- •Тема 1. Элементы квантовой механики
- •Корпускулярно-волновые свойства света.
- •1.2 Соотношения неопределенностей Гейзенберга.
- •1.3.Волновое уравнение частицы.
- •1.4. Движение частиц через потенциальный барьер. Туннельный эффект.
- •1.5 Линейный гармонический осциллятор.
- •1.6 Электрон в атоме водорода
- •Тема 2. Кристаллические решётки
- •2.1 Структура и виды кристаллических решёток, их характеристики.
- •2.2 Дефекты реальных кристаллических материалов их влияние на свойства твердых тел.
- •Тема 3. Элементы зонной теории твердых тел
- •3.1.Обобществление электронов в кристалле. Зонный характер энергетического спектра электронов в кристалле.
- •Ядра соседних атомов, притягивая электрон, ослабляют его связь
- •В результате взаимодействия одни уровни смещаются вверх,
- •3.2. Зоны Бриллюэна. Число уровней в разрешённых зонах. Заполнение зон электронами и электрические свойства твердых тел
- •3.3. Зонные диаграммы металлов, полупроводников и диэлектриков.
- •3.3. Статистика электронов и дырок в полупроводниках
- •Тема 4. Статистика носителей зарядов в полупроводниках и металлах
- •4.1.Основные понятия статистической физики.
- •4.2 Микрочастицы и макроскопические системы . Термодинамическое и статистическое описание идеального электронного газа.
- •4.3. Концентрация электронов и дырок в собственном полупроводнике
- •4.4. Концентрация электронов и дырок в примесном полупроводнике
- •Определение положения уровня Ферми
- •4.5.Неравновесные носители
- •Тема 5. Электропроводность твердых тел
- •5.1 Тепловое движение и его средняя скорость.
- •5.3 Дрейфовый ток
- •5.4.Диффузионный ток
- •Эффект Холла
- •5.6.Эффект Ганна.
- •Тема 6.Поверхностные явления в полупроводниках
- •Тема 7. Контактные явления и электрические переходы
- •7.1 Работа выхода электронов из металла и полупроводника.
- •7.2 Контакт металл-металл. Контактная разность потенциалов.
- •7.3.Термоэлектрические явления
- •7.4.Контакт металл-полупроводник: выпрямляющий (барьер Шотки) и невыпрямляющий (омический) контакты
- •7.6. Прямое включение p-n-перехода.
- •7.7. Обратное включение p-n-перехода.
- •7.8 Инжекция неосновных носителей
- •7.9. Вольт-амперная характеристика идеального р - n перехода
- •7.10 Отличие вольт-амперной характеристики р-n перехода от теоретической
- •7.11.Туннельный эффект в электронно-дырочном переходе.
- •Тема 8. Физические основы оптоэлектроники и квантовой электроники 4 часа
- •8.1.Основные понятия фотометрии. Основные энергетические и фотометрические величины.
- •8.2.Фотопроводимость полупроводников.
- •8.3.Фотоэлектрические эффекты в p-n-переходе. Влияние светового потока на вах p-n-перехода.
- •8.4. Основные виды генерации оптического излучения в полупроводниках:
- •8.6. Внешняя квантовая эффективность
- •8.7.Энергетические спектры атомов, молекул и твердых тел.
- •8.8.Спектральные свойства активной среды. Ширина спектральной линии, причины ее уширения.
- •8.10.Методы создания инверсии населенностей.
- •Тема 9. Физические основы вакуумной и плазменной электроники
- •9.2 Типы эмиссии:
- •9.3 Термоэлектронные катоды
- •9.7.Токопрохождение в вакууме. Конвекционный, наведенный и полный ток.
- •9.8 Электрический разряд в газах. Возбуждение и ионизация атомов газа.
- •1.2. Задачи
- •Пример решения
- •2. Статистика носителей зарядов в полупроводниках и металлах 4 часа
- •2.1. Краткие теоретические сведения
- •2.2 Задачи для решения
- •3.1. Краткие теоретические сведения
- •3.2. Задачи
- •3.3. Примеры решения задач
- •4. Поглощение и излучение света 4 часа
- •4.2 Задачи
- •4.3 Примеры решения задач
4.5.Неравновесные носители
Концентрация носителей заряда, вызванная термическим возбуждением в состоянии теплового равновесия, называется равновесной.
Возбуждение электрона из валентной зоны или примесного уровня, сопровождающееся появлением дырки, называется генерацией носителей заряда. Помимо теплового возбуждения появление свободных носителей заряда может быть связано с другими причинами, например, в результате облучения фотонами или частицами большой энергии, ударной ионизации, введения носителей заряда в полупроводник из другого тела (инжекция) и др. Возникшие таким образом избыточные носители заряда называются неравновесными. Таким образом, полная концентрация носителей заряда равна:
; (4.17)
, (4.18)
где n0 и p0 – равновесная концентрация, а n и p – неравновесная концентрация электронов и дырок. Если возбуждение избыточных электронов производилось из валентной зоны, а полупроводник однородный и не содержит объемного заряда, то концентрация избыточных электронов равна концентрации избыточных дырок:
. (4.19)
После прекращения действия механизма, вызвавшего появление неравновесной концентрации носителей, происходит постепенное возвращение к равновесному состоянию.
Процесс установления равновесия заключается в том, что каждый избыточный электрон при встрече с вакантным местом (дыркой) занимает его, в результате чего пара неравновесных носителей исчезает.
Явление исчезновения пары носителей получило название рекомбинации. На рисунке 4.6 G – это темп генерации, а R – темп рекомбинации свободных носителей заряда в собственном полупроводнике.
Рис. 4.6. Генерация и рекомбинация свободных электронов и дырок в полупроводниках
Скорость (темп) рекомбинации R пропорциональна концентрации свободных носителей заряда:
, (4.20)
где – коэффициент рекомбинации. При отсутствии освещения (в темноте) и , величины n0 и p0 иногда называют темновыми концентрациями свободных электронов и дырок соответственно. Из указанных выражений получим:
(4.21)
где Eg = EC – EV – ширина запрещенной зоны.
- среднее время жизни электронов в зоне проводимости.
. (4.22)
концентрация избыточных носителей
(4.23)
Процесс рекомбинации описывается экспоненциальной зависимостью от времени, причем среднее время жизни представляет собой такой отрезок времени, за который концентрация избыточных носителей изменяется в “е” раз.
Отметим, что неравновесные носители заряда появляются только в том случае, если энергия фотонов при освещении полупроводника превышает ширину запрещенной зоны (h > Eg).
Рис. 4.7. Спад неравновесной концентрации электронов во времени в донорном полупроводнике
К вырожденным полупроводникам относятся примесные полупроводники с высокой концентрацией атомов легирующих примесей, достигающей 1024...1026 м-3. На основе этих полупроводниковых материалов изготавливают такие компоненты, как туннельные диоды, лазерные и термоэлектрические устройства, некоторые элементы интегральных схем.
Особенностью сильно легированных полупроводников является то, что при достаточно высокой концентрации легирующей примеси примесный уровень размывается в примесную зону. При некоторой, достаточно высокой, концентрации примеси примесная зона расширяется настолько, что сливается с краем разрешенной энергетической зоны.
Следствием расширения примесной зоны является снижение энергии ионизации примесных атомов практически до нулевого значения. В вырожденном полупроводнике уровень Ферми оказывается внутри примесной зоны, примыкающей к зоне проводимости или валентной зоне (в зависимости от типа легирующей примеси), а вероятность "заселения" этой зоны носителями заряда приближается к единице.
Критическая концентрация носителей заряда, при которой наступает вырождение полупроводника, определяется эффективной массой m* носителей заряда и энергией ионизации ΔWпр примесных атомов.
При m*=0,3m и ΔWпр=0,03эВ значение =2×1025 м-3.
Для многих практических применений возникает потребность
получать полупроводники с малой проводимостью. Лучше всего этой потребности соответствуют собственные полупроводники, но для их получения требуется совершенная очистка от примесей. Часто это слишком трудно, особенно, когда возникает потребность в высокоомной области внутри уже легированного участка полупроводникового прибора.
Для получения малой проводимости необходимо сместить уровень
потенциала Ферми внутрь запрещённой зоны. Этого можно достичь, добавляя акцепторы к исходному полупроводнику n-типа,
или доноры к полупроводнику p-типа. Как следствие, возникают компенсированные полупроводники. В них электроны с донорных уровней переходят на акцепторные уровни, заполняя их и уменьшая концентрацию дырок.
Компенсированный полупроводник - легированный полупроводник с
примерно одинаковой концентрацией доноров и акцепторов, свойства которого близки к собственным полупроводникам.