- •Основные сведения по физике полупроводников
- •§ 1.1. Энергетические зоны полупроводников
- •§ 1.3. Концентрация носителей заряда в полупроводнике при термодинамическом
- •§ 1.4. Собственные полупроводники
- •§ 1.5. Примесные полупроводники
- •§ 1.6. Время жизни
- •§ 1.7. Процессы переноса зарядов в полупроводниках
- •§ 1.8. Температурные зависимости концентрации носителей заряда и положения уровня ферми
- •§ 1.9. Температурные зависимости подвижности носителей заряда и удельной проводимости
- •§ 1.10. Полупроводники в сильных электрических полях
- •§ 1.13. Обедненные, инверсные и обогащенные поверхностные слои
- •Контактные явления
- •§ 2.1. Электронно-дырочный переход
- •§ 2.2. Токи через электроннодырочный переход
- •§ 2.3. Концентрация неосновных носителей заряда у границ электроннодырочного перехода
- •Зависимость граничной концентрации неосновных носителей заряда от напряжения
- •§ 2.10. Выпрямляющие и омические переходы на контакте металла с полупроводником
§ 1.4. Собственные полупроводники
Собственный полупроводник — это полупроводник без донорных и акцепторных примесей или с концентрацией примеси настолько малой, что она не оказывает существенного влияния на удельную проводимость полупроводника. В собственном полупроводнике при температуре абсолютного нуля отсутствуют носители заряда, так как валентная зона полностью занята электронами (там нет дырок), а в зоне проводимости нет электронов.
При температурах выше абсолютного нуля некоторые электроны валентной зоны могут быть переброшены в зону проводимости — возможна тепловая генерация пар носителей заряда, в зоне проводимости появляются свободные электроны, а в валентной зоне — дырки. Процесс тепловой генерации возможен даже при очень низких температурах из-за значительных флуктуаций (отклонений) энергий тепловых колебаний атомов от средней энергии тепловых колебаний атомов относительно узлов кристаллической решетки.
Как отмечалось, кроме тепловой генерации носителей заряда в полупроводнике существует и их рекомбинация, и эти процессы при любой температуре взаимно уравновешены. При этом в собственном полупроводнике существует собственная концентрация электронов, которая может быть выражена соотношением, аналогичным (1.7):
Формула для собственной концентрации дырок аналогична (1.8):
Эффективные плотности уровней в зоне проводимости и в валентной зоне определяются соотношениями
где ml и ml — эффективные массы электронов и дырок (смысл этих параметров рассмотрен далее); h — постоянная Планка.
Так как в собственном полупроводнике носители заряда образуются в результате ионизации собственных атомов полупроводника, т. е. благодаря перебросу электронов из валентной зоны в зону проводимости, то одновременно возникает два носителя заряда противоположных знаков. Поэтому
Определим положение уровня Ферми для собственного полупроводника. Учитывая соотношения (1.9) — (1.12), получим
т. е. в собственном полупроводнике приближенно можно считать, что уровень Ферми расположен посередине запрещенной зоны.
Приняв в данном случае для простоты начало отсчета энергии от потолка валентной зоны, т. е. Э0 = 0, собственные кон-
Формула для собственной концентрации дырок аналогична (1.8):
Эффективные плотности уровней в зоне проводимости и в валентной зоне определяются соотношениями
Определим положение уровня Ферми для собственного полупроводника. Учитывая соотношения (1.9) — (1.12), получим
откуда
При небольшом различии эффективных масс электронов и дырок
т. е. в собственном полупроводнике приближенно можно считать, что уровень Ферми расположен посередине запрещенной зоны.
Приняв в данном случае для простоты начало отсчета энергии от потолка валентной зоны, т. е. Э0 = 0, собственные концентрации носителей можно выразить через ширину запрещенной зоны ∆Э — Эс— ЭB
Из соотношений (1.15) и (1.16) можно определить собственные концентрации носителей в разных полупроводниках. При комнатной температуре (Т ≈ 300 К) в кремнии п1 ≈101° см-3, в германии п1 ≈ 1013 см-3.