Шпора(дополненная)
.pdf7.Эффект оттеснения тока эмиттера на край эмиттера.
Отклонение по току от простой модели Эберса-Молла связано с эффектом оттеснения тока эмиттера на край эмиттера. Проанализируем влияние на токораспределение в БТ, на примере транзистора с кольцевой базой (рис. а).
Ток базы IБ, который протекает от базы к эмиттеру параллельно эмиттерному переходу, представлен на рис.а, силовыми линиями 1 и 2. Эквивалентную схему участка транзистора между выводами эмиттера и базы можно представить суммой последовательных сопротивлений базы RБ и эмиттерного р-n перехода Rjэ (рис. б). Напряжение, равно сумме падений напряжений на отдельных участках сопротивлении базы и на эмиттерном p-n-переходе UБЭ=IБ RБ +IБ Ujэ очевидно, что сопротивление короткого участка базы RБ1 : вывод базы - край эмиттера (силовые линии тока 1) меньше, чем сопротивление длинного участка базы RБ2 : вывод базы – центр эмиттера (силовые линии тока 2). Т.к. UЭБ=IБ RБ1 +IБ Rjэ =IБ RБ2+IБ Rjэ2 , то чем меньше напряжения падает на базе, тем большая его величина приложена к эмиттерному p-n-переходу (край эмиттера). Следовательно, высота потенциального барьера эмиттерного перехода на крае эмиттера будет меньше чем в центре эмиттера. Т.о, ток на крае
|
I |
exp |
qUjэ1 |
1 |
|
|
|
|
|
||||
эмиттера IЭ1 |
|
s |
|
kT |
|
больше чем в |
|
|
|
|
|||
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
qUjэ2 |
|
|
|
центре I Э 2 I s exp |
|
|
1 |
(рис. а). а - |
||
|
kT |
|||||
|
|
|
|
|
|
сечение активной области транзистора, работающего
вактивном нормальном режиме; б - распределение плотностей эмиттерного и коллекторного токов по длине эмиттера;
в- эквивалентная схема участка транзистора между выводами базы и эмиттера.
Jn1 и Jn2 – плотности электронных токов на краю и в центре эмиттера, соответственно.
Высота потенциального барьера уменьшена по отношению к величине барьера центральной части эмиттера, и инжекция у края эмиттера будет сильнее, чем в центре (см. рис. а). Соответствующее этому распределение плотностей эмиттерного и коллекторного тока показано на рис.б. Вытеснение тока эмиттера на край эмиттера усиливается с ростом напряжения смещения. Поэтому затруднен расчет значения сопротивления, которое бы имитировало омическое падение напряжения в базовой области. Для снижения сопротивления базы (для борьбы с вытеснением эмиттерного тока) базовые и эмиттерные контакты делают в виде больших гребенчатых структур: Мощный n-р-n-транзистор с гребенчатой структурой: а – разрез, б – вид сверху на
металлизацию эмиттера и базы.
8.Параметры МОП - транзистора. (Статические параметры; Дифференциальные параметры; Электрофизические параметры (подвижность и механизмы рассеяния носителей в канале).
Статические параметры.
Основным статическим параметром является пороговое напряжение Uпоp, величина которого, связана со скоростью переключения и подпороговым током утечки. Согласно ГОСТу пороговое напряжение — это напряжение, при котором ток стока принимает заданное низкое значение. Под действием приложенных напряжений изменяется лишь заряд электронов в канале, а величины остальных зарядов, влияющих на пороговое напряжение остаются без изменений. Обратное смещение между истоком и подложкой увеличивает заряд ионизированной примеси в подложке (обедненного слоя), что в свою очередь уменьшает поверхностную плотность свободных носителей в канале. Следовательно, при наличии обратного смещения исток-подложка пороговое напряжение n- канальных МОПТ, становится более положительным, р-канальных — более отрицательным. Это относится в равной степени как к транзисторам с индуцированным каналом (транзистор, работающий в режиме обогащения), так и со встроенным каналом (транзистор,
обеднения).
а- график зависимости (Ic)0.5 от Uси для n-канального транзистора, работающего
вобласти насыщения; б - схема измерения.
|
|
+ |
|
|
+2 |
, |
|
, |
|
|
, |
||||
|
|
|
|
|
√ |
||
|
|
|
|
|
Электрофизические параметры
Подвижность носителей в канале определяется, главным образом, тремя механизмами рассеяния: рассеяние на заряженных центрах, рассеяние на фононах, рассеяние на шероховатостях границы
раздела. В объеме кристалла подвижность µ намного больше, чем в канале: 1) канал -
поверхность полупроводника, |
а |
поверхность всегда |
имеет много мест для |
||
рассеивания. 2) в МОП транзисторе сущ. поперечное поле |
|
|
, при увеличении |
||
|
|
напряжения на затворе носители прижимаются ближе к границе раздела, рассеяние от поверхности возрастает и подвижность падает, что приводит к уменьшению выходного тока и скорости переключения транзистора:
= , - коэф. уменьшения поля.
Теоритические механизмы рассеяния, объясняющие уменьшение подвижности носителей заряда в канале: 1) рассеяние на приграничных и объемных фононах 2) кулоновское рассеяние на заряженных центрах 3) рассеяние на неровностях поверхности. Существенное влияние оказывает 1) механизм.
Дифференциальные параметры
-крутизна, является таким же параметром усиления как β: |
S |
dIc |
|
|
Uси const |
|||||||
|
|
|||||||||||
dUзи |
||||||||||||
измеряется в (Ам/В) . |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
, |
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
В линейной области для длинноканальных МОПТ : S |
W |
|
|
С0Uси |
|
|
|
|||||
|
эф |
|
|
|
||||||||
|
|
|
|
L |
|
|
|
|
|
|||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
а в области насыщения: |
S |
W |
эфС0(Uзи Uпор) |
|
|
|
|
|
|
|||
|
|
|
|
|
|
|
||||||
|
L |
|
|
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Из уравнений видно, что крутизна увеличивается при уменьшении длины канала L, порогового напряжения и толщины окисла d (т.к. C0 o / d ) и при увеличении ширины окисла W и напряжения на затворе.
-дифференциальное выходное сопротивление:
,
-проводимость канала, т.е. величина, обратная сопротивлению канала:
g |
к |
|
dIc |
|
U |
зи |
const |
|
|
||||||||
dUси |
||||||||
|
|
|
|
|
|
|
Когда МОПТ работает в линейной (крутой) области выходной ВАХ, его сопротивление должно быть очень малым, а, следовательно, проводимость g как можно большей.
Для линейной области: gк WL эфС0(Uзи Uпор)
Когда прибор работает в пологой области характеристики (в области насыщения), сопротивление транзистора должно быть велико, а проводимость, соответственно, мала из-за того, что в области насыщения тока стока согласно не зависит от Uси, т.е. дифференциальное сопротивление канала Rc .
9. Статические ВАХ биполярного транзистора.
Входные и выходные токи и напряжения биполярного транзистора I1 , I2 , U1 и U2
наиболее удобно связать с помощью следующих выражений:
U1 f I1, U2 ; I2 f I1, U2
где I1 , U1 – входные ток и напряжение; I2 , U2 – выходные ток и напряжение.
Статические характеристики:
– U1 f I1 |
|
|
|
U 2 const |
– входная ВАХ; |
||||
|
|||||||||
|
|
||||||||
– I2 f U2 |
|
I1 const |
– выходная ВАХ; |
||||||
|
|||||||||
|
|
||||||||
– U1 f U2 |
|
I1 const |
– характеристика обратной связи; |
||||||
|
|||||||||
|
|
||||||||
– I2 f U1 |
|
U2 const |
– характеристика передачи тока. |
||||||
|
|||||||||
|
|
В теории транзисторов наиболее часто используются первые две характеристики, и чаще всего входная статическая ВАХ анализируется как I1 f U1 U 2 const .
Схема с ОБ, активный нормальный режим работы.
Исходя из модели Эберса-Молла получим аналитическое выражение
для входной характеристики ВАХ БТ ( |
): |
( |
|
) |
. При уменьшении напряжения на коллекторе (увеличении |
||
обратного смещения) из-за эф.Эрли уменьшается напряжение |
. |
входная характеристика
Величина падения напряжения на прямосмещенном эмиттерном переходе:
|
|
|
kT |
|
I |
Э |
|
|
|
|
kT |
|
I |
Э |
U |
|
(U ) |
|
ln |
|
1 |
|
|
|
|
ln |
|
||
Э |
|
|
|
0 |
|
|
|
|||||||
|
|
q |
|
|
|
|
|
|
q |
|
I ЭS |
|||
|
|
|
I ЭS |
|
|
|
|
|
|
физическая эквивалентная схема. |
r , R r – э.д.с и |
сопротивление входного |
генератора, |
обеспечивающего ток эмиттера |
Если обозначить iЭ |
через “I ”, то iК N , а |
iБ 1 N . |
|
rвх |
|
U вх |
|
iЭ rЭ iБ rБ |
rЭ |
rБ |
|
rЭ . |
I вх |
|
N 1 |
||||||
|
|
|
iЭ |
|
Выходная характеристика (рис.3.16, б) имеет вид характеристики обратносмещенного р-n-перехода. Из модели Эберса-Молла с учетом реальных токов, протекающих в транзисторе, можно записать
IК N I Э IКБ 0 , |
(3.37) |
где I КБ 0 – обратный ток коллекторного перехода, измеренный при "оборванном" эмиттере.
Выходная характеристика.
На выходной характеристике цифрами I, II и III обозначены области насыщения, активной нормальной работы и отсечки. (U*=-0,7)
При увеличении обратного смещения на коллекторе в активном нормальном режиме работы БТ (область II) из-за эффекта Эрли растет коллекторный ток. Величина дифференциального выходного
сопротивления R |
|
|
U K |
. |
KA |
|
|||
|
|
I K |
||
|
|
|
При ↑ Uкб- ↑хdk- ↓Wб-↑ -↑Iк
10 Резкий несимметричный электронно-дырочный переход в состоянии теплового равновесия
Переход, в котором область изменения концентрации примесей значительно меньше ширины ОПЗ, называется резким, а если величина этой области больше или равна ширине ОПЗ, — плавным.Если величина концентрации примеси в одной из областей р- n-перехода значительно превышает концентрацию в соседней, то такой переход называется несимметричным (в отличие от симметричного, у которого Nd = Na). Зависимости характеристик перехода от координаты (риc.Ошибка!
документе отсутствует..3) можно получить, решив уравнение Пуассона : |
d2 |
– |
(x) |
|
|
|
, |
||
dx2 |
|
|||
|
|
0 |
где (x) = q(p – n + Nd – Na).
Для идеализированного p-n перхода. В приближении полного обеднения в ОПЗ
отсутствуют свободные носители |
(x) = q(Nd – |
Na).Для области |
|
– xр ≤ х ≤0 |
|||||||||||||||||||||
(рис.Ошибка! Текст указанного стиля в документе отсутствует..3) запишем: |
d2 1 |
|
|
qNa(x) |
,а для |
||||||||||||||||||||
dx2 |
|
|
0 |
||||||||||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
области 0 ≤ х ≤ xn, |
d2 2 |
– |
qNd(x) |
. Полагая, что при x = – xdp и x = – xdn E = – d /dx = |
|||||||||||||||||||||
dx2 |
|
0 |
|
|
|||||||||||||||||||||
0, находим E maxx 0 |
|
|
qNaxdp |
|
|
|
|
qNdXdn |
|
. |
|
|
|
|
|
|
|
||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||
|
|
|
0 |
|
|
|
|
0 |
= , находим 1 |
qNa |
(x xdp)2 |
||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||||||
Пологая, что при x=– xdр 1 =0 |
|
и, что при x= xdn 2 |
|||||||||||||||||||||||
|
|
||||||||||||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
0 |
|
||
|
|
и |
2 |
|
qNd |
(x xdn) k . При x = 0 |
1 = 2 , следовательно, |
|
|||||||||||||||||
|
0 |
|
|||||||||||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
k |
q |
(Naxdp 2 Ndxdn 2 ) . Используя Ошибка! Источник ссылки не найден. и xd = xdn + |
|||||||||||||||||||||||
|
|||||||||||||||||||||||||
|
2 0 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
xdp, получаем выражение для ширины ОПЗ в состоянии теплового равновесия:
xd(0) [ 2 0(Na Nd) k ]12 . Так как обычно Nd>> Na или Na>> Nd, получим : qNaNd
2
x |
|
|
0 |
k |
|
где NБ — концентрация примесей в базе, т.е. в наиболее |
d(0) |
|
|
||||
|
|
qNБ |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
слаболегированной области р-n-перехода; xd(0) — ширина обедненного слоя (или ОПЗ),
когда напряжение на р-n-переходе U = 0. Рисунок Ошибка! Текст указанного стиля в документе отсутствует..3– Характеристики резкого p-n
перехода а — результирующая примесная концентрация;
б — объемный заряд; в —электрическое поле; г — потенциал.
11 Статические вольт-амперные характеристики биполярного транзистора в схеме с общим эмиттером
– Статические ВАХ БТ в схеме о ОЭ: а – входная; б – выходная
На входной ВАХ (рис а) действие отрицательной обратной связи, вызванное эффектом Эрли, проявляется в смещении характеристик IБ UБЭ в сторону больших значений UБЭ при увеличении обратного смещения на коллекторном переходе UКЭ
Дифференциальное входное сопротивление R определим из физическойэквивалентной схемы БТ с ОЭ на низкой частоте (рис) Полагаем, что коэффициент передачи тока базы
на НЧ |
0 |
|
N |
. R |
|
iБ RБ iЭ RЭ |
R |
|
R |
|
|
1 R |
|
Следовательно, дифференциальное |
|
Б |
N |
N |
|||||||||||
|
|
|
|
iБ |
Э |
|
Э |
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
входное сопротивление БТ в схеме с ОЭ в N больше, чем с ОБ. Эквивалентная схема БТ с ОЭ на НЧ:
Все области работы БТ в схеме с ОЭ: I – насыщение, II – активной нормальной работы, III – отсечки – располагаются в одном квадранте.
Для токов эмиттера и коллектора по модели Эберса-Молла величины напряжений на
эмиттерном UЭ и коллекторном UK переходах, |
зная, что UКЭ UК UЭ UЭК , |
|||||||
NIЭS IIKS , и полагая, что 1 N 0 , для IK |
0 получим UКЭнас |
|
IK 0 |
|
kT |
ln |
1 |
|
|
||||||||
|
|
I |
||||||
|
|
|
|
q |
||||
|
|
|
|
|
|
|
|
Следовательно, область насыщения в отличие от схемы с ОБ лежит в том же квадранте, что и две другие области. В реальном транзисторе область насыщения занимает несколько больший диапазон напряжений UКЭ , чем тот, что выводится из модели Эберса-Молла. Необходимо учитывать падение напряжения в квазинейтральной области коллектора I K RKK . На рис б прирост напряжения на транзисторе в режиме
насыщения с учетом |
I |
|
R |
обозначен штриховой линией. R |
|
RK |
|
|
RK |
|
|
K |
KK |
K |
|
N 1 |
|
N |
|
|
|
|
|
|
|
|
12.Высота потенциального барьера (q ). зависимость q от температуры (Т), концентрации примеси (N) и ширины запрещённой зоны