Лекции МГУ / EM-content
.pdfСОДЕРЖАНИЕ |
|
Предисловие ----------------------------- |
7 |
Лекция 1. Взаимодействие электронов с веществом. -------------------------- |
9 |
Основные свойства электронов. Основные процессы при взаимодействии электронов с веществом. Рассеяние электронов. Характеристическое рентгеновское излучение. Тормозное рентгеновское излучение. Генерация вторичных электронов. Медленные вторичные электроны. Быстрые вторичные электроны. Оже-электроны. Генерация электронно-дырочных пар и катодолюминесценция. Генерация плазмонов и фононов.
Радиационные повреждения. |
|
Лекция 2. Просвечивающий электронный микроскоп. ------------------------ |
21 |
Характеристики электронного пучка. Яркость. Когерентность и энергетический разброс. Пространственная когерентность и размер источника. Стабильность. Источники электронов (электронные пушки). Источник с термоэлектронной эмиссией.
Автоэмиссионные источники (АЭП). |
|
Лекция 3. --------------------------- |
25 |
Линзы. Апертура. Дефекты линз. Сферическая аберрация. Хроматическая аберрация.
Астигматизм. Разрешение. Глубина фокуса и глубина поля. |
|
Лекция 4. ------------------------------ |
34 |
Регистрация электронов и изображения. Вакуумная система. Держатели образцов. |
|
Лекция 5. Практическая ПЭМ. ------------------------------ |
41 |
Юстировка. ПЭМ в параллельном и сходящемся пучке. Дифракция в выбранной области (SAED). Светлопольное и темнопольное изображение. Сканирующая ПЭМ
(STEM). |
|
Дополнение 5.1. ------------------------------ |
50 |
Лекция 6. Дифракция в кинематическом приближении. -------------------- |
53 |
З-н Брэгга. Обратная решетка. Индексы Миллера-Вейса. Сфера Эвальда. Вектор отклонения. Атомный и структурный фактор рассеяния. Разрешенные и запрещенные рефлексы. Индексирование рефлексов. Дифракция от суперрешеток. Размерные эффекты в дифракции.
Дополнение 6.1. --------------------------- |
63 |
Дополнение 6.2. -------------------------- |
64 |
Лекция 7. Элементы динамической теории дифракции. -------------------- |
67 |
Экстинкция. Колонковое приближение. Уравнения Хови-Уэлана. Решение уравнений Хови-Уэлана. Интенсивность прямого и дифрагированного пучков. Эффективный вектор отклонения. Лауэ зоны. Двойная дифракция. Дифракция в многофазных системах.
Лекция 8. Кикучи-дифракция. Дифракция в сходящемся пучке. ----------- |
75 |
Лекция 9. Изображение и контраст в ПЭМ. -------------------- |
80 |
Контраст плотности и толщины. Z-контраст. Дифракционный контраст, двух-пучковая |
|
геометрия. Эффекты толщины и изгиба пленки. |
|
Лекция 10. Изображение плоских дефектов. ------------------- |
87 |
Трансляционный контраст. Матрица рассеяния. Дефекты упаковки в гцк материалах. π- и δ- контуры. Границы фаз. Поля упругих напряжений. Контраст от одиночной дислокации. Дислокационные петли и диполи. Изображение в моде слабый-пучок
темное-поле (WBDF). |
|
Лекция 11. Фазовый контраст. |
----------------------------- 100 |
ПЭМ высокого разрешения (ВРПЭМ |
или HRTEM). Контраст кристаллической |
решетки. ВРПЭМ в многопучковой геометрии (on-axis). Элементы теории изображения. Функция передачи. Некоторые особенности ВРПЭМ в LEO-912AB.
3
Контраст муара (moiré patterns). Трансляционный и ротационный муар. Примеры |
||||
использования контраста муара. Френелевский контраст. Контраст стенок доменов. |
||||
Лоренцевская просвечивающая электронная микроскопия (ЛПЭМ). Френелевский |
||||
контраст от пор, газовых пузырей. |
|
|
|
|
Лекция 12. Спектрометрия в ПЭМ. |
------------------------------ |
112 |
||
Рентгеновская |
спектрометрия. |
Спектрометры |
рентгеновского |
излучения. |
Полупроводниковые детекторы (ППД) рентгеновского излучения (РИ). Электроника |
||||
ППД-спектрометра. Артефакты XEDS. Меры по уменьшению фона в XEDS-ПЭМ. |
||||
Количественный анализ в XEDS. Пространственное разрешение в XEDS. |
||||
Спектрометрия потерь энергии электронов (EELS). Фокусировка спектрометра. Пик |
||||
нулевых потерь. Малые потери энергии. Область больших потерь. |
|
|||
Лекция 13. Как приготовить образец? ------------------------------ |
|
127 |
||
Сетки, шайбы и мембраны. Подготовка самоподдерживающихся образцов. |
||||
Электрополировка. Ионное травление. Образцы в поперечном сечении (cross-section |
||||
samples). Несамоподдерживающиеся образцы. Ультрамикротомия. Диспергирование. |
||||
Метод реплик и экстракции. Скалывание. 90º-ный клин. Литография. Селективное |
||||
химическое травление. Техника безопасности. |
|
|
||
Список использованных источников для иллюстраций ---------------------. |
|
|||
Список цитированной литературы. --------------------------------------- |
|
|
4
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННЫХ ОБОЗНАЧЕНИЙ
A - атомный вес
А - ангстрем = 10-10м
a0 = ħ2/me2 = 0.529 10-8 cм - боровский радиус aj - вектора прямой решетки
B – магнитная индукция
bj - вектора обратной решетки
Е - напряженность электрического поля E0 – энергия пучка (электронов);
Et - порог смещения атомов (электронами) Ed - энергиия смещения (5-50 эВ)
е ≈ 1.6 10-19 Кл - заряд электрона (е2 ≈14.4 эВ А) Fhkl, Fg - стуктурный фактор
f, f(θ) – атомная амплитуда рассеяния g - вектор обратной решетки
g = |g|
H - напряженность магнитного поля H - гамильтониан, энтальпия
h = 2πћ , ћ = 1.0546 10-34 Дж с ≈ 6.6 10-16эВ с - постоянная Планка j, j - вектор и величина тока
К – переданный импульс k, q - волновые векторы
kB - константа Больцмана (= 1.38 10-23 Дж/К ≈ 8.6 10-5 эВ/К)
m0 - масса электрона = 9.109 1031кг, m0с2 = 511 кэВ
m* - эффективная масса электрона n - объемная плотность электронов NA = 6.022 1023 - число Авогадро. RH = Ey / Hjx - коэффициент Холла
Ry = е2 / 2а0 = 13.6 эВ - постоянная Ридберга
s (s) – вектор (параметр) отклонения от условия Брэгга (Лауэ) (excitation error)
T- температура,
U- потенциальная энергия,
V– потенциал(ьная энергия), объем
Vc – объем элементарной ячейки
W- вероятность (столкновений)
θB –угол Брэгга λ-длина волны электрона
λ, Λ - длина свободного пробега ξ0, ξg - длина экстинкции
ρ- удельное сопротивление [ρ,мкОмсм] = 1018[ρ,с]
ρ- также объемная плотность заряда
∑k,s - суммирование по k , s
σ- сечение рассеяния
σ- удельная электропроводность, τ - время жизни, релаксации
5
Акронимы
АЭПавтоэмиссионный электронный источник (пушка).
АПЭМ – см. АЕМ - аналитический(ая) электронный(ая) микроскоп(ия). БВЭ – быстрые вторичные электроны (FSE).
гпу - гранецентрированная плотноупакованная решетка. гцк - гранецентрированная куб. решетка.
ДК - дифракционная картина = электронограмма. ДП – дислокационные петли.
КЛ – катодолюминесценция (CL).
КЭД - квантовая эффективность детектирования (DQE). МВЭ – медленные вторичные электроны (SSE). МКА– многоканальный анализатор (МСА)
оцк - объемоцентрированная куб. решетка. ОЭ – Оже-электроны.
ОЭС – Оже-электронная спектроскопия (AES). ППД - полупроводниковый детектор.
ПЭМ - просвечивающий(ая) электронная(ый) микроскоп(ия). РИ – рентгеновское излучение.
СПЭМ (SТЕМ) - сканирующий(ая) электронный(ая) микроскоп(ия). ССД - камеры (CCD)
СФУД - детектор «сцинтиллятор-фотоэлектронный умножитель» СЭМ (SEM) - сканирующий(ая) электронная(ый) микроскоп(ия) ТРИтормозное рентгеновское излучение ТЭП – термоэлектронный источник (пушка )
УТО – ультратонкое окно (Л12)
ХРИ – характеристическое тормозное излучение ЭЛТ - электроннолучевая трубка (CRT)
ADF detector – круговой темнопольный детектор. AES – см. ОЭС.
BF(bright field) - светлопольное изображение. DQE - КЭД
CCD - charge-coupled device (ССД-камеры )
CCM (charge collection microscopy) – микроскопия со сбором заряда.
CBED - дифракция электронов в сходящихся пучках (микродифракция) (Л5,8). CRT - cathode-ray-tube (ЭЛТ)
DF (dark field) – темнопольное изображение.
EBIC (electron beam induced current) – ток индуцированный электронным пучком. EELS – electron energy-loss spectrometry
FEG - field emission gun (АЭП).
FET – field emission transistor – полевой транзистор. FSE – см. БВЭ.
HAAD detector – высокоугловой детектор.
IG ППД – ППД на германии с собственной проводимостью (Л12). МСА – см. МКА
К-М - дифракция Косселя-Мелленштедта (Kossel-Möllenstedt pattern)(Л8). SAD (Selected-Area Diaphragm) -апертура выбора области (Л5).
SAED (Selected-Area Electron Diffraction) -дифракция в выбранной области (Л5). SSE – см. МВЭ.
UHV – ultra-high vacuum
WBDF – режим слабого пучка и темного поля (Л10).
6