3. Вопросы для самопроверки
1. Какие методы используют для изучения
строения твердых тел?
2. В чем заключается металлографический
метод исследования полупроводников?
3. Как готовят полупроводниковые кристаллы
для металлографии?
4. Каковы особенности травления
монокристаллов и поликристаллов?
5. Что представляют собой фигуры травления
и почему они образуются?
6. Какой вывод можно сделать по геометрии
фигур травления?
7. Какие виды дефектов могут присутствовать
в полупроводниках?
8. Какие структурные дефекты называются
дислокациями? Как они выявляются в
полупроводниках?
9. Как определяют плотность дислокаций?
10. Каковы возможности металлографического
метода? Какова его точность?
Литература
1. Возмилова Л.Н. , Луфт В.М, и др. Травление
полупроводников. М.: Наука, 1989.
2. Черняева В.Н., Кожитов Л.В. Технология
эпитаксиальных слоев арсенида галлия.
М.: Энергия, 1974.
