5.2. Вакуумное оборудование для нанесения защитно-декоративных и коррозионностойких покрытий.

Вакуумная установка для нанесения защитно-декоративных покрытий, включает в себя несколько видов технологических источников. Позволяет наносить покрытия широкого спектра цветов на изделия из различных материалов при пониженных температурах.

Для подготовки поверхности металлической подложки, особенно для декоративных покрытий, применяются установки электролитно-плазменного полирования (УПП), которые повышают качество поверхности на 2-3 класса (уменьшают шероховатость), тем самым обеспечивают получение покрытий с высокими свойствами.

Характеристики вакуумной установки для нанесения защитных покрытий:

• размеры вакуумной камеры: - диаметр 500-2000 мм; - высота или длина 500-2500 мм; - вакуумные камеры вертикального и горизонтального исполнения;

• вакуумная система может быть построена с применением разных откачных средств.

• технологические источники: - вакуумные дуговые испарители; - ионные источники; - магнетронные распылительные системы;

• технологическая оснастка планетарного типа;

• высоковакуумный пневмозатвор;

• азотная ловушка;

• вакуумные клапаны;

• импульсные блоки питания;

• стойка управления и питания;

• вакуумметр комбинированный;

• система автоматического управления расходом рабочих газов;

• гидравлическая и пневматическая системы.

Вакуумная установка для нанесения защитно-декоративных покрытий может работать как в ручном, так и в автоматическом режиме по заданной программе под управлением персонального компьютера.

Незначительная модернизация установки, по желанию Заказчика, может обеспечить нанесение алмазоподобных (DLC) покрытий.

3. Вакуумное оборудование для нанесения покрытий на полимерную пленку.

Вакуумная шлюзовая установка V-2000-IP-R предназначена для нанесения комбинированными методами в автоматическом режиме широкого спектра покрытий на полимерную пленку.

Состав вакуумной установки для нанесения покрытий на пленку

• модуль загрузки (подготовки) пленки к напылению. Модуль предназначен для предварительной очистки и обезгаживания пленки;

• рабочая вакуумная камера. В рабочей камере происходит окончательная очистка, обработка пленки планарным ионным источником и нанесение требуемых покрытий планарными магнетронами по заданной технологии. В рабочей камере размещено устройство перемотки, семь магнетронов планарной конструкции, нагревательные элементы, датчики контроля давления, спектра плазмы, спектрометрической системы;

• вакуумная система состоит из высокопроизводительных высоковакуумных насосов и агрегатов предварительной откачки. Вакуумная установка обеспечивает достижение необходимого давления в модулях загрузки (подготовки), выгрузки пленки и непосредственно в рабочей камере;

• модуль выгрузки или (выхода пленки) предназначен для стабилизации давления и температурных параметров;

• ионный источник обеспечивает очистку, активацию поверхности пленки ионами аргона с энергией 0-800 эВ. Размер ионного пучка на срезе анода составляет 1400х100 мм. Расстояние рабочей зоны по нормали к подложке 0-400 мм;

• магнетроны планарной конструкции. Размер мишени 1400х80 мм. Камера позволяет размещение до 7 магнетронов;

• устройство перемотки обеспечивает автоматическое движение пленки с позиции загрузки через шлюз и на намоточный барабан;

• прибор анализа плазмы и управления расходом технологического газа обеспечивает стабилизацию технологических параметров и воспроизводимость процесса получения покрытий;

• спектрометрическая система контроля толщины покрытий обеспечивает контроль покрытий в автоматическом режиме с выводом характеристики на монитор компьютера;

• стойка питания предназначена для питания магнетронных и ионных источников и других исполнительных механизмов;

• стойка управления обеспечивает автоматическое проведение технологического процесса нанесения покрытий. В стойку управления входят контроллеры откачки, температуры, прибора анализа плазмы, спектровизор, прибор замера остаточных давлений и т.д.

Основные технические характеристики вакуумной установки для нанесения покрытий на пленку:

• рабочая вакуумная камера: 2000х1600х1400 мм;

• шлюз (2 шт.): 1600х400х400 мм;

• давление в камере: 1х10^-3 Па;

• рабочее давление: 10^-1 Па;

• мощность магнетронных источников: 5, 10, 25 кВт.

Параметры ионного источника:

• ускоряющее напряжение: до 2000 В;

• рабочий ток: до 1 А;

• производительность: 10-30 м/мин;

• размер ионного пучка на срезе анода: 1400х100 мм;

• размер рабочей зоны по нормали к подложке: 0-400 мм;

• спектральный диапазон прибора замера толщины покрытий: до 1000 нм;

• мощность, потребляемая установкой: 150 кВт (в зависимости от технологий).

К особенностям вакуумной установки следует отнести:

• наличие модуля предварительной подготовки ионного источника позволяет формировать покрытия с высокими физико-механическими свойствами;

• исключение периодической загрузки изделий (бухты) в рабочую камеру существенно уменьшает наличие примесей и формирование однородных покрытий - высокая производительность установки;

• возможность контроля толщины покрытий в режиме осаждения и вывод спектральной характеристики на монитор компьютера.