- •§ 1. Элементы электронной теории металлов
- •Дополнение 1
- •§ 2. Потенциальный барьер на границе металл-вакуум
- •Дополнение 2
- •§ 3. Коэффициент прозрачности
- •§ 4. Плотность тока термоэмиссии
- •§ 5. Энергетические распределения эмитированных электронов
- •§ 6. Плотность тока термоавтоэмиссии (продолжение)
- •§ 7. Плотность потока энергии через эмиссионную поверхность
- •§ 8. Автоэлектронная эмиссия. Эксперимент
- •8.1 Автоэмиттер
- •8.2 Автоэмиссионный метод определения работы выхода
- •8.3 Микроскопия поверхности твердого тела
- •8.3.1 Автоэлектронная (полевая электронная) микроскопия
- •8.3.2 Автоионная (полевая ионная) микроскопия
- •8.3.3 Сканирующая туннельная микроскопия
- •§ 9. Термоэлектронная эмиссия
- •9.1 Термокатоды
- •9.2 Термоэмиссионный метод определения работы выхода
- •§ 10. Другие виды электронной и ионной эмиссии
- •10.1 Общая классификация явлений эмиссии
- •10.2 Фотоэлектронная эмиссия (внешний фотоэффект)
- •10.3 Вторичная электронная эмиссия
- •10.4 Кинетическая ионно-электронная эмиссия
- •10.5 Экзоэлектронная эмиссия
- •10.7 Эмиссия горячих электронов
- •10.8 Комбинированные виды эмиссии
- •§11. Токи, ограниченные пространственным зарядом
- •11.1 Закон «трех вторых»
- •11.3 Плоскопараллельная электродная система
- •11.4 Цилиндрическая электродная система
- •11.5 Сферическая электродная система
- •§ 12. Взрывная электронная эмиссия (ВЭЭ)
- •12.1 Феноменология ВЭЭ
- •12.2 Импульсный пробой при острийном катоде
- •12.3 Импульсный пробой при плоских электродах
- •12.4 Пробой постоянным напряжением
- •12.5 Джоулев механизм вакуумного пробоя
- •12.6 Вольт-амперная характеристика искрового разряда
hν s 12 mυ2 +WW . |
(10.1) |
Если теперь, как указывалось выше, на электроны будет действовать задерживающее напряжение, то для запирающего напряжения справедливо уравнение
q U |
r |
= 1 mυ2 |
= hν −W |
|
, |
(10.2) |
||
e |
|
2 |
макс |
W |
|
|
||
где qe |
- |
заряд электрона, а |
υмакс -максимальная энергия эмиттированных электро- |
|||||
нов. |
|
|
|
|
|
|
|
|
Это было экспериментально проверено Милликеном, получившим прямую, соответствующую уравнению (10.2) (см. рис. 10.6). Если подставить в уравнение
(10.2) |
υмакс = 0, то получим наименьшее значение частоты, при котором электроны |
|||||||||
еще могут выйти из металла. Как видно из графика, эта величина равна |
|
|||||||||
ν0 |
= |
WW |
|
, |
|
|
(10.3) |
|||
|
h |
|
||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
где ν0 |
– так называемая граничная частота (красная граница фотоэффекта). Соот- |
|||||||||
ветствующая ей длина волны |
|
|||||||||
λ0 = |
c |
= |
ch |
|
||||||
ν |
0 |
|
W |
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
|
W |
|
Это измерение можно провести очень легко и просто. Зная qe , получают одновременно угол наклона экспериментальных прямых и численное значение константы h.
Рис. 10.6. График, поясняющий метод определения постоянной Планка (здесь в уравнениях (10.1)–( 10.3) Ur и WW – положительные величины)
10.3 Вторичная электронная эмиссия
При бомбардировке металлической поверхности электронами последняя эмигрирует электроны. Это и есть вторичная электронная эмиссия. Определим коэффициенты вторичной эмиссии или к.п.д. этой эмиссии с помощью соотношения:
η = |
число вторичных электронов |
= |
Ns |
. |
|
число падающих электронов |
|
N p |
54
Как показывают измерения, η зависит от числа первичных электронов, угла падения, материала и. физического состояния поверхности. Согласно измерениям η различных материалов изменяется как функция энергии Wp падающих электронов соответственно кривым, приведенным на рис. 4-48, а.
Как видно из графиков, η сначала повышается вместе с энергией падающих (первичных) электронов, достигает максимума (табл. 10.1) и затем начинает уменьшаться. Качественно это явление объясняется следующим образом; падающие электроны передают свою энергию электронам металла. Если сумма переданной и собственной энергии электрона металла больше, чем работа, необходимая для выхода, то электрон металла может покинуть металл.
Таблица 10.1. Вторичная эмиссия (численные значения для некоторых веществ)
Вещество |
|
Ns |
|
|
Энергия первич- |
Вещество |
|
Ns |
|
|
Энергия первич- |
|
|
|
|
|
ных электронов, |
|
|
|
|
|
ных электронов, |
|
|
|
|
|
|
||||||
|
|
N p |
макс |
эВ |
|
|
N p |
макс |
эВ |
||
|
|
|
|
|
|
|
|
||||
А1 |
0,97 |
|
|
300 |
W |
1,43 |
|
|
700 |
||
Cu |
1,35 |
|
|
600 |
MgO |
8,2 |
|
|
525 |
||
Fe |
1,32 |
|
|
400 |
BeO |
10,2 |
|
|
500 |
||
Ni |
1,3 |
|
|
550 |
BaO–SrO |
10 |
|
|
1400 |
Если электрон с энергией εp падает на твердую поверхность, он может рассеяться обратно в вакуум упруго или неупруго. На практике величина εp лежит, как правило, в интервале 10 < εp < 500 эВ. Часть энергии этих электронов теряется в целом каскаде столкновений с другими, вторичными электронами. Некоторые из вторичных электронов эмиттируют из поверхности. Очевидно, что нельзя отличить первичный обратно рассеянный электрон и вторичный эмиттированный электрон. Поэтому отличие между этими двумя электронами обычно делается лишь для удобства довольно искусственным образом.
Это объяснено в подписи к рис. 10.7, на котором представлены типичные РПЭ электронов, эмиттированных из поверхности металла. Электроны в области III соответствуют упруго рассеянным электронам и электронам, которые в результате столкновений с фононами потеряли энергию порядка нескольких сотых долей электронвольта. В области II находятся электроны, потерявшие значительно большую энергию. Эта область характеризуется рядом пиков, соответствующих неупругим столкновениям первичных электронов с плазмонами и с другими электронами. Энергия этих пиков фиксирована относительно энергии первичных электронов и лежит на 2–50 эВ ниже ее. Эта величина определяется энергией возбуждения плазмонов и межзонных переходов. Область I соответствует истинно вторичным электронам, генерируемым в каскадном процессе.
Здесь мы будем рассматривать только электроны этой области, называя именно их вторичными электронами. Вследствие большого числа случайных столкновений, происходящих между начальным падением первичного электрона и конечным выходом вторичного электрона из металла, у последнего остается крайне мало ин-
55
формации о первичном электроне. Следовательно, форма энергетического и углового распределений вторичных электронов должна быть практически независимой от энергии εp и направления падения электронного пучка, если εp достаточно велика.
Рис. 10.7. Энергетический спектр вторичных электронов, эмиттированных из поверхности металла при его бомбардировке электронами с энергией 100 эВ ( ε – кинетическая энергия эмиттированных электронов). Электроны в области I – истинно вторичные, в области II и III – неупруго и упруго рассеянные первичные электроны
Существует множество теорий ВЭЭ из металлов, большинство из которых основано на модели металла Зоммерфельда. Эти теории (Ван дер Зил, 1953;
Вольфф, 1954; Стрейтволъф, 1959; Стольц, 1959; Амелио, 1970; Чанг и Эвер-
харт, 1974; Шоу, 1980) отличаются одна от другой главным образом способом аппроксимации каскадных процессов. В большинстве этих теорий для энергетического распределения вторичных электронов получены формулы, которые имеют следующий вид:
I ( ε )~ ( ε + ε0 )–xР( ε ), |
(10.4) |
где ε – кинетическая энергия эмиттированных электронов, равная их полной энергии, отсчитываемой от уровня вакуума. Первый сомножитель в (10.4) пропорционален числу вторичных электронов с энергией ε , падающих на границу ме- талл–вакуум из металла. Значения ε0 и х в разных теориях различны. Так, в теории Вольффа, например, х ≈ 2, ε0 = εi , где εi = ϕ+εF – разность энергий между уровнем вакуума и дном зоны проводимости. Второй сомножитель в (10.4) – коэффициент прохождения, определяющий, какая часть электронов из ме-
56
талла проходит через барьер и эмиттируется в вакуум. В теории Вольффа распределение электронов по импульсам сферически симметрично, и поэтому
Р( ε ) ≈ 1 – [ εi /( ε + εi )]1 / 2 . |
(10.5) |
Это уравнение применимо, если анализатор энергии принимает любой электрон с энергией ε независимо от направления его скорости.
10.4 Кинетическая ионно-электронная эмиссия
Кинетической ионно-электронной эмиссией называется испускание телом электронов при бомбардировке его поверхности ионами в том случае, когда источником энергии возбуждения электронов тела является кинетическая энергия падающих на его поверхность ионов. Явление характеризуется коэффициентом γk, равным отношению тока эмитированных электронов к току падающих ионов.
10.5 Экзоэлектронная эмиссия
Экзоэлектронная эмиссия состоит в испускании электронов поверхностями тел после воздействия на эти поверхности механической обработкой, газовым разрядом, облучением ультрафиолетовыми или рентгеновскими лучами. Эмиссия под действием последних двух причин наблюдалась только у диэлектриков. Токи экзоэлектронной эмиссии очень малы и их можно обнаружить только с помощью счетчиков. Со временем эмиссия падает. Этот вид эмиссии изучен слабо и не имеет общепринятого объяснения. Очевидно, что внешнее воздействие создает на поверхности ка- кие-то нарушения равновесного состояния и переводит ее в состояние с большей энергией. Избыток энергии при переходе в равновесное состояние за счет какого-то механизма (а возможно, разных механизмов при различных воздействиях на поверхность) передается электронам тела, которые затем и испускаются. Таким образом, источником энергии возбуждения электронов является энергия, запасенная поверхностью тела при предшествующем на нее воздействии.
10.6Потенциальная ионно-электронная эмиссия (потенциальное вырывание)
В случае потенциальной ионно-электронной эмиссии область пространства с U(x) < 0 создается вблизи поверхности тела при помещении около нее положительного иона. Возможные значения энергии электронов в этой кулоновской потенциальной яме могут быть и отрицательны. В отличие от случая с внешним полем, эти отрицательные значения εi1 , εi2 , εi3 , могут быть дискретны. Можно подобрать, в частности, такое тело и такой ион, чтобы наинизший свободный уровень энергии εi1 в ионе лежал ниже занятых уровней в эмиттере. Тогда электрон тела с энергией ε1 путем туннельного эффекта сможет из него перейти в потенциальную яму на уровень εi1 < ε1 и нейтрализовать ион. Но такой переход должен сопровождаться
57