3. Тонкое шлифование и полирование линз

Тонкое шлифование выполняет способом притира с использованием инструмента в виде гриба, чашки или план-шайбы. Притир может быть реализован по классической схеме примененным при шлифовании свободным абразивом и по схеме принудительного формообразования. Тонкое шлифование алмазным инструментом отличается от шлифования свободным абразивом высокой интенсивностью процесса и стабильностью воспроизведения конструктивных параметров изделий при многократном повторении операции.

Стабильность обеспечивается малым изнашинием алмазных инструментов по отношению к стеклу 1:1000. Незначительное изменение формы рабочей поверхности инструмента определяет его возможность многократного использования. Шлифование плоских заготовок проводят в 2 перехода: 28/20, 10/7. Устанавливают ее в зависимости от размера обрабатываемой поверхности. Если толщина сошлифованного припуска больше 50 мкм. Операцию выполняют за 3 перехода: 40/28, 28/20, 10/7.

Шлифование сферических заготовок и блоков выполняют за 2 и более переходов, их число зависит от относительной кривизны обработанной поверхности.

Режим тонкого шлифования алмазным инструментом сферических и плоских поверхностей: частота вращения шпинделя инструмента 1,3 – 60 об/сек, частота качания верхнего звена 24 – 80 ход/мин.

Полирование. Точное полирование осуществляется на полировальниках и смолы и обеспечивает получение плоских и сферических поверхностей с высокой точностью. Точное полирование применяют для всех оптических деталей, поверхности которой рабочим пробного стекла или интерферометром.

Требуемая точность поверхности достигается особыми приемами работ. Перед началом работы проверяют наладку станка с учетом техники полирования данной детали.

Режимы станка применимы такие же как для тонкого шлифования.

Блок тщательно промывают после тонкого полирования от остатков шлифующих порошков, рассматривают обращая особое внимание на качество шлифованной поверхности, при необходимости зазоры между деталями очищают от смолы. Полировальник равномерно подрезают по всей поверхности, подогревают в горячей воде и смазывают полирующей суспензией. Когда нижний инструмент будет установлен на шпиндель, осуществляют ручную прополировку верхним инструментом, после чего на него опускают поводок и включают станок. Подачу полирующей суспензии производят в ручную или автоматически. Ручная подача осуществляется путем встряхивание кисти над поверхностью гриба в момент наибольшего смещения верхнего инструмента (подача суспензии и воды 1:3, что сокращает расход суспензии). Автоматическая подача полирующей суспензии способом циркуляционного питания осуществляется с помощью помпой. Блок полируют до получения требуемого цвета и чистоты поверхности без царапин и точек, время полирования сильно зависит от качества шлифования, диаметра блока, свойств стекла, полировальника и полирующего материала, а так же требований к цвету.

4. Тонкослойные покрытия позволяют изменять оптические, химические, электрические и другие свойства оптических деталей. В настоящее время более 98% оптических деталей имеют покрытия, которые можно разделить на оптические, электропроводящие и защитные. К основным видам покрытий относятся оптические; их удельный вес составляет около 90%.

В последнее время широкое распространение получили вакуумные и химические методы нанесения покрытий.

Вакуумные установки для нанесения тонких пленок, несмотря на многообразие их назначения и конструктивного оформления. Состоят из следующих основных элементов: источника генерации потока частиц осаждаемого материала; вакуумной системы, обеспечивающей требуемые условия для проведения технологического процесса; транспортно-позиционирующих ввод подложек в зону нанесения пленок и ориентирование обрабатываемых поверхностей относительно потока частиц наносимого материала.

Для равномерности нанесения покрытий используют несколько видов подложкодержателей, т.к. толщина пленки в данной точке подложки определяется количеством частиц достигающих ее в единицу времени. Если бы поток наносимых частиц был одинаков, на всю поверхность подложки, пленка получалась бы одинаковой толщины. Однако площадь испарителей веществ во много раз меньше площади подложкодержателей (поэтому их называют точечными источникам). В результате добиться равномерности потока невозможно.