- •Часть 1. Метод фотонных карт. Final Gathering
- •1. Испускание фотонов
- •2. Трассировка фотонов
- •3. Создание фотонной карты
- •4. Использование фотонной карты при рендеринге
- •Параметры настройки фотонных карт в mental ray для 3ds max, закладка Indirect Illumination
- •Оценка освещения точки поверхности по заданному количеству фотонов
- •Окно настроек фотонных карт
- •Настройка глубины трассировки для фотонов
- •1. Построение Grid сетки в растровом пространстве изображения
- •2. Предварительная стадия расчета fg
- •3. Рендеринг
- •Диагностический рендер fg-расчета. Радиус 10см, fg Samples 1000
- •Интерфейс настройки параметров fg-расчета
- •Часть 2.
- •Интерфейс шейдера Ambient/Reflective Occlusion в 3ds max
- •Сцена освещена двумя стандартными точечными источниками света (omni light)
- •Шейдер ао назначен диффузным свойствам материалов
- •Все тени в сцене рассчитаны ambient occlusion
- •Настройка ambient свойств материала для использования ао
- •Источник света проявляет диффузные характеристики поверхности
- •Ambient occlusion в режиме 1, учитывается цвет окружения
- •Шейдер ambient occlusion назначен точечному источнику света. Другого освещения в сцене нет
- •Простой reflective occlusion с картой отражения на параметре Bright – шейдер "видит" затеняющую геометрию, но не может построить правильные отражения – вместо них мы видим черные пятна
- •Пример диаграммы более сложного материала, позволяющего получить отражения с помощью reflective occlusion
- •Материал с Reflective occlusion, позволяющий получить отражения
- •Еще один пример материала для reflective occlusion
- •Источник света – Skylight, расчет освещения выполнен при помощи Final Gather, время вычислений – 2 часа 15 минут
- •Часть 3. Физическая модель подповерхностного рассеяния в mental ray – sss Physical Material
- •Шейдер miss_physical
- •Скриншот тестовой сцены
- •Слева-направо: камера под углом 90, 45 и 35 градусов к нижней грани
- •Слева - направо: depth 1, 10, 20, 100
- •Слева - направо: depth 1, 10, 20, 100
- •Слева - направо: depth 1, 10, 20, 100
- •Сцена 1. Молоко в стеклянном стакане
- •Сцена 2. Горящая цилиндрическая свеча
- •Сцена 3. Кубическая свеча
- •Часть 4. Упрощенная модель подповерхностного рассеяния sss Fast
- •Рассеянный задней поверхностью свет освещает переднюю поверхность
- •Материал miss_fast_simple_phen
- •Вверху — объект со стандартным материалом (Blinn), внизу — с материалом sss Fast Material
- •Вид интерфейса sss Fast Material по умолчанию в 3ds max Вид интерфейса sss Fast Material со всеми открытыми слотами свойств
- •Для шейдера bump использована растровая карта
- •Рассеяние без и с использованием ambient occlusion (нижнее изображение)
- •Применены растровые карты для bump, overall diffuse coloration и specular
- •Расчет освещения с final gathering, вверху — indirect off, внизу — indirect on
- •Шейдеры группы miss_fast
- •Диаграмма построения материала
- •Стандартный материал (phong) с картами для цвета, отражений и рельефа
- •Материал кожи со значениями по умолчанию
- •"The Final Battle". Автор: Max Kor
- •Создание собственных материалов sss Fast
- •Часть 5. Запекание текстур (render to texture)
- •Интерфейсы шейдеров mib_lightmap_write и mib_lightmap_sample
- •Пример достаточно удачных текстурных координат Неудачные текстурные координаты - множество швов и несвязанных координатных областей. Редактировать их будет довольно сложно
- •Blend - материал, запеченный scanline Запеченная текстура
- •Запеченная текстура
- •Копируем перетягиванием запекаемый материал в сэмплер поверхности
- •Рендер с текстурой, запеченной из blend-материала при помощи mental ray Запеченная текстура теперь выглядит правильно
- •Текстура с освещением
- •Интерфейс rtt
- •Секция параметров General Settings
- •Секция параметров Objects to Bake
- •Секция параметров Output
- •Секция Baked Material
- •Секция Automatic Unwrap Mapping
- •Сцена с caustic-эффектом, рассчитанным по фотонной карте
- •Настройки для запекания caustic фотонной карты
- •Запеченная фотонная карта
- •Рендер с запеченной в текстуру фотонной картой
- •Редактирование вершин Cage
- •Карта нормалей
- •Модель с Normal bump map
- •Высокополигонный источник и низкополигонный объект - цель
- •Часть 6.
- •Сетка модели Рендер сцены с источниками света
- •Две поверхности, на которых будет выращен мех
- •Модификатор Hair and Fur, секция Selection
- •Отображение в видовом окне сгенерированных модификатором волосков
- •Окно редактора Style Hair
- •Окно предварительного просмотра Style Hair
- •Секция параметров Frizz
- •Влияние параметров Frizz
- •Рендер в режиме mp Prim c Shadow map
- •Рендер в режиме mp Prim с ray trace тенями
- •"Лабораторная крыса"
Пример достаточно удачных текстурных координат Неудачные текстурные координаты - множество швов и несвязанных координатных областей. Редактировать их будет довольно сложно
2. Удобнее всего для работы создать новый mental ray material и использовать его в качестве контейнера запекаемого материала. Удобнее, потому что придется копировать запекаемый материал в сэмплер поверхности mib_lightmap_write.
3. В слот Light Map назначаем шейдер mib_lightmap_write. В слоте Texture задается название, формат файла и разрешение запекаемой карты. Примечание: при рендеринге можно получить сообщение об отсутствии карты, которую вы указали. Это сообщение можно спокойно проигнорировать. В UV Generator (3dsmax) определяем, как использовать созданные ранее текстурные координаты.
4. В слоте Surface Sampler по умолчанию назначен Lightmap Sample (base). Если нужно посчитать карту освещения, оставляем его. Если же нужно запечь какой-нибудь материал, назначаем вместо Lightmap Sample сначала Material to Shader и в его слот "material" копируем материал, который нужно запечь.
5. При необходимости, в слот Surface, через Material to Shader можно еще раз скопировать запекаемый материал, хотя это необязательно.
6. Теперь настраиваем сам рендер и выполняем рендеринг. По завершении запеченная растровая карта будет находиться по указанному в настройках пути.
7. Можно создать новый материал, назначить его диффузным свойствам запеченную растровую карту, материал - объекту и отредактировать текстурные координаты (швы).
Пример: запекание материала типа blend. RTT в паре с mental ray запекает этот материал неправильно - вместо смешивания материалов, запекается только один из них. Для примера использован простой blend материал с двумя смешиваемыми текстурами и маской falloff, управляющей смешиванием.
Схема запекаемого blend-материала
После запекания RTT в паре со scanline-рендером 3ds max получаем совершенно правильный результат:
Blend - материал, запеченный scanline Запеченная текстура
Если этот же материал запечь при помощи RTT и mental ray, получим:
RTT + mental ray: рендер с запеченным blend-материалом
Запеченная текстура
Эта ошибка относится к некорректной работе RTT и происходит только при запекании, рендер blend-материала в камеру выполняется корректно. Чтобы mental ray смог правильно запечь "бленду", воспользуемся способом №1.
Для этого создаем новый mental ray материал, назначаем mib_lightmap_write в слот Light Map. Переходим на закладки mib_lightmap_write, в слоте Texture указываем путь, имя и тип файла, разрешение (я выбрал 512х512, потому что карты большего размера в видовом окне max не отображаются) и цветовую модель (8 бит на канал даст обычное RGB изображение). Затем нажимаем кнопку Coordinates и настраиваем параметры генератора текстур. Поскольку текстурные координаты были уже созданы ранее при помощи Unwrap UVW, необходимо только проследить, чтобы MapSlotType=0 (текстура, а не окружение), MapChannel имел значение номера канала, который назначен для текстурных координат, Blur=0. Выходим из генератора "наверх" и нажимаем кнопку Surface Sampler. Для параметра Surface по умолчанию назначен Lightmap Sample (base), нажимаем кнопку справа и из списка выбираем Material to Shader. Теперь перетягиваем запекаемый blend-материал на кнопку material в Material to Shader. На вопрос отвечаем "Instance", если нужно сэкономить память, или "Copy".