- •Н.Д. Ясенев физические основы электроники Учебное пособие
- •Екатеринбург
- •Предисловие
- •Введение
- •Классификация полупроводниковых приборов
- •Глава 1. Физические основы проводимости полупроводников
- •1.1.Электропроводность полупроводников. Беспримесные и примесные полупроводники
- •1.2.Процессы в электронно-дырочном переходе
- •1.3.Инжекция неосновных носителей. Диффузионная и зарядная емкости
- •1.4. Пробой p-n перехода
- •Глава 2. Полупроводниковые диоды
- •2.1. Устройство полупроводниковых диодов
- •2.2. Основные характеристики и параметры диодов
- •2.3. Выпрямительные диоды
- •2.4. Стабилитроны
- •Глава 3. Биполярные транзисторы
- •3.2. Схемы включения транзисторов
- •3.3. Статические характеристики биполярных транзисторов
- •3.5. Параметры предельных режимов работы транзистора
- •Глава 4. Полевые транзисторы
- •Глава 5. Тиристоры
- •5.1. Устройство и принцип действия тиристора
- •5.3. Разновидности тиристоров
- •Глава 6. Интегральные схемы
- •Глава 7. Усилители напряжения, тока, мощности в схемах автоматики
- •7.3. Усилитель переменного тока с трансформаторной связью каскадов
- •7.4. О режимах работы усилительных каскадов
- •7.5. Усилители постоянного тока
- •7.8. Понятие об операционном усилителе.
- •Глава 8. Полупроводниковые триггеры
- •Глава 9. Мультивибраторы и одновибраторы.
- •9.1. Исходные положения
- •Глава 10. Блокинг-генератор
- •Глава 11. Генераторы линейно изменяющегося напряжения
- •Глава 1. Физические основы проводимости полупроводников 7
- •Глава 8. Полупроводниковые триггеры. 97
- •Глава 9. Мультивибраторы и одновибраторы. 105
- •Глава 10. Блокинг-генератор. 111
- •Глава 11. Генераторы линейно изменяющегося напряжения. 114
- •620002 Екатеринбург, ул. Мира 19
1.3.Инжекция неосновных носителей. Диффузионная и зарядная емкости
Инжекцией называется процесс введения носителей заряда через электронно-дырочный переход при понижении высоты потенциального барьера в область, где эти носители являются неосновными. Вследствие рекомбинации инжектированных носителей с основными, для данной области, их концентрация убывает по мере удаления от p-n перехода (рис. 9), поэтому инжектированнные носители обладают ограниченным временем жизни .
В тех местах, где находятся не успевшие рекомбинировать инжектированные носители, условие p n > n2i не выполняется. Возникает неравновесное состояние, а инжектирован-ные носители носят название неравновесных.
На
рис.9 показано примерное распределение
концентрации неравновесных носителей
(заштриховано). Для случая бесконечно
тонкого и несимметричногоp-n
перехода
(pp>>nn),
Рис.9.
Распределение неравновесных носителей
заряда: а
– распределение
концентрации неравновесных носителей;
б – схема
p-n
перехода
, (1.16)
где – концентрация дырок в n-области на границе с p-областью при инжекции;
–концентрация неравновесных носителей на границе;
–концентрация дырок в глубине n-области;
Lp – диффузионная длина пробега дырок в n- области. Она равна расстоянию, на котором концентрация дырок, инжектируемых в n-облaсть, убывает вследствие рекомбинации в e раз:
, (1.17)
где – коэффициент диффузии;
p – время жизни.
Все сказанное относится и к инжекции электронов.
Инжекция неосновных носителей не приводит к нарушению электронейтральности областей, куда они вводятся, поскольку из внешней цепи поступают дополнительные носители, компенсирующие возможный избыток (цепочка рекомбинаций).
При протекании через переход прямого тока около перехода в p- и n-областях происходит накопление неравновесных носителей. Они образуют пространственные заряды соответствующих знаков. Эти заряды притягивают и удерживают пространственные заряды обратных знаков, создаваемые основными носителями этих областей.
Увеличение прямого напряжения приведет к увеличению концентрации неравновесных и индуцированных зарядов. Это эквивалентно наличию некоторой емкости, получившей название диффузионной.
Изменение напряжения на p-n переходе U вызывает приращение диффузионного тока, а это приводит к увеличению концентрации неравновесных и индуцированных зарядов Q.
Если быстро сменить полярность внешнего источника, то в начальный момент во внешней цепи появится значительный обратный ток, обусловленный процессом рассасывания неравновесных носителей заряда. Затем обратный ток станет равным I0. Это аналогично разряду диффузионной емкости. Ее перезарядки не происходит, поскольку при отсутствии тока диффузии эта емкость исчезает. Для несимметричного p-n перехода (pp >> nn) эта емкость равна
. (1.18)
При p = 5 мкс; Ipдиф = 10 мА; Cдиф 2 мкФ.
Область пространственного заряда p-n перехода имеет двойной электрический слой: из положительно заряженных доноров и отрицательно заряженных акцепторов. Этот слой образует зарядную емкость
, (1.19)
где – относительная диэлектрическая проницаемость кристалла;
0 – диэлектрическая постоянная;
S p-n – площадь перехода;
d p-n – ширина запирающего слоя.
Зависимость этой емкости от внешнего напряжения
, (1.20)
где – зарядная емкость p-n перехода при U = 0. При прямом смещении ширина p-n перехода уменьшается, Cзар растет. При обратном – наоборот. При прямом смещении Cзар < C диф, при обратном – Cзар >> Cдиф0.