7.10.2.Формирование пленок электронно–лучевым методом
Установка 01нэ–7–004 «Оратория–9»
Данная установка имеет большую цилиндрическую рабочую камеру. Внутри рабочей камеры расположены две электронно–лучевые пушки с магнитной отклоняющей системой, блок ИК–нагрева, роторно–планетарное подколпачное устройство, датчики контроля температуры и толщины напыленной пленки с помощью переносного прибора КИТ–2. Весь технологический цикл распыления материала и напыления пленки может производиться автоматически с заданием режимов по реле времени. Общее управление осуществляется блоком УСУПМ–1. Внешний вид подколпачного устройства данной установки представлен на рисунке 7.12.
В состав вакуумной установки входят:
1) каркас, в котором размещается высоковакуумная система с рабочей камерой;
2) стойка питания и управления, служащая для автоматического управления вакуумной откачкой, устройством нагрева, вращением подложек и электронно–лучевыми пушками
3) две стойки управления, раздельно для каждой электронно–лучевой пушки.
Рис. 7.12. Внешний вид подколпачного устройства установки «Оратория–9»
Схема данной установки представлена на рисунке 7.13.
С наружной стороны рабочей камеры 8, смонтированной в каркасе 4 установки, приварены трубки, по которым подается холодная вода при ее работе или горячая при обезгаживании, а также напуске воздуха (для снижения конденсации паров воды из атмосферы на внутренних стенках камеры). В открывающейся на петлях дверце имеется смотровое окно. В верхней части камеры размещены кварцевый датчик 7 для измерения толщины наносимой пленки и карусель с тремя планетарными подложко-держателями 9, а в нижней – два электронно–лучевых испарителя 11 и две заслонки 10 с электромагнитными приводами, а также нагреватели и датчик контроля температуры подложек.
Для достижения высокого вакуума служит паромасляный насос 3, имеющий скорость откачки 9000 л/с, соединенный для создания предварительного вакуума с механическим (форвакуумным) насосом 1. Для уменьшения попадания масла в рабочую камеру на форвакуумном трубопроводе, а также на входном патрубке паромасляного насоса установлены соответственно азотные ловушки 2 и 5.
Рис. 7.13. Схема вакуумной установки 01НЭ–7–004 («Оратория–9»)
1,3 – механический (форвакуумный) и паромасляный насосы, 2,5– азотные ловушки, 4 – каркас, 6 – высоковакуумный затвор, 7 – кварцевый датчик, 8 – рабочая камера, 9 – планетарный подложкодержатель, 10 – заслонка, 11 – электронно–лучевой испаритель, 12 – обводная магистраль.
При работе установки 01НЭ–7–004 в рабочую камеру (8) устанавливают три подложкодержателя (9) с подложками и откачивают камеру до высокого вакуума, после чего включают вращение планетарного механизма с подложками, затем включается нагреватель подложек и оба шкафа питания испарителей. После нагрева до заданной температуры и выдержки подложек при этой температуре включается накал каждого испарителя и устанавливается ток эмиссии на заданное значение, достаточное для разогрева и обезгаживания испаряемых материалов. При обезгаживании луч сканирует по продольной оси тигля для разгонки шлаков в зоне испарения. В начале распыления материалов производится отпыл на заслонку, которая после разгонки шлаков открывается и распыляемый материал наносится на подложки. При распылении луч может быть сфокусирован в центр тигля или сканировать поверхность материала в тигле. После открытия заслонки запускается реле времени работы данного испарителя. После отключения обоих испарителей нагрев подложек отключается и реле времени начинает отсчитывать время остывания. По окончании остывания подложек подается сигнал «конец цикла» (в течение 10 секунд звучит звуковой сигнал). Установка может работать и в ручном режиме, при этом все команды согласно технологическому процессу выполняет оператор, он задает соответствующие токи, напряжения и длительности процесса, открывает и закрывает заслонки для обеспечения требуемой толщины формируемой пленки.
Электронно–лучевой испаритель представлен на рисунке 7.14.
Электронно–лучевой испаритель (рис. 7.14) состоит из трех основных частей: электронной пушки, фокусирующей и отклоняющей систем и водоохлаждаемого тигля.
Электронная пушка служит для формирования потока электронов и состоит из вольфрамового катода 6 и фокусирующей системы 7. Электроны, излучаемые нагретым катодом, проходят через фокусирующую систему, ускоряются за счет разности потенциалов между катодом и анодом до 10 кВ и формируются в электронный луч 8.
Рис. 7.15. Электронно–лучевой испаритель.
1 – полюсный наконечник, 2 – электромагнит, 3 –водоохлаждаемый тигель, 4 – испаряемый материал, 5 – поток наносимого материала, 6 – термокатод, 7 – система, фокусирующая электронный луч, 8 – траектория электронного луч, 9 – напыляемая пленка, 10 – подложка
Отклоняющая система формирует магнитное поле, перпендикулярное направлению движения электронов, выходящих из фокусирующей системы, и состоит из полюсных наконечников 1 и электромагнита 2. Между полюсными наконечниками расположены водоохлаждаемый тигель 3 и электронная пушка. Отклоняющая система направляет электронный луч в центральную часть водоохлаждаемого тигля 3. В месте попадания луча в испаряемом материале создается локальная зона испарения вещества из жидкой фазы. Нагретый электронной бомбардировкой материал 4 испаряется, и поток паров 5 осаждается в виде тонкой пленки 9 на подложке 10. Изменяя ток в катушке электромагнита 2, можно перемещать луч вдоль тигля, что обеспечивает лучшее образование зоны расплава и предотвращает образование "кратера" в испаряемом материале.
Медные водоохлаждаемые тигли емкостью 50 см3 и более обеспечивают длительную непрерывную работу без добавления испаряемого материала, который, кроме того, не контактирует в расплавленном виде с медными стенками тигля, а значит, и исключается их взаимодействие, загрязнение формирумой пленки материалом тигля.
Электронно–лучевые испарители могут быть одной многотигельной конструкции, с разворотом луча на 270 и 180°. При угле отклонения электронного луча до 270° исключается попадание испаряемого материала на катод и загрязнение наносимых пленок материалом катода, который во время работы также распыляется.