Скачиваний:
143
Добавлен:
08.01.2014
Размер:
2.05 Mб
Скачать

3)Как создать в системе кс-1:

Дано d1 =4 мкм,d2=40 мкм. Будем изменять соотношение м/д высоко и низко дисперсной фракцией.

φ1/ φ2

1

1/0

2

0,8/0,2

3

0,5/0,5

4

0,3/0,7

5

0/1

1 )В объёме формируется КС-2.

2) КС-2, но встречаются одинокие частицы 2-го типа( крупные), введении е таких частиц приводит к уменьшению стеснённых условий, дилатансия ослабляется.3)Сущ.агрегаты из крупно дисперсных частиц. Реолог.поведение м.б. дилатантно-тиксотропным.Поведение м.б. псевдо-ньютоновским.(частицы 1-го типа увеличивают вязкость, частицы другого типа уменьшают).

4)В объеме формируется сплошная структура СК-1.,а в ней КС-2 из частиц другого типа.5)КС-2

Регулирование структурн-мех св высококонц сусп.

2.Регулир с неполярными частицами

На воздухе SiC оксил,обр-ся пленка SiO2 на повр-ти.

U=Uм+Uстр+(Uадс+Uстер)

<0 >0 Должны добавить

Должны созд на пов-ти част адсорб слои д/агрегт-й уст. Требования к адсорбцион слоям:

-д.б. плотными,чтобы работал эф экранирования

-д.б. толстыми

Чтобы слои были плотными,молекулы ПАВ должны хор адсорбир.ПАВ должны содержать циклы,бенз кольца.Чем меньше n,тем<раствор в воде, тем выше адсорбц способн.n-число оксиэтилен групп.

Водные суспензии графита АФ9-n

ПАВ С,ККМ m=dагр/dшт

- - >10

АФ9-12 2 2,5

АФ9-40 2 5,0

АФ9-12/ 1,5/0,5 1,2 почти все агрег разруш

АФ9-40

плотный толстый слой9-12/9-40

Надо использовать смеси ПАВ с небольшим n.

3.Система с неполярной дисп средой и полярными частицами.

-мах возм конц дисп фазы

-мin η

Создавать адсорбц слои молекулами ПАВ:плотн,толст.

-чтоб суспензия была агрегат устойчива

SiC d≤0.1мкм в парафине при t=800С.

На частицах SiC есть пленка SiO2

Силанольные группы-кислотные

Жирн амины

Влияние строение ПАВ на свойства суспензии

ПАВ

М г/моль

Амах106,моль/м2

δэкс,нм

ККС-1

ККС-2

1

-

-

-

-

0,1

0,22

2

С17Н35СООН

284

0,7физ ад

1,9

0,2

0,33

3

С12Н25NH2

190

2,7х.а.

2,8

0,22

0,39

4

C18

269

2,3х.а

4,5

0,24

0,41

5

C60

1000

0,9х.а.

10,8

0,29

0,38

6

C18+60

13,5

0,29

0,48

Плотность адс слоя завис от длины у/в радикала.Слои получ толстые (С60),но рыхлые, поэтому ККС-2 падает.Очень увелич R нельзя…..взять смесь

4.Система с вязкой дисперсионной средой

Zn2SiO4 в 6% при оксипропилцеллюлозе в пропилен гликоле

d-1;2мкм

ПАВ основного типа RN (CH2CH2OH)2 диэтанол амин

  1. Если нельзя разрушить агрегаты в вязкой среде. надо проработать ультразвуком.провести предварительное адсорбционное модифицирование

  2. Снача гот сусп Zn2SiO4 В ОПЦ, вводят ОПЦ в дезагрегир систему.Без модифицирования и проще.