- •1. Структура транзистора и назначение областей.
- •2. Распределение доноров и акцепторов в структуре транзистора.
- •3. Назначение скрытого слоя и разделительной диффузии в интегральном транзисторе.
- •4. Коэффициенты передачи тока нормальный , инверсный и коэффициент передачи в подложку.
- •6. Как влияет глубина залегания эмиттерного перехода на коэффициент передачи тока?
- •7. Чем отличаются вах в схемах об и оэ?
- •8. Почему ток коллектора не зависит от напряжения на коллекторе?
- •1. Преимущества полевых транзисторов перед биполярными.
- •2. Назначение областей в конструкции птуп.
- •3. Зависимость ширины опз под затвором от напряжения на затворе.
- •4. Что называется крутизной полевого транзистора?
- •5. Объяснить зависимость крутизны от напряжения на затворе.
- •6. Объяснить зависимость напряжения отсечки и крутизны от степени легирования и размеров областей.
- •7. Почему транзистор переходит из крутой области в пологую?
- •8. От чего зависит положение границы крутой и пологой областей?
- •Моп транзистор с индуцированным каналом
- •Объяснить выходные и передаточные характеристики моп транзисторов с n - и p - каналом.
- •2. Что называется потенциалом инверсии на поверхности полупроводника?
- •3. От чего зависит пороговое напряжение моп транзистора?
- •4. Что называется удельной крутизной моп транзистора?
- •5. Влияние подложки на вах транзистора.
- •6. Объяснить зависимость порога от толщины подзатворного диэлектрика.
- •7. Чем создается фиксированный в окисле заряд и как он влияет на величину порогового напряжения?
- •8. Почему акцепторы подложки влияют на величину порогового напряжения?
- •9. От чего зависит граничное напряжение на стоке, при котором транзистор переходит из крутой области в пологую?
8. От чего зависит положение границы крутой и пологой областей?
Граница крутой и пологой областей – это напряжение насыщения, т.е. напряжение сток-исток, при котором происходит перекрытие канала из-за увеличениятолщины ОПЗ
р-n-перехода затвора.
Толщина ОПЗ перехода затвора зависит как от напряжения на затворе так и от напряжением на стоке.С ростом отрицательного напряжения на затворе уменьшается значение напряжения насыщения, т.к. с ростом напряжения затвора растёт ОПЗ перехода, канал становится тоньше и, соответственно, достаточно меньшего напряжения на стоке для перекрытия канала. Например, прии, а при.
Моп транзистор с индуцированным каналом
Структура МОП транзистора
S–sourse– исток,D–drain– сток,
G–gate– затвор,B–bulk– подложка,
d– толщина подзатворного диэлектрика.
Объяснить выходные и передаточные характеристики моп транзисторов с n - и p - каналом.
(а) (б)
Передаточные ВАХ МОП транзистора:
p-канального (а), иn-канального (б)
Для того, чтобы открылся транзистор, на затвор необходимо подать такой потенциал относительно потенциала подзатворной области, чтобы на поверхности произошла инверсия проводимости. При этом под затвором индуцируется область с соответствующим типом проводимости, образуется канал, соединяющий области истока и стока, и в стоковой цепи начинает протекать ток. Напряжение затвора, при котором происходит инверсия проводимости подзатворной области и начинает протекать ток, называют пороговым . Полярность напряжений, подаваемых на электроды МДП с индуцированными n и p каналами при их работе в усилительном режиме противоположна. Дляn-канального транзистора на затвор подается плюс относительно истока, наp-канальный транзистор минус. За сток принимается тот электрод, к кoторому дрейфуют основные носители, т.е. вp- канальном транзисторе сток должен быть отрицательным относительно истока, а вn- канальном-положительным.
При увеличении положительного напряжения на затворе ток стокаn- канального транзистора возрастает, вp– канальном наоборот, ток растет с увеличением отрицательного напряжения затвора.
2. Что называется потенциалом инверсии на поверхности полупроводника?
Потенциалом инверсии на поверхности полупроводника φi называется поверхностный потенциал, соответствующий переходу в режим сильной инверсии. Дляр– канального транзистора приповерхностная концентрация дырок становится равной равновесной концентрации электронов в глубине полупроводника или,что то же самое, концентрации доноров в подложке, дляn-канального - концентрация электронов на поверхности равна концентрации акцепторов в глубине подложки.
гдеNA– концентрация акцепторов в подложке,ni – собственная концентрация электронов в кремнии.дляp–канала определяется аналогично черезв подложке, но имеет отрицательный знак.
3. От чего зависит пороговое напряжение моп транзистора?
Пороговое напряжение Un– напряжение на затворе, при котором происходит инверсия поздатворной проводимости и появляется ток стока.
Пороговое напряжение состоит из трех составляющих: напряжения плоских зон ,
потенциала инверсии и напряжения, создаваемого зарядом подложки,.