5.4. Вакуумные технологические линии.
Вакуумная линия предназначена для нанесения широкого спектра покрытий (защитно-декоративных, упрочняющих, оптических) комбинированными методами в автоматическом режиме.
Состав вакуумной линии
модуль загрузки (подготовки) изделия к напылению. Модуль предназначен для предварительной очистки и обезгаживания изделия;
рабочая камера. В рабочей камере происходит окончательная очистка, обработка изделия планарным ионным источником и нанесение требуемых покрытий планарными магнетронами по заданной технологии. В рабочей камере размещено устройство для перемещения изделия, магнетроны планарной конструкции, нагревательные элементы, датчики контроля давления, спектра плазмы, спектрометрической системы;
вакуумная система состоит из высокопроизводительных высоковакуумных насосов и агрегатов предварительной откачки. Вакуумная система обеспечивает достижение необходимого давления в модулях загрузки (подготовки), выгрузки изделия и непосредственно в рабочей камере;
модуль выгрузки или (выхода изделия) предназначен для стабилизации давления и температурных параметров;
ионный источник обеспечивает очистку, активацию поверхности изделия ионами аргона;
магнетроны планарной конструкции;
устройство перемещения обеспечивает автоматическое движение изделия с позиции загрузки на позицию выгрузки;
прибор анализа плазмы и управления расходом технологического газа обеспечивает стабилизацию технологических параметров и воспроизводимость процесса получения покрытий;
спектрометрическая система контроля толщины покрытий обеспечивает контроль покрытий в автоматическом режиме с выводом характеристики на монитор компьютера;
стойка питания предназначена для питания магнетронных и ионных источников и других исполнительных механизмов;
стойка управления обеспечивает автоматическое проведение технологического процесса нанесения покрытий. В стойку управления входят контроллеры откачки, температуры, прибора анализа плазмы, спектровизор, прибор замера остаточных давлений и т.д.
К особенностям вакуумной технологической линии следует отнести:
наличие модуля предварительной подготовки ионного источника позволяет формировать покрытия с высокими физико-механическими свойствами;
исключение периодической загрузки изделий в рабочую камеру существенно уменьшает наличие примесей и формирование однородных покрытий, а также существенно увеличивает производительность установки;
возможность контроля толщины покрытий в режиме осаждения и вывод спектральной характеристики на монитор компьютера.
Технические характеристики вакуумных технологических линий:
количество камер: 3-7 шт.;
размеры подложек:
длина до 4000 мм;
ширина до 3000 мм;
количество магнетронов: 2-7 шт.;
количество ионных источников: 1-3 шт.;
время цикла: от 60 сек;
мощность блока питания магнетрона: 10-70 кВт.
Условные обозначения:
1 – нагреватель;
2, 3, 5, 7, 9 – камера;
4 – источник ионов;
6, 8 – магнетроны;
10 – изделие;
11, 12 – стойки питания;
13 – стойка контроля;
14 – форвакуумная система;
15 – высоковакуумная система;
16 – стойка управления;
17 – затвор;
I, II, III, IV, V – камеры.