КР (1-2) / 1 / Вопросы к контрольной работе No.1_2013

Вопросы к контрольной работе №1(2013).

ЛЕКЦИЯ 1

1. Понятие прекурсора, возможные преимущества, требования к прекурсорам.

2. Основные принципы – стадии подхода к выбору и дизайну прекурсоров – МОС с молекулярным строением.

3. Типы прекурсоров, примеры реакций синтеза наноматериалов.

4. Пути синтеза прекурсоров с заданной – равной летучестью.

5. Методы оценки стерических затруднений и межмолекулярных контактов.

ЛЕКЦИЯ 2

1. Сравнительная оценка экранирующей способности основных типов лигандов.

2. Парообразование бета-дикетонатов металлов. Лантаноиды. Примеры использования для синтеза наноматериалов.

3. Особенности парообразования алкоксидов. Примеры использования для синтеза наноматериалов.

4. Особенности парообразования циклопентадиенильных координационных соединений – прекурсоров. Примеры использования для синтеза наноматериалов.

5. Галогениды, гидриды. Примеры использования для синтеза наноматериалов.

ЛЕКЦИЯ 3

1. Химические транспортные реакции. Принцип метода. Примеры

2. Химические транспортные реакции. Использование установки для транспорта твердого вещества методом потока при градиенте температуры. Преимущества метода.

3. Химические транспортные реакции. Установка с движением газа при конвекции. Примеры реакций.

4. Химические транспортные реакции. Параметры, влияющие на протекание процесса. Примеры реакций.

ЛЕКЦИЯ 4.

1. Общая характеристика метода химического осаждения из газовой фазы (Определение, схема процесса, основные параметры)

2. Стадии CVD процесса. Влияние газовой фазы на протекание процесса.

3. Преимущества метода. Классификация методов CVD.

4. Недостатки метода CVD. Функциональные элементы CVD установок.

5. Область применения метода CVD. СVD реактор для непрерывного синтеза многослойных материалов.

6. Механизмы роста вискеров из газовой фазы. Примеры синтеза вискеров металлов.

7. CVI процесс (Основы метода, область применения и схема установки)

ДОПОЛНИТЕЛЬНАЯ ЛИТЕРАТУРА

1. Применение металлоорганических соединений для получения неорганических покрытий и материалов / Под. ред. Г.А. Разуваева. - М.: Наука, 1986. – 84 с.

2. Шефер Г. Химические транспортные реакции / М.: Издательство «МИР», 1964. -189 с.

3. Yongdong Xu, Xiu-Tian Yan. Chemical Vapour Deposition: An Integrated Engineering Design for Advanced Materials /Springer-Verlag, London, 2010, 342 p.

4. Сыркин В.Г. CVD-метод. Химическая парофазная металлизация / М.: Наука, 2000.-496 с.

5. Киреев В., Столяров А. Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы. - М.: Техносфера, 2006. - 192 с.