пространстве переходы идут с участием дополнительных частиц, обеспечивающих необходимое значение k.
Рис. 52. Излучательная рекомбинация в полупроводниках с прямой (а) и непрямой (б) структурой зон
Так как одновременная локализация электрона и дырки в одной и той же точке координатного и k-пространства имеет сравнительно малую вероятность, то между временами релаксации и выполняется соотношение << . Иначе, после создания неравновесных электронно-дырочных пар электроны в зоне проводимости и дырки в валентной зоне сравнительно быстро замедляются за счет соударений с ионами кристаллической решетки. В результате между электронной подсистемой и кристаллической решеткой, а также дырочной подсистемой и кристаллической решеткой устанавливается в известном смысле как бы равновесное состояние. Для характеристики этих равновесных подсистем можно воспользоваться статистикой Ферми-Дирака, введя энергию Ферми отдельно для электронов в зоне проводимости F и дырок в валентной зоне F . Энергия F , (или F ) соответствует максимально возможной энергии, которую могут иметь в квазинеравновесном состоянии электроны в зоне проводимости (или дырки в валентной зоне) с вероятностью, равной 0,5. Функции распределения для квазинеравновесных электронной и дырочной подсистем имеют вид:
(3.4)
Квазиуровни Ферми отмечены на энергетической диаграмме (рис. 51) как уровни, отвечающие наибольшей возможности энергии электронов в зоне проводимости F и дырок в валентной зоне F .
Рассмотрим функции распределения в квазинеравновесном состоянии для электронов в зоне проводимости и валентной зоне кристалла при различных энергиях возбуждающего света (энергиях накачки). Заполненные электронами состояния в зоне проводимости и в валентной зоне на рис. 53 заштрихованы. Ширина штрихов характеризует вероятность заполнения соответствующих состояний.
Рис. 53. Вероятность заполнения неравновесными носителями заряда энергетических зон в полупроводнике при малом (а) и большом (б) уровнях возбуждения
Энергия накачки такова (рис. 53, а), что создается относительно небольшая концентрация электронно-дырочных пар. В этом случае квазиуровни Ферми для электронов попадают в запрещенные зоны, т. е. F -F < F . Очевидно, что в этом случае вероятность заполнения электроном состояния, соответствующего дну зоны проводимости, меньше 0,5, а вероятность заполнения электроном состояния, отвечающего потолку валентной зоны больше 0,5. Так как состояния в зоне проводимости заполняются электронами с меньшей вероятностью, чем состояния в валентной зоне, то инверсной плотности заселенности в этом случае не возникает.
При большей энергии накачки (рис.53,6) концентрация электронно-дырочных пар может оказаться такой, что квазиуровни F и F окажутся соответственно в зоне проводимости и валентной зоне. При этом состояния вблизи дна зоны проводимости заполнены электронами с большей вероятностью; чем состояния вблизи потолка валентной зоны. Нетрудно заметить, что в этом случае
F -F F и ситуация аналогична изображенной на рис. 51. Так как при условии F -F F плотность заселенности уровней вблизи дна зоны проводимости меньше или равна плотности заселенности состояний вблизи потолка валентной зоны, то указанное условие однозначно определяет факт реализации состояния с инверсной плотностью заселенности в полупроводниках.
Условие возникновения инверсной плотности заселенности в квазиравновесном полупроводнике при F -F F может быть обосновано в рамках строгой теории. Как известно, взаимосвязь между вероятностями поглощения и испускания фотона в единицу времени в процессах, изображенных на диаграмме рис. 51, определяется выражением
где n - вероятность заполнения фотонами данной моды электромагнитных колебаний (число фотонов в моде). В соответствии со статистикой Бозе-Эйнштейна имеем
Известно, что коэффициент поглощения (в состоянии термодинамического равновесия) есть вероятность поглощения фотона на одной единице пути пробега в веществе. Тогда очевидно, что вероятность поглощения фотона в единицу времени будет v , где v - групповая скорость волнового пакета. Так как в рассматриваемой моде содержится n , фотонов, то число фотонов, поглощаемых в единицу времени, может быть вычислено как v n , а число спонтанно излучаемых фотонов в условиях термодинамического равновесия v .
Если рассмотреть излучение и поглощение в пределах всей спектральной линии, ширина которой составляет v, то необходимо учесть, что плотность электромагнитных мод, которые могут взаимодействовать с парой энергетических уровней, равна
где q = n vlс - значения волнового вектора излучения; множитель 2 учитывает две перпендикулярные поляризации, Таким .образом, плотность фотонов, участвующих в переходах, будет Р = и, следовательно, число переходов в единицу времени
составит v Р .
В общем случае в квазинеравновесном состоянии вероятности заполнения уровней определяются функциями Ферми f и f , содержащими характерные параметры Е и E .
Тогда с учетом вышеизложенного число фотонов, спонтанно испускаемых в единицу времени в одной единице объема вещества в пределах всей линии излучения, следует представить как
Аналогично скорость вынужденного излучения будет
а скорость поглощения
Обобщая три последних выражения, можем найти, что суммарный коэффициент поглощения а„определяемый как разность между скоростями поглощения, а также спонтанного и вынужденного излучения, равен
где - коэффициент усиления полупроводника. Используя выражения (3.5)-(3.9), получаем
С учетом выражений (2.2.4) для функций Ферми имеем
где hv=E =E есть энергия фотона ; - расстояние между квазиуровнями Ферми.
Из выражения (3.9) следует, что для получения отрицательного поглощения > 0 необходимо выполнить неравенство f , что возможно лишь при условии
(3.10)
Наряду с рассмотренной здесь оптической накачкой состояние с инверсной плотностью населенности в полупроводниках может создаваться и другими способами. Широко используемыми на практике способами являются: 1) возбуждение за счет инжекции неосновных носителей заряда через р-n-переход; 2) возбуждение электронным лучом; 3) возбуждение в сильном электрическом поле. Во всех этих случаях критерием реализации состояния с инверсной плотностью населенности остается условие (3.10).