- •1.Литье по выплавляемым моделям. Сущность процесса. Материалы форм.
- •2.Связующие материалы для литья по выплавляемым моделям.
- •3.Недостатки процесса получения отливки литьем по выплавляемым моделям.
- •4.Изготовление моделей для литья по выплавляемым моделям.
- •5.Модельные составы, их подготовка и использование при литье по выплавляемым моделям.
- •6.Требования к свойствам материалов для выплавляемых моделей
- •7. Литье по выплавляемым моделям с кристаллизацией под давлением.
- •8. .Литье в кокиль. Сущность процесса. Технологические схемы.
- •9.Регулирование режима охлаждения отливок при литье в кокиль.
- •10.Литниковы системы при литье в кокиль, под давлением.
- •11.Литье под давлением. Технологические схемы, оборудование .
- •12.Материалы и способы изготовления пресс-форм для литья под давлением.
- •13. Изготовление отливок под давлением на машинах с холодной камерой прессования
- •14.Изготовление отливок под давлением на машинах с горячей камерой прессования .
- •16. Литье под давлением в машинах с гузнеком
- •17.Качество металла отливок при литье под давлением.
- •18. Аккурад-процесс (подпресовка)
- •19. Вакуумно-компресионное литьё.
- •20. Литье с противодавлением.
- •21. Центробежное литье. Технология. Оборудование.
- •22.Литье выжиманием. Технологические схемы. Применение.
- •23.Литье в оболочковые формы. Технология. Области применения.
- •24. Смолы применяемые для оболочковых форм.
- •25.Литье по газифицируемым моделям. Технология.
- •26.Штамповка жидкого металла. Технология. Применение.
- •27.Технические и технологические возможности основных специальных видовлитья.
- •28 .Метод литья вытягиванием из расплава. Технология. Применение.
- •29. .Литье вакуумным всасыванием. Технология. Применение
- •30.Способы получения литых тонкостенных конструкций.
- •31. Электрошлаковое литьё.
- •32. Литье по моделям, полученным методом лазерной стереолитографией.
- •33. Литье в формы, полученные вакуумированием
- •35. Литьё в керамические формы (шоу – процесс).
32. Литье по моделям, полученным методом лазерной стереолитографией.
В основе метода лазерной стереолитографии лежит локальное изменение фазового состояния фотополимеризующегося материала (переход из жидкого состояния в твердое) под воздействием инициирующего лазерного излучения. Отсюда и название метода – лазерная стереолитография. Позиционирование лазерного луча в заданную точку фотополимеризующегося материала и его перемещение по нужной траектории производится на основе компьютерных данных. Эти данные с помощью пакета программ преобразуются в трехмерную компьютерную модель. Чтобы создать модель, компьютер "разрезает" изображение объекта на слои толщиной одна-две сотни микрон (при малом размере объекта – на слои толщиной 20–50 мкм). Для каждого слоя рассчитывается траектория перемещения лазерного пучка по поверхности особого фотополимеризующегося вещества, позволяющая воспроизвести контуры сечения и заполнить внутренние области сечения исследуемого объекта (тела). Сфокусированный лазерный луч инициирует полимеризацию облученной области, в результате чего образуется твердый полимер. Параметры лазерного излучения (мощность излучения и диаметр пучка), а также скорость перемещения пучка по поверхности вещества выбираются так, чтобы полимеризация эффективно протекала в слое толщиной 0,2 мм. Траектория и скорость перемещения лазерного пучка рассчитываются компьютером, управляющим двухкоординатным гальваноэлектрическим сканатором, который позиционирует пучок в заданную точку на поверхности фотополимеризирующегося материала и перемещает его по рассчитанной траектории с заданной скорость. Коэффициент поглощения излучения обрабатываемым веществом должен быть достаточно велик, с тем чтобы излучение почти полностью поглощалось тонким слоем (0,1–0,2 мм). В результате на облученной поверхности фотополимеризирующегося материала образуется пленка твердого полимера и таким образом формируется изображение, соответствующее первому сечению объекта. После завершения формирования первого слоя платформа, на которой "выращивается" модель, опускается на расстояние, равное толщине следующего слоя, и на поверхности фотополимеризирующегося материала формируется изображение, соответствующее второму сечению объекта. Параметры инициирования выбираются таким образом, чтобы второй слой надежно “приклеился” к первому. Процесс продолжается до тех пор, пока не будут изготовлены все слои. Точность изготовления стереолитографической модели с помощью установки на основе HeCd-лазера непрерывного излучения с длиной волны 325 нм достигает ±0,1 мм. Шероховатость поверхности без какой-либо обработки не превышает 100 мкм. Отвержденная ФПК легко полируется. Прочность готовых деталей сравнима с прочностью изделий из отвержденных эпоксидных смол. Готовые модели выдерживают нагрев до 100 С без изменений формы и размеров.
Объекты, созданные методом лазерной стереолитографии используются в качестве формообразующей оснастки при различных видах литья.