Пространственное разрешение.

Пространственное разрешение РЭМ определяется размером области образца, из которой регистрируется информативный сигнал.

Разрешающая способность растрового электронного микроскопа определяется диаметром электронного зонда (чем меньше диаметр, тем больше разрешающая способность микроскопа), который в свою очередь зависит от электронной оптики, размера кончика катода, эмитирующего электроны, тока электронного пучка и ускоряющего напряжения.

Современные растровые электронные микроскопы обеспечивают увеличение от ×5 до ~ ×200 000. При проведении фрактографических исследований максимальное увеличение обычно не превышает ×30 000.

Разрешающая способность РЭМ составляет примерно 100 Ǻ. Глубина фокуса в 300 раз больше, чем светового микроскопа. Это соответствует глубине фокуса более 1000 мкм при увеличении ×1000 и около 10 мкм при увеличении ×10000. Образцы можно наклонять более чем на 45° в любом направлении, не изменяя фокусировки. Рабочее расстояние от объективной линзы до образца составляет обычно от 10 до 25 мм

Важнейшей характеристикой любого микроскопа является его разрешающая способность. Она определяется:

- площадью сечения или диаметром зонда;

- контрастом, создаваемым образцом и детекторной системой;

- областью генерации сигнала в образце.

Режим регистрации медленных вторичных электронов.

Глубина слоя, дающего вторичные электроны, составляет 1...10 нм. В пределах этого слоя рассеивание электронов пренебрежимо мало, и поэтому при получении изображений во вторичных электронах разрешающая способность определяется прежде всего диаметром первичного зонда. Вторичные электроны обеспечивают максимальную в сравнении с другими сигналами разрешающую способность порядка 5...10 нм. Поэтому они являются в РЭМ главным источником информации для получения изображения поверхности объекта, и именно для этого случая приводятся паспортные характеристики прибора. Количество образующихся вторичных электронов слабо зависит от атомного номера элемента. Основным параметром, определяющим выход вторичных электронов, является угол падения пучка первичных электронов на поверхность объекта. Таким образом, вариации наклона микроучастков поверхности вызывают резко выраженные изменения в выходе вторичных электронов. Этот эффект используется для получения информации о топографии поверхности.

С целью увеличения эмиссии вторичных электронов часто образец устанавливается под углом к оси зонда. При этом будет ухудшаться резкость изображения – его размытие по краям. Для ее исправления в РЭМ предусмотрена система компенсации угла наклона. Метод наклона образца применяют при исследовании плоских объектов (металлографических шлифов и др.). Для образцов с сильно развитым рельефом полностью провести коррекцию угла наклона не удается.

С точки зрения фрактографии наибольший интерес представляют вторичные электроны и упругоотраженные (электроны, рассеянные в обратном направлении).

Во фрактографических исследованиях обычно используются вторичные и отраженные электроны. Предпочтение почти всегда отдается вторичным, так как они обеспечивают лучшее разрешение, а также позволяют изучать затененные участки образцов.

Однако в некоторых случаях целесообразно пожертвовать разрешающе способностью для улучшения контраста изображения, особенно для гладких образцов при небольших увеличениях. Это достигается при использовании режима работы микроскопа в отраженных электронах.