- •Технологія одержання і застосування плівКових матеріалів
- •Проценко і.Ю., Шумакова н.І.
- •© І.Ю.Проценко, н.І Шумакова, 2008
- •Передмова...................................................................................... 7
- •Конструкції термовипарників та їх застосування……… 19
- •Передмова
- •1 Основи термодинаміки та кінетичної теорії газів
- •Рівноважний тиск пари
- •1.2 Розподіл атомів пари за швидкостями
- •1.3 Механізми випаровування рідин та твердих тіл
- •2 Конструкції термовипарників та їх застосування
- •2.1 Загальна інформація
- •2.2 Випаровування із дротів та металевої фольги
- •2.3 Випаровування із тиглів, матеріали тиглів
- •2.4 Випаровування матеріалів електронно-променевими методами
- •3 Вакуумно-плазмова технологія
- •4 Плазмові випарники
- •4.1 Випарники з випаровуванням матеріалу катода
- •4.2 Вакуумно-дугові випарники
- •4.3 Випарники з випаровуванням матеріалу анода
- •4.4 Електронно-променеві випарники
- •5 Метод іонного та реактивного розпилення
- •5.1 Іонне розпилення
- •5.2 Реактивне розпилення
- •6 Особливості випаровування сплавів та хімічних сполук
- •7 Методи контролю товщини плівок
- •7.1 Мікрозважування
- •7.2 Метод кварцового резонатора
- •7.3 Оптичні методи
- •7.4 Інші методи
- •8 Характеристика елемента карбону
- •9 Класифікація алотропів карбону
- •10 Фізичні властивості алотропів карбону
- •11 “Метастабільність алмазу” та шляхи його одержання
- •12 Хімічний синтез алмазу
- •13 До історії розвитку хімічного синтезу алмазу
- •14 Методи одержання алмазоподібних плівок
- •14.1 Термохімічні методи осадження
- •14.2 Електророзрядні методи
- •14.3 Комбіновані розряди
- •14.4 Методи одержання апп на атмосфері
- •15 Методи одержання гідрогенезованих
- •16 Методи одержання ультрадисперсних алмазів (уда) і наноалмазів (на)
- •17 Методи одержання
- •18 Хімічний склад і кристалічна структура
- •18.1 Нітрид титану
- •18.2 Карбід вольфраму
- •Задачі та вправи
- •19 Уявлення про адатом, кластер та критичний зародок
- •20 Залежність розміру критичного зародка від матеріалу плівки та підкладки
- •21 Механізми конденсації плівок, їх узагальнена діаграма
- •22 Чотири стадії росту плівки
- •22.1 Утворення острівців
- •22.2 Коалесценція острівців
- •22.3 Утворення каналів
- •22.4 Утворення суцільної плівки
- •23 Критична товщина і критична температура конденсації
- •24 Утворення дефектів у процесі росту плівки
- •24.1 Дислокації
- •24.2 Межі зерен
- •24.3 Шорсткість та пористість конденсатів
- •25 Епітаксіальний ріст плівок
- •25.1 Зародження епітаксіальних частинок
- •25.2 Механізми епітаксіального росту
- •26 Змінювання параметра решітки, псевдоморфний ріст плівок
- •27 Види спряжень кристалів при епітаксіальному рості
- •28 Субструктура полікристалічних плівок
- •29 Нанокристалічні та аморфні матеріали
- •30 Внутрішні макронапруження в конденсатах
- •30.1 Вплив температури підкладки
- •30.2 Причина виникнення макронапружень у
- •30.3 Вплив товщини плівок, швидкості конденсації та термообробки
- •30.4 Розрахунок величини st
- •30.5 Методи вимірювання s
- •Вплив іонного бомбардування підкладки на властивості плівок
- •32 Процес старіння в тонких плівках
- •Датчики температури із платини та нікелю
- •Термопари
- •Терморезистори із від’ємним і додатним
- •Кремнієві датчики
- •37 Датчики на основі металевої плівки
- •38 Термокондуктометричні та термохімічні
- •39 Тонкоплівкові газові датчики
- •40 Датчики вологості
- •41 Уявлення про тензоефект
- •42 Перетворення деформації тензорезистором
- •43 Передача деформації чутливому елементу
- •44 Металеві тензодатчики
- •45 Напівпровідникові та полімерні тензорезистори
- •46 Магніторезистивні датчики
- •47 Датчики Холла
- •Технологія одержання і застосування плівкових матеріалів
18 Хімічний склад і кристалічна структура
Склад і структура плівок та покриттів деякою мірою залежать від методу їх отримання. Необхідна товщина плівок обумовлює застосування відповідних методів їх дослідження. Особливо це стосується вивчення складу і дефектності, для чого застосовують багато методів: РФА, електронна оже-спектроскопія (ЕОС), скануюча та просвічуюча електронна мікроскопія (СЕМ, ПЕМ), спектроскопія оберненого резерфордівського розсіювання (СОРР), електронний мікрозондовий аналіз (ЕМА), вторинна іонна мас-спектроскопія (ВІМС), скануюча тунельна й атомно-силова мікроскопія (СТМ, АСМ), електронний циклотронний резонанс (ЕЦР) та ін. У більшості випадків для достовірності результатів застосовують два і більше методів. Склад і структуру плівок нітридів та карбідів розглянемо на прикладі нітриду титану і карбіду вольфраму.
18.1 Нітрид титану
У процесі становлення технології отримання нітриду титану використовувалися різні методи: конденсація плівок Ті в атмосфері азоту, хімічні методи, метод імплантації іонів N+ у масивний матеріал чи тонку плівку (див. також таблицю 1.9). На сьогодні широко застосувуються декілька варіантів іонно-плазмового осадження: АРР, іонне розпилення, плазмове осадження та осадження із іонних пучків. Із цих чотирьох методів ефективним є метод плазмового осадження, в основу якого покладено принцип генерації за допомогою вакуумно-дугового розряду плазмового потоку. Оскільки з назвою цього методу відбулася термінологічна плутанина (варіанти назви – конденсація з іонним бомбардуванням (КІБ); іонно-плазмове осадження; іонне осадження в плазмі електродугового розряду; „плазмовий котел”; дугові осадження або випарування; вакуумне осадження катодною дугою тощо.), то В.В. Даниленко та ін. запропонували термін – метод плазми вакуумного дугового розряду (ПВДР). Дані таблиці 1.9 дають уявлення про фазовий склад покриттів Ті залежно від параметрів осадження методом ПВДР.
Таблиця 1.9 – Фазовий склад покриттів Ті залежно від умов осадження
pN, Па |
I, A |
U, B |
Фазовий склад |
0 |
60 |
50 |
-Ti |
0 |
60 |
200-250 |
-Ti |
0,08 |
60 |
200 |
-TiN + -Ti |
0,56 |
60 |
190 |
-TiN |
0,08 |
140 |
100 |
-TiN + -Ti |
0,30 |
75 |
250 |
-TiN + - Ti2N + -Ti |
0,56 |
60 |
210 |
-Ti |
На основі електронографічних та рентгенографічних даних були встановлені типи і параметри решіток деяких нітридів титану: - Ti2N має тетрагональну решітку з а = 0,4943-0,4946 нм; TiNx; TiNy, TiCyNx мають ГЦК-решітку із параметрами а = 0,444; 0,431 та 0,425 нм.
У більшості випадків синтез плівок супроводжується утворенням надстехіометричних сполук (тобто x і y – не цілі числа). Необхідно відмітити, що різні методи іноді дають різні результати щодо складу плівок. Домішка кисню – одна із найпоширеніших домішок, наявність якої залежить від „вакуумної гігієни”. Наприклад, на рисунку 1.27 показана концентраційна залежність домішкових елементів від парціального тиску кисню. Залежність визначена за результатами досліджень методом оже-електронної спектроскопії.
Рисунок 1.27 – Залежність концентрації кисню (1), азоту (2), вуглецю (3) і титану (4) на поверхні плівок TiN від парціального тиску кисню
Аналіз показує, що при парціальному тиску кисню вище 10-4 Па (загальний тиск 10-1 Па) спостерігається зниження концентрації азоту і підвищення вмісту кисню.
Структура нітриду титану досліджена досить детально. Відмічено зменшення періоду решітки при відхиленні від стехіометрії як для звичайних, так і плівкових зразків нітриду титану. Абсолютні значення періодів решіток у плівок звичайно більші, ніж у масивних зразках. Характерно, що період решітки залежить від товщини плівки.
Морфологія структурних особливостей плівок TiN може бути охарактеризована як стовпчаста і як хаотична з широкою гамою проміжних варіантів.
Укажемо на деякі властивості плівок TiN. Зміна електроопору () в області гомогенності не є монотонною. Збільшується при відхиленні від стехіометрії в менший бік (n<1),що пов’язано з розсіюванням носіїв на структурних вакансіях у неметалічній підрешітці. Значний ріст при n>1 обумовлений переходом до сполук з неметалевою провідністю. У таблиці 1.10 наведена інформація про електропровідність нітридів титану.
Нітриди титану в області гомогенності мають різний колір: TiN0,5 – металево-сірий; TiN0,8 – яскраво-жовтий; TiN0,95-0,97 – золотаво-жовтий; TiN>1,0 – коричневий.
Твердість плівок TiN залежить від багатьох факторів, у першу чергу від методу отримання плівки, стехіометричного відношення Ti/N, товщини плівки тощо. Так, твердість TiN може мати значення (17-35) ГПа.
Дослідження структури і властивостей TiN - плівок і покриттів показали, що їх службові характеристики визначаються хімічним і фазовим складом, мікроструктурою, кристалографічною орієнтацією, дефектами кристалічної решітки тощо.