- •ВВЕДЕНИЕ
- •Энергетические уровни
- •Поглощение
- •Спонтанное излучение
- •Вынужденное излучение
- •Вероятности поглощения и вынужденного излучения
- •Разрешенные и запрещенные переходы
- •Сечение поглощения. Коэффициенты поглощения и усиления. Эффект насыщения. Инверсия населенности
- •Усиленное спонтанное излучение
- •ПРИНЦИП ДЕЙСТВИЯ И УСТРОЙСТВО ЛАЗЕРА
- •Усиление и генерация электромагнитного излучения
- •Четырехуровневый лазер
- •Трехуровневый лазер
- •Способы возбуждения активных сред
- •Оптическая накачка
- •Электрическая накачка
- •Оптические резонаторы
- •Модовая структура излучения лазера
- •Плоскопараллельный резонатор (резонатор Фабри – Перо)
- •Сферический резонатор
- •Кольцевые резонаторы
- •Эффективность преобразования энергии накачки в лазерных резонаторах
- •СВОЙСТВА ЛАЗЕРНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ
- •Спектральная ширина (модовая структура) лазерного излучения
- •Монохроматичность
- •Пространственная и временная когерентность
- •Расходимость
- •Выходная мощность и яркость
- •РЕЖИМЫ РАБОТЫ ЛАЗЕРА
- •Непрерывный режим работы лазера
- •Нестационарный режим работы лазера
- •Методы модуляции добротности
- •Активные модуляторы
- •Пассивные модуляторы
- •Синхронизация мод
- •ТИПЫ ЛАЗЕРОВ
- •Твердотельные лазеры
- •Рубиновый лазер
- •Неодимовые лазеры
- •Другие типы твердотельных лазеров
- •Газовые лазеры
- •Гелий-неоновый лазер
- •Аргоновый лазер
- •СО2-лазер
- •Другие газовые и жидкостные лазеры
- •Полупроводниковые лазеры
- •Лазеры на свободных электронах
- •Рентгеновские лазеры
- •5.6. Основные технические параметры лазеров
- •ПРЕОБРАЗОВАНИЕ ЧАСТОТЫ ЛАЗЕРНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ
- •Общие сведения
- •Генерация второй гармоники
- •Оптический параметрический генератор
- •ПРИМЕНЕНИЕ ЛАЗЕРОВ
- •Применение лазеров в науке и технике
- •Применение лазеров в физике и химии
- •Лазерный управляемый термоядерный синтез
- •Применение в голографии
- •Применение в обработке и записи информации
- •Применение в оптической связи
- •Применение в биологии и медицине
- •Применение в промышленной технологии
- •Лазерная сварка
- •Лазерная резка
- •Лазерное сверление
- •Термообработка
- •Применение для измерения и контроля
- •Применение в военных целях
- •Приложение 1
- •БИБЛИОГРАФИЧЕСКИЙ СПИСОК
Такая схема позволяет плавно перестраивать длину волны излучения в пределах полосы излучения красителя. Для этого поворотом выходного зеркала M2 достигается резонансная настройка частоты выходного излучения, при этом спектральная ширина составляет от 0,01 до 0,02 нм. С другой стороны, лазеры на красителях могут работать в режиме импульсов сверхкороткой длительности (до 25 фс). КПД жидкостных лазеров с накачкой в видимом диапазоне достигает 40 %.
5.3.Полупроводниковые лазеры
Вклассической физике лазеров рассматриваются активные среды, характеризующиеся наличием относительно узких дискретных энергетических уровней. Инверсия населенностей в этом случае создается между верхним дискретным и нижележащими энергетическими уровнями. Отличительной особенностью полупроводниковых лазеров является инверсия на переходах между состояниями в широких электронных энергетических зонах полупроводникового кристалла. В этом случае нельзя использовать волновую функцию отдельного атома, так как она определяется кристаллом в целом. Энергетическая схема уровней и переходы между ними, на которых основана принцип действия полупроводникового лазера, приведена на рис. 5.9.
Энергетическую диаграмму полупроводников можно представить в виде зонной структуры. Валентная зона, которая при температуре 0 К заполнена полностью, отделена от пустой зоны проводимости запрещенной зоной (рис. 5.9, а). Под действием внешнего поля (например, энергии накачки) электроны переходят в зону проводимости. Внутри этой зоны электроны за очень короткое время (~10–13 с) переходят на ее самый нижний уровень, а все электроны вблизи максимума валентной зоны также перейдут на самые нижние из незанятых уровней, оставляя верхнюю часть свободными, т. е. заполненными «дырками». Таким образом, между валентной зоной и зоной проводимости возникает инверсия населенностей (рис. 5.9, б). При переходе электронов из зоны проводимости в валентную зону (рекомбинация) испускается фотон. Если такой полупроводник поместить в резонатор и обеспечить определенное пороговое условие, то вынужденное рекомбинационное излучение приведет к лазерной генерации в полупроводнике.
90
а) |
б) |
Рис. 5.9. Схема энергетических уровней и переходов в полупроводниках: а) валентная зона V заполнена полностью, зона проходимости С пуста; б) между зоной проводимости и валентной зоной возникает
инверсия населенностей
Полупроводниковые лазеры по способу накачки можно разделить на четыре типа: 1) инжекционные, с накачкой электрическим током; 2) лазеры с оптической накачкой; 3) лазеры с электронной накачкой пучком быстрых электронов; 4) лазеры с накачкой пробоем в электрическом поле.
Важным отличием инжекционных лазеров является электропроводность полупроводника, позволяющая осуществлять накачку электрическим током и тем самым непосредственно преобразовать электрическую энергию в лазерное излучение.
С практической точки зрения наиболее существенны следующие достоинства инжекционных лазеров:
1)компактность, обусловленная гигантским коэффициентом усиления (~104 см–1 ) в полупроводниках;
2)большой КПД (до 70 %), обусловленный высокой эффективностью преобразования подводимой электрической энергии в лазерное излучение;
3)широкий диапазон длин волн генерации от 0,3 до 30 мкм, обусловленный шириной запрещенной зоны полупроводникового материала;
91
4)возможность плавной перестройки генерации, связанная с зависимостью спектрально-оптических свойств полупроводника от температуры, давления и магнитного поля;
5)малоинерционность, обусловленная малостью времени релаксации, приводящая к возможности модуляции излучения изменением тока накачки с частотами, достигающими 10 ГГц;
6)простота конструкции, связанная с возможностью накачки постоянным током.
Для получения инжекционных лазеров требуется высокосовершенная технология выращивания и легирования. Однако для оптической накачки достаточно пользоваться однородными образцами р- и n-типа, слабо и сильно легированными проводниками. При этом вначале энергия внешнего оптического излучения преобразуется в энергию различных возбужденных состояний кристалла, а затем некоторая ее часть снова возвращается
влазерное излучение. Эффективность этих процессов определяется как характеристиками света накачки, так и свойствами полупроводника.
При накачке пучком быстрых электронов в полупроводнике образуется неравновесные носители тока за счет многоступенчатой ионизации. Накачка быстрыми электронами позволяет получить генерацию в широкозонных полупроводниках с длиной волны короче 0,6 мкм, где инжекционные лазеры не работают.
Наряду с наибольшим КПД (около 70 %) полупроводниковые лазеры обладают также и высоким спектральным разрешением. На рис. 5.10 приведена типичный спектр излучения полупроводникового лазера.
Согласно формуле L = mλ0/2n длина резонатора должна содержать целое число полуволн, распространяющихся в активной среде полупроводника. Здесь m – целое число, n – показатель преломления активной среды. Из этой формулы можно вычислить спектральную ширину между соседними линиями ∆λ = λ2/2Ln. Для кристалла GaAs (λ = 0,85 мкм), получаем ∆λ = 3,9Å.
Таким образом, благодаря своим высоким КПД и спектральным характеристикам полупроводниковые лазеры находят широкое применение
вразличных областях науки и техники.
92
Энергия hv, эВ
Рис. 5.10. Типичный спектр излучения полупроводникового лазера
5.4. Лазеры на свободных электронах
Под лазерами на свободных электронах (ЛСЭ) обычно понимают устройства, в которых происходит усиление или генерация когерентного электромагнитного излучения пучком релятивистских свободных электронов. В этом лазере электронный пучок, совершающий поступательное движение со скоростью, близкой к скорости света, находится в магнитном поле периодической структуры. Процесс вынужденного излучения происходит за счет взаимодействия электромагнитного поля лазерного пучка с релятивистскими электронами, движущимися в периодическом магнитном поле (в ондуляторе). Благодаря использованию релятивистских эффектов возможна генерация коротковолнового излучения в макроскопических системах. В случае ондуляторной накачки (рис 5.11) длина волны генерируемого излучения ЛСЭ будет составлять λg = Λ0/2γ2, где Λ0 – период ондулятора, γ2 = (1 – v2/c2) –1/2 – релятивистский фактор электронного пучка, обусловленный продольной скоростью частиц пучка. При Λ0 = 1 см, γ2 = 102 имеем λg = 10–4 см, что соответствует оптической области спектра.
93