- •1. Предмет электроники, ее роль в науке и технике
- •2. Полупроводниковые приборы
- •2.1. Электрические свойства полупроводниковых материалов
- •2.2. Механизм электропроводности полупроводников
- •2.2.1. Собственная электропроводность
- •2.2.2. Примесная проводимость
- •2.3. Электронно-дырочный переход (эдп)
- •2.3.1. Технологии изготовления эдп
- •2.3.1.1. Сплавная технология
- •2.3.1.2. Диффузионная технология
- •2.3.2. Эдп при отсутствии внешнего напряжения
- •2.3.3. Эдп при прямом напряжении
- •2.3.4. Эдп при обратном напряжении
- •2.3.4.1. Механизм установления обратного тока при приложении
- •3. Полупроводниковые диоды
- •3.1. Вольт-амперная характеристика (вах) диода
- •3.2. Параметры полупроводниковых диодов
- •4. Виды пробоев эдп
- •4.1. Зеннеровский пробой
- •4.2. Лавинный пробой
- •4.3. Тепловой пробой
- •4.4. Поверхностный пробой
- •5. Основные типы полупроводниковых диодов
- •5.1. Устройство точечных диодов
- •5.2. Устройство плоскостных диодов
- •5.3. Условное обозначение силовых диодов
- •5.4. Условное обозначение маломощных диодов
- •5.5. Конструкция штыревых силовых диодов
- •5.6. Лавинные диоды
- •5.7. Конструкция таблеточных диодов
- •5.8. Стабилитрон
- •5.9. Туннельный диод
- •5.10. Обращенный диод
- •5.11. Варикап
- •5.12. Фотодиоды, полупроводниковые фотоэлементы и светодиоды
- •6. Транзисторы
- •6.1. Распределение токов в структуре транзистора
- •6.2. Схемы включения транзисторов. Статические вах
- •6.3. Схема включения транзистора с общей базой
- •6.4. Схема включения транзистора с общим эмиттером
- •6.5. Схема включения транзистора с общим коллектором
- •6.6. Схемы включения транзистора как усилителя
- •6.7. Краткие характеристики схем включения транзистора. Области применения схем
- •6.7.1. Схема включения транзистора с общей базой
- •6.7.2. Схема включения транзистора с общим эмиттером
- •6.7.3. Схема включения транзистора с общим коллектором
- •6.8. Режимы работы транзистора
- •6.9. Работа транзистора в ключевом режиме
- •6.10. Малосигнальные и собственные параметры транзисторов
- •6.11. Силовые транзисторные модули
- •6.12. Параметры биполярных транзисторов
- •6.13. Классификация и системы обозначений (маркировка) транзисторов
- •6.14. Полевые транзисторы
- •6.14.1. Полевой транзистор с управляющим p-n-переходом
- •6.14.2. Вольт-амперные характеристики полевого транзистора
- •6.14.3. Основные параметры полевого транзистора
- •6.14.4. Полевые транзисторы с изолированным затвором
- •6.14.4.1. Мдп-транзисторы со встроенным каналом
- •6.14.4.2. Мдп-транзистор с индуцированным каналом
- •6.14.5. Достоинства и недостатки полевых транзисторов
- •6.15. Технологии изготовления транзисторов
- •6.16. Биполярные транзисторы с изолированным затвором (igbt - транзисторы)
- •6.17. Силовые модули на основе igbt-транзисторов
- •7. Тиристоры
- •7.1 Назначение и классификация
- •7.2. Диодные и триодные тиристоры
- •7.3. Переходные процессы при включении и выключении тиристора
- •7.3.1. Переходные процессы при включении тиристора
- •7.3.2. Переходные процессы при выключении тиристора
- •7.4. Основные параметры тиристоров
- •7.5. Маркировка силовых тиристоров
- •7.6. Лавинные тиристоры
- •7.7. Симметричные тиристоры (симисторы)
- •7.8. Полностью управляемые тиристоры
- •7.9. Специальные типы тиристоров
- •7.9.1. Оптотиристоры
- •7.9.2. Тиристоры с улучшенными динамическими свойствами
- •7.9.2.1. Тиристоры тд (динамические)
- •7.9.2.2. Тиристоры тб (быстродействующие)
- •7.9.2.3. Тиристоры тч (частотные)
- •7.9.3. Тиристор, проводящий в обратном направлении (асимметричный)
- •7.9.4. Тиристор с обратной проводимостью (тиристор-диод)
- •7.9.5. Комбинированно-выключаемый тиристор (квк)
- •7.9.6. Полевой тиристор
- •7.10. Конструкции тиристоров
- •8. Групповое соединение полупроводниковых приборов
- •8.1. Неравномерности распределения нагрузки при групповом соединении
- •8.2. Параллельное соединение полупроводниковых приборов
- •8.3. Последовательное соединение полупроводниковых приборов
- •8.4. Параллельно-последовательное соединение полупроводниковых приборов
- •9. Охлаждение силовых полупроводниковых приборов
- •9.1. Способы охлаждения полупроводниковых приборов
- •9.2. Воздушное естественное и принудительное охлаждение
- •9.3. Испарительное охлаждение с промежуточным теплоносителем
- •9.4. Сравнение систем охлаждения
2.3. Электронно-дырочный переход (эдп)
Контакт между полупроводниками p- и n-типа проводимости называется электронно-дырочным переходом (ЭДП) или p-n-переходом.
ЭДП нельзя осуществить путем простого соприкосновения двух разнородных полупроводниковых пластин, т.к. при этом неизбежен промежуточный слой воздуха или поверхностных пленок.
ЭДП получают путем введения разнородных примесей в соседние области одного монокристалла различными технологическими способами, из которых для кремниевых вентилей применяют сплавной, диффузионный, диффузионно-сплавной и др.
Исходным материалом для изготовления кремниевого ЭДП является сверхчистый монокристаллический кремний, обладающий электронной проводимостью с удельным сопротивлением 1,0-1,2 Омм.
2.3.1. Технологии изготовления эдп
2.3.1.1. Сплавная технология
Монокристалл кремния разрезают на пластины толщиной 0,5-0,7 мм, из которых вырезают диски. Диаметр дисков выбирают из расчета плотности тока 0,5-1,0 А/мм2. Шлифуют, протравливают, промывают, а затем вместе с легирующими примесями располагают между вольфрамовыми дисками и помещают в графитовые кассеты. В кассете на нижний вольфрамовый диск накладываются: пластина из сплава сурьмы, серебра и свинца, затем кремниевый диск, пластина из сплава алюминия с кремнием и верхний вольфрамовый диск.
Кассеты помещают в вакуумные печи и нагревают до температуры 800-850 С несколько минут. В процессе сплавления в кремниевом диске образуются высоколегированные зоны p и n с глубиной проникновения 30-40 мкм, создающие p-n-переходы. Вольфрамовые диски, обладающие одинаковым с кремнием коэффициентом объемного расширения, служат основаниями и употребляются для уменьшения механических напряжений в кремнии, возникающих из-за нагрева кремниевых пластин.
После охлаждения вентильного элемента по окружности кремниевого диска снимается фаска, а диск по торцу покрывается специальной эмалью для защиты ЭДП от пробоя по поверхности. Для защиты от влаги, загрязнений и механических повреждений вентильный элемент помещают в герметичный корпус, состоящий из медного основания и металлостеклянной или металлокерамической крышки (стакана) с гибким выводом. При сборке вентиля нижний вольфрамовый диск припаивают к массивному медному основанию, обеспечивающему хороший отвод тепла, а верхний вольфрамовый диск – к внутренней части гибкого вывода, служащего электродом вентиля.
2.3.1.2. Диффузионная технология
На поверхность отшлифованного и очищенного диска кремния n-типа наносится раствор азотнокислого алюминия и борной кислоты. После просушки диск помещают в печь, где при температуре 1300 С в течение 8-10 часов происходит диффузия алюминия и бора в кремний на глубину 80-100 мкм, в результате чего создается зона p-проводимости.
После остывания диск с одной стороны шлифуют для удаления p-слоя и химическим никелированием образуют контакты с обеих сторон пластины. Затем полученный p-n-переход припаивают к вольфрамовым дискам и при изготовлении вентилей обрабатывают так же как и при сплавной технологии. Диффузионная технология применяется шире, так как при этом можно получать более равномерные p-n-переходы.
Также применяется и диффузионно-сплавная технология.
Применение пайки для присоединения ЭДП к выводам в ряде случаев ограничивает допустимую температуру элементов вентиля и снижает его надежность. Для мощных вентилей с большим диаметром выпрямительных элементов получили распространение таблеточные конструкции с прижимными контактами, обеспечивающие меньшие механические напряжения и двухсторонний отвод тепла от полупроводникового элемента.