- •Методические указания
- •«Исследование диодов»
- •Сызрань 2010
- •Сведения из теории проводимость полупроводников
- •2.1 Общие сведения о полупроводниках
- •2.2 Собственная проводимость полупроводников
- •2.3 Примесная проводимость полупроводников
- •2.4 Электронно-дырочный переход
- •2.4.1 Образование и равновесное состояние р-n перехода
- •2.4.2. Энергетическая диаграмма р-n перехода
- •2.4.3 Формулы для диффузионного и дрейфового токов
- •2.5 Электронно-дырочный переход при включении внешнего напряжения
- •2.5.1 Прямое включение р-n перехода
- •2.5.2. Обратное включение р-n перехода
- •2.6 Инжекция неосновных носителей
- •2.7. Вольт-амперная характеристика идеального р - n перехода
- •2.8 Отличие вольт-амперной характеристики
- •2.9 Виды пробоя р-n перехода
- •2.10 Емкость р-n перехода
- •2.11. Эквивалентная схема р-n перехода
- •Полупроводниковые диоды
- •3.1. Классификация полупроводниковых диодов
- •3.2 Устройство полупроводниковых диодов
- •3.3. Основные общие параметры диодов
- •3.4. Типы полупроводниковых диодов
- •3.4.1. Выпрямительные диоды
- •3.4.1.1 Вольт-амперные характеристики выпрямительных диодов
- •3.4.1.2 Влияние температуры и проникающей радиации на характеристики и параметры диодов
- •3.4.2. Универсальные (высокочастотные) диоды.
- •3.4.3. Сверхвысокочастотные диоды
- •3.4.4. Переключательные p-I-n диоды
- •3.4.5. Варикапы
- •3.4.6. Импульсные диоды
- •3.4.7. Туннельные и обращённые диоды
- •3.4.8. Стабилитроны и стабисторы
- •3.4.9. Фотодиоды
- •3.4.10. Излучательные диоды
- •Выполнение лабораторной работы на лабораторном стенде «тэц и оэ – нрм» Перечень используемых минимодулей
- •Порядок выполнения работы
- •Выполнение лабораторной работы на лабораторном стенде 17д – 01.
- •Порядок выполнения работы.
- •Содержание отчета.
- •Контрольные вопросы.
- •Литература.
2.4.2. Энергетическая диаграмма р-n перехода
Наглядное представление о характере движения носителей можно получить с помощью энергетической диаграммы. Известно, что уровень Ферми в беспримесном полупроводнике расположен в середине запрещённой зоны, в полупроводнике типа р он смещён к валентной зоне, а в полупроводнике типа n – к свободной зоне. Так как, монокристалл полупроводника с областями р и n типа представляет собой единое целое, то уровень Ферми в условиях термодинамического равновесия должен быть единым для всех её областей. Поскольку в каждой области ширина запрещённой зоны и взаимное расположение уровней Ферми относительно зон проводимости и валентной зоны измениться не может, то совмещение уровней Ферми неизбежно вызывает сдвиг энергетических уровней, вызванный накоплением приместных атомов. Положительный заряд донорных атомов вызывает сдвиг энергетических уровней в сторону увеличения положительного потенциала, т.е. вниз т.к. потенциал связан с энергией следующей формулой : W=-qφ (энергия становится более отрицательной) . В то же время отрицательный заряд акцепторных атомов сдвигает уровни области р- вверх (рис. 2.7).
Рис 2.7
В результате сдвига энергетических уровней в р- n переходе создаётся энергетический, а следовательно, и потенциальный барьер. Из энергетической диаграммы р- n перехода видно, что переход электронов в область р возможен только для электронов,обладающий энергией, превышающей энергию Wср. Дырки, обладающие энергией, меньше энергии Wср могут переходить из области р в область n.
Перенесение неосновных носителей зарядов не зависит от высоты энергетического (или потенциального) барьера в р- n переходе определяется положениями уровней Ферми в р и n областях, которые в свою очередь зависят от концентрации примесей в них. Зависимость высоты потенциального барьера определяется формулой:
(2.2)
где Uко и Wо - разность потенциалов и энергетический барьер в р- n переходе при отсутствии внешних напряжений;
- температурный потенциал;
q - заряд электрона;
к - постоянная Больцмана;
Т - абсолютная температура.
Из приведённого выражения видно, что чем больше разница концентраций одноимённых зарядов в р и n областях, т.е. чем больше градиент концентрации, тем выше потенциальный барьер.
При комнатной температуре (Т=3000К), температурный потенциал равен φт = 0,026 В. Откуда можно найти, что для большинства кремниевых переходов потенциальный барьер равен 0,7 … 0,8 В, а у германиевых переходов – 0,3 … 0,4 В.
2.4.3 Формулы для диффузионного и дрейфового токов
Как было показано выше, если в полупроводнике имеются отдельные области с избыточной концентрацией носителей зарядов. То в процессе выравнивания концентраций возникает движение носителей в направлении ее убывания, т.е. образуются диффузионные токи. Чем больше градиент концентрации, тем больше диффузионный ток. Плотности диффузионного электронного и дырочного токов определяются по следующим формулам:
, (2.3)
где Дn , Др - коэффициенты диффузии электронов и дырок;
- градиент концентрации электронов и дырок.
Под действием электрического поля подвижные носители движутся (дрейфуют), образуя дрейфовые токи (токи проводимости).
Плотности тока проводимости определяются следующими выражениями
, (2.4)
, (2.5)
где - напряжённость электрического поля.