- •Вопросы на экзамен спиэ
- •5. Биполярный транзистор. Принцип работы.
- •Устройство и принцип действия
- •9. Полупроводниковые приборы с n - образными характеристиками.
- •12. Основные параметры биполярного транзистора и методика их измерений.
- •24.Конструкция и принцип работы многоэмиттерного транзистора.
- •32.3Акон Мура. Степень интеграции интегральных микросхем.
- •34.Многослойные полупроводниковые структуры
- •36.Билолярный транзистор с диодом Шоттки. Принцип работы.
- •37.Инжекционный вентиль. Принцип работы.
- •19 Рисунок
- •39.Технология изготовления и основные параметры полевого транзистора.
- •46.Модель Эберса - Молла.
24.Конструкция и принцип работы многоэмиттерного транзистора.
Рисунок 3.16 многоэмиттерный транзистор и его обозначение
25. Закон Мура. Степень интеграции интегральных схем.
26.Диод Шоттки. Принцип работы. Технология изготовления.
27.Вертикальная структура транзистора Шоттки.
28.Работа биполярного транзистора в ключевом режиме.
29.0сновные схемы включения биполярного транзистора.
30.Конструкция конденсатора в интегральном исполнении.
31 .Структура интегрального резистора
32.3Акон Мура. Степень интеграции интегральных микросхем.
СТЕПЕНЬ ИНТЕГРАЦИИ ИС (К) - показатель, характеризующий сложность интегральной схемы', численно определяется выражением К = IgN, где N - число элементов, входящих в ИС (значение К округляется до ближайшего целого числа в сторону увеличения). Однако чаше пользуются другой оценкой сложности И. с., в соответствии с к-рой различают малые N < 102), средние (N = 102 - 103), большие (N = 103 - 104) и сверхбольшие W = 104) интегральные схемы.
В СССР были предложены следующие названия микросхем в зависимости от степени интеграции (указано количество элементов для цифровых схем):
Малая интегральная схема (МИС) — до 100 элементов в кристалле.
Средняя интегральная схема (СИС) — до 1000 элементов в кристалле.
Большая интегральная схема (БИС) — до 10000 элементов в кристалле.
Сверхбольшая интегральная схема (СБИС) — до 1 миллиона элементов в кристалле.
Ультрабольшая интегральная схема (УБИС) — до 1 миллиарда элементов в кристалле.
Гигабольшая интегральная схема (ГБИС) — более 1 миллиарда элементов в кристалле.
В настоящее время название ГБИС практически не используется (например, последние версии процессоров Pentium 4 содержат пока несколько сотен миллионов транзисторов), и все схемы с числом элементов, превышающим 10000, относят к классу СБИС, считая УБИС его подклассом.
Мур высказал предположение, что число транзисторов на кристалле будет удваиваться каждые 24 месяца. При анализе графика роста производительности запоминающих микросхем им была обнаружена закономерность: появление новых моделей микросхем наблюдалось спустя примерно одинаковые периоды (18—24 мес.) после предшественников, при этом количество транзисторов в них возрастало каждый раз приблизительно вдвое. Гордон Мур пришел к выводу, что при сохранении этой тенденции мощность вычислительных устройств за относительно короткий промежуток времени может вырасти экспоненциально. В 2007 году Мур заявил, что закон, очевидно, скоро перестанет действовать из-за атомарной природы вещества и ограничения скорости света.
33.Закон Мура. Современное состояния производства интегральных схем: степень интеграции, диаметр пластин, проектные нормы.
34.Многослойные полупроводниковые структуры
35.Технологический маршрут изготовления МОП - транзистора.
36.Билолярный транзистор с диодом Шоттки. Принцип работы.
Транзистором Шотки получается соединением диода Шотки с коллекторной областью транзистора. Достоинства: имеет малую емкость перехода, малый инверсный коэффициент передачи, повышенная частота работы, пониженный уравень помех, большой коэффициентом усиления, отличается быстродействием. Транзистором Шотки широко применяется в электронике. Применение: часто применяется в аналоговых усилителях, мощных усилителях,СВЧ усилителях, преобразователях частоты и т.д.
Транзисторы Шоттки отличаются от обычных тем, что они не входят в глубокое насыщение, следовательно, в их базах в открытом состоянии накапливается мало носителей заряда, и в результате время их рассасывания меньше обычного.
Эффект Шоттки снижает напряжение открывания кремниевого p–n перехода от обычных 0,5 ... 0,7 В до 0,2 ... 0,3 В и значительно уменьшает время жизни неосновных носителей в полупроводнике. Эффект Шоттки основан на том, что в p–n переходе или рядом с ним присутствует очень тонкий слой металла, богатый элементами, свободный носителями.
Транзистор Шоттки можно представить как обычный транзистор с диодом Шоттки, включенном между его базой и коллектором, как показано на рис. 7.1.1.
Рис. 7.1.1. Транзистор Шоттки, представленный как обычный транзистор с диодом Шоттки, включенном между его базой и коллектором
При открывании транзистора базовый ток нарастает только до значения, лежащего на границе активного режима и области насыщения, а весь избыточный базовый ток отводится через открытый диод Шоттки через коллектор и эмиттер открытого транзистора на землю.
Чем сильнее откроется транзистор, т.е. тем меньше падение напряжения коллектор–эмиттер, тем больший ток отводится через диод Шоттки, минуя базу, на землю. Это приведет к закрыванию транзистора, т.к. уменьшение тока базы закрывает транзистор. Так образуется обратная связь, саморегулирующая режим работы транзистора, удерживая его от глубокого насыщения.
Сами диоды Шоттки имеют очень малые задержки включения и выключения. Накопление заряда в диодах Шоттки не происходит, т.к. протекающий в них ток вызван переносом основных носителей.
Когда транзистор заперт потенциал коллектора выше потенциала базы, а значит диод Шоттки смещен в обратном направлении и не влияет на работу транзистора.
Если в процессе отпирания транзистора потенциал коллектора становится ниже потенциала базы, диод Шоттки открывается и на нем устанавливается прямое напряжение Uпр. Поскольку это напряжение меньше 0,5 В, то коллекторный переход практически заперт, а следовательно, не возникает режима насыщения и связанных с ним двойной инжекции и накопления избыточных зарядов. Благодаря этому при запирании транзистора исключается задержка, вызываемая рассеиванием избыточного заряда.
На рис 7.1.2. показана разность потенциалов между выводами обычного транзистора и транзистора Шоттки, подтверждающая большее напряжение между коллектором и эмиттером транзистора Шоттки в открытом состоянии.
Рис. 7.1.2. Разность потенциалов между выводами обычного транзистора и транзистора Шоттки