likbez

В помощь пользователю

По результатам качественного анализа:

1). Определить, какие элементы, кроме аналитов, необходимо измерять в количественном анализе (по пробе max), чтобы учесть их влияние на аналиты.

2). Определить, на каком кристалле, по какой линии (α, β) элемента и при каком токе будем измерять каждый аналит (по пробе max).

3). Определить, нужно ли учитывать фон (по пробе min).

4). Определить метод вычитания фона и значения длин волн фоновых точек (по пробе max).

5). Определить время экспозиции для каждой измеряемой линии (по пробе min), операция «вычисление».

6). Определить необходимость учета матрицы и метод учета матрицы (по наложению проб max и min, max и рабочей пробы, min и рабочей пробы).

7). Определить, по каким аналитическим линиям будем учитывать дрейф пробора, имея в виду, что для каждой измеряемой линии в каждом порядке, на каждом кристалле и каждом токе нужно измерять хотя бы одну линию из контрольного образца, который служит для учета дрейфа прибора. Для лучшего учета предварительно снять «быстрый» спектр контрольного образца, поставляемого вместе с прибором.

Зав.химической лабораторией НПО "Спектрон" к.х.н. Майорова Е.Н.

51

В помощь пользователю

Приложение. Приблизительный состав Контрольного Образца

SiO2 ............	основа
Ti......................	1 %
Cr .....................	1 %
Ni .....................	1 %
Zn.....................	1 %
Zr......................	7 %
Cd.....................	7 %
Ba.....................	2 %
Pb .....................	2 %

ВНИМАНИЕ! Значения концентраций элементов - приблизительные и могут меняться в зависимости от даты изготовления образца.

52