- •Мощные высокочастотные транзисторы
- •Предисловие
- •Глава первая особенности структуры мощных вч транзисторов
- •1.1. Параметры
- •1.2. Электрофизические характеристики различных областей транзисторной структуры
- •1.3. Выбор размеров и формы различных областей транзисторной структуры. Типы структур
- •Глава вторая
- •2.2. Требования к корпусам и особенности конструкции
- •2.3. Особенности сборки
- •Глава тр етья параметры мощных вч транзисторов и методы их измерения
- •3.1. Система электрических параметров
- •3.2. Методы измерения статических параметров и вч параметров малого сигнала
- •3.3. Метод измерения Рвых
- •3.4. Метод измерения кур и nK
- •3.5. Метод измерения м3 и м5
- •3.6. Особенности измерения энергетических параметров линейных транзисторов
- •3.7. Согласующие устройства
- •3.8. Методика измерения zbx
- •3.9. Особенности аппаратуры для измерения энергетических параметров
- •3.10. Погрешности измерения энергетических параметров
- •Глава четвертая надежность мощных вч транзисторов
- •4.1. Основные виды и причины отказов
- •4.2. Конструктивные пути обеспечения надежности
- •4.3. Технологические пути обеспечения надежности
- •4.4. Устойчивость транзисторов к рассогласованию нагрузки
- •Глава пятая некоторые вопросы применения мощных вч транзисторов
- •5.1. Общие сведения об устройствах на мощных вч транзисторах
- •5.2. Высокочастотные усилители мощности
- •5.3. Усилители на основе мощных автогенераторов
- •5.4. Автоматика и управление в усилителях мощности
- •5.5 Конструкция усилителей мощности
3.6. Особенности измерения энергетических параметров линейных транзисторов
В предыдущих параграфах мы рассмотрели методы измерения энергетических параметров, предполагая, что эти измерения не взаимосвязаны. Однако, как показывает практика, режимы, соответствующие наилучшим значениям Kур(ПО) и М3, измеренным в отдельности, различны. Так, максимальное значение Кур (по) (для простоты чтения в дальнейшем индекс «по» опускается) достигается в режиме, характеризующемся сравнительно небольшими токами и достаточно большими мгновенными напряжениями на коллекторе в то время, как режим наименьшего значения М3 характеризуется значительно большими токами коллектора и практически отсутствием перегрузок по напряжению на коллекторе. Иными словами можно сказать, что эквивалентные сопротивления генератора и нагрузки, при которых достигаются наилучшие значения параметров KУР и M3, различны [29 — 31].
Для разработчика информация о значениях параметров, полученных в различных, не связанных между собой режимах, не имеет практической ценности. Для проектирования аппаратуры необходимо знать значения Kур и Мз, измеренные в одном режиме при определенном уровне отдаваемой мощности, Это означает, что измерение энергетических параметров транзисторов должно проводиться в одном режиме. Следует отметить, что подобная ситуация характерна и для генераторных транзисторов, для которых измеряются Kур и nк в одном режиме при определенном значении Рвых, и для малошумящих приборов, для которых одновременно измеряются Kш и Kур.
Для линейных транзисторов положение еще более усложняется, так как режимы наилучших значений Kур и Мз существенно различны и, кроме того, они зависят не только от уровня сигнала, но и от условий измерения на входе и выходе транзистора как на основной частоте, так и на частотах высших гармоник. Условимся характеризовать каждый режим уровнем мощности рвых и комплексными сопротивлениями zг.экв и zн.экв. Пусть наилучшему значению Кур соответствуют сопротивления zг.экв1 и zн.экв1, а наилучшему значению
Mз — zг.экв2 и zн.экв2. Если предположить, что на параметры транзистора установлены нормы, соответствующие наилучшим значениям Кур и М3, то выпуск таких приборов был бы невозможен, так как сочетание этих значений в одном режиме получить нельзя. Если же уменьшить нормы на параметры Кур и М3, то появятся определенные области режимов, отвечающие установленным нормам на каждый параметр. Проиллюстрируем это графическим построением областей сопротивлений, например, для Zr.экв, выполненных на комплексной плоскости.
Рис. 3.7. Области сопротивлений для Zг.экв = =f(Kур, М3):
1 — область maxKур; 2 — область minM3; 3 — область оптимальных режимов; 4 — область минимального отраженного сигнала на входе
Рис. 3.8. Области сопротивлений для zг.экв — =f(KУр, М3):
1 — область тах Kур; 2 — область minM3; 4 — область минимального отраженного сигнала на входе измерительной схемы
На рис. 3.7 и 3.8 показаны две области значений гг.экв, соответствующие определенным нормам на Кур и М3, причем на рис. 3.7 эти области пересекаются, а на рис. 3.8 такого пересечения нет. Это означает, что в первом случае существует общая область сопротивлений, позволяющая обеспечить необходимые значения параметров, а во втором — такой области нет, т. е. выпуск приборов невозможен. Такое же построение можно выполнить и для zн.экв (рис. 3.9), указав также область, общую для значений Кур и Af3, соответствующую заданным нормам. Следует отметить, что размеры и положение области на комплексной плоскости для Zr.экв и Zн.экв взаимозависимы. Это означает, что положение общей области для Zг.экв зависит от значений Zн.экв, при котором оно было получено, и наоборот (рис. 3.10 и 3.11). Такая зависимость существенно усложняет поиск общей области. Если к этому добавить, что у каждого транзистора из-за разброса энергетических параметров имеются свои области, удовлетворяющие требуемым нормам, то станут очевидными трудности, стоящие при измерении энергетических параметров линейных транзисторов в условиях производства.
Рис. 3.9. Области сопротивлений для zн.экв: 1 — область таxКур, 2 — область minM3; 3 — область оптимальных режимов
Рис. 3.10. Области оптимальных сопротивлений для zг.экв при разных значениях zн.экв на частоте измерений w
Обратимся теперь к особенностям измерения энергетических параметров. Поскольку практически невозможно рассчитать или каким-либо другим способом определить сопротивления, которые должны быть установлены на входе и выходе каждого транзистора перед измерением параметров, остается лишь экспериментальный путь нахождения необходимых значений zг.экв и 2н.экв. Он может быть трудным или легким в зависимости от размеров общей области (см. рис. 3.7, 3.9 и 3.12). Естественно, что чем больше эта область, тем легче ее найти в процессе измерений. Возможны различные пути расширения этих областей. Один из них — это снижение норм на параметры, что нежелательно. Другой путь — расширение у транзисторов области оптимальных сопротивлений, которая легко находилась бы при измерениях. Этот путь определяется технологическими и конструктивными особенностями изготовления транзисторов, и соответственно нормы на параметры устанавливаются с учетом обеспечения возможности выпуска транзисторов. Однако из-за того, что никогда неизвестно заранее, существует ли у данного транзистора область оптимального режима или она отсутствует и следует ли затрачивать время на ее поиск или нет, в производстве идут на определение потери, измеряя всю партию транзисторов при одних и тех же сопротивлениях zr.экв и Zн.экв. Это обстоятельство является основной особенностью измерения энергетических параметров транзисторов данного класса.
Рис. 3.11. Области оптимальных сопротивлений для zг.экв при разных значениях zн.экв на частотах, больших w(2w)
Рис. 3.12. Области оптимальных сопротивлений гн.экв при разных значениях Рвых (Рвых1 >Р вых2 > р Вых3)
Ответим на вопрос: как находится необходимая пара значений Zг.экв и Zн,кэв или (как будет показано далее) как осуществляется фиксированная настройка согласующего устройства? Как правило, эта настройка определяется при разработке транзисторов путем экспериментального подбора сопротивлений для партии. Вначале настраиваются на получение наибольшего значения Кур. Далее с помощью анализатора спектра производится настройка на заданный уровень значений М3. Если транзисторы обладают достаточными запасали по параметрам, то двумя-тремя пробами удается подобрать такую настройку входной и выходной цепей, при которой основная масса из партии транзисторов окажется годной по установленным нормам. Вслед за этим полученная настройка фиксируется, и в дальнейшем именно она используется для измерения энергетических параметров при производстве.