Добавил:
Upload
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз:
Предмет:
Файл:8 лекций / 16751.ppt
X
- •Моделирование технологических процессов
- •Вопросы к экзамену
- •Минимальные воспроизводимые размеры и многие проектные нормы определяются в первую очередь процессами травления.
- •Выбор моделей травления/осаждения
- •Примеры различных типов моделей.
- •Особенности использования геометрических алгоритмов
- •Примеры моделирования процессов травления/осаждения
- •Примеры моделирования процессов травления/осаждения
- •Алгоритм струны
- •Алгоритм струны (продолжение)
- •Схема расчета элементарных продвижений точек закрепления струны
- •Расчет результирующего перемещения
- •Расчет результирующего перемещения
- •Точность алгоритма продвижения струны
- •Алгоритм продвижения струны в присутствии маски
- •Преобразования струны с добавлением новой точки
- •Сужение углов между сегментами
- •Образование областей затенения
- •Обобщенная геометрическая модель травления
- •Результаты моделирования
- •Цель моделирования фотолитографии
- •Основные этапы численного моделирования фотолитографии
- •Расчет изображения на поверхности фоторезиста
- •Распределение освещенности в плоскости фоторезиста
- •Распределение освещенности в плоскости фоторезиста в случае точечного источника
- •Распределение освещенности в плоскости фоторезиста для протяженного источника
- •Два фактора, приводящих к деградации изображения
- •Формирование изображения на поверхности фоторезиста
- •Параметры, характеризующие маску
- •Параметры, характеризующие маску
- •Расчет интенсивности освещения в пленке фоторезиста
- •Физические и химические факторы, учитываемые при расчете распределения интенсивности по глубине
- •Моделирование нестационарного процесса отбеливания материала резиста
- •Схема алгоритма анализа прохождения света в тонких пленках
- •Пример расчетных кривых для распределения интенсивности света в пленке фоторезиста
- •Моделирование процесса проявления
- •Скорость травления химически однородных резистов
- •Полиномиальная аппроксимация скорости травления
- •Типичный профиль края линии в фоторезисте
- •Усовершенствованные методы фотолитографии для формирования наноразмерных структур