- •Глава 1
- •Глава 2
- •2.1 Идеальная вольт-амперная характеристика диода
- •2.2 Результаты изучения вах идеального диода
- •2.3 Отличие реальной вах диода от идеальной
- •2.3.1 Прямое включение (прямая ветвь)
- •2.3.2 Обратное включение (обратная ветвь)
- •2.4 Туннельный пробой
- •2.5 Лавинный пробой
- •2.6 Тепловой пробой
- •2.7 Ёмкости p-n-перехода
- •2.8 Разновидности диодов
- •2.8.1 Выпрямительные диоды
- •2.8.2 Импульсные диоды
- •2.8.3 Диоды с выпрямляющим контактом металл-полупроводник (диоды Шотки)
- •2.8.4 Стабилитроны и стабисторы
- •2.8.5 Варикапы
- •2.8.6 Туннельные диоды
- •2.8.7 Обращённые диоды
- •2.9 Маркировка диодов
- •Глава 3
- •3.1 Основные схемы включения транзисторов
- •3.2 Распределение потока носителей заряда в биполярном транзисторе
- •3.2.1 Активный режим работы
- •3.2.2 Режим насыщения
- •3.2.3 Режим отсечки
- •3.3 Статические характеристики транзистора
- •3.3.1 Статические характеристики транзисторов в схеме с общей базой
- •3.3.2 Статические характеристики транзисторов в схеме с общим эмиттером
- •3.3.3 Отличия статических характеристик транзисторов в схеме с об от статических характеристик транзисторов в схеме с оэ
- •3.4 Пробой в транзисторе
- •3.5 Зависимость коэффициента усиления от режима работы транзистора
- •3.6 Малосигнальные параметры транзисторов (система “h-параметров”)
- •3.7 Частотные характеристики
- •3.9 Работа на импульс по схеме с оэ Этот пункт предназначен для домашнего рассмотрения.
- •Глава 4
- •4.1 Полевые транзисторы с управляющим p-n-переходом
- •4.1.1 Принцип действия полевого транзистора с p-n-переходом
- •4.1.2 Статические характеристики полевого транзистора с p-n-переходом
- •4.2 Полевые транзисторы с изолированным затвором (мдп-транзисторы)
- •4.2.1 Принцип действия транзистора с изолированным затвором и индуцированным каналом
- •4.2.2 Статические характеристики транзистора с изолированным затвором
- •4.2.3 Полевой транзистор с изолированным затвором и встроенным каналом
- •4.3 Полевые транзисторы со статической индукцией (сит)
- •4.4 Частотные свойства полевых транзисторов
- •4.5 Работа полевых транзисторов на прямоугольный импульс
- •4.6 Полупроводниковые приборы с зарядовой связью
- •4.6.1 Основные характеристики (параметры) приборов с зарядовой связью
- •4.6.2 Разновидности приборов с зарядовой связью
- •Глава 5
- •5.1 Динистор
- •5.2 Тиристор с управляющим электродом (тринистор)
- •5.3 Симметричные тиристоры (симисторы)
- •5.4 Способы переключения. Процесс включения тиристора
- •5.5 Основные параметры и конструкция тиристоров
- •5.6 Icbt-транзисторы
- •Глава 6
- •6.1 Полупроводниковые приёмники излучения
- •6.1.1 Фоторезисторы
- •6.1.2 Фотодиоды
- •6.1.2.1 Спектральная характеристика фотодиодов
- •6.1.2.2 Фотодиоды на основе контакта металл-полупроводник
- •6.1.2.3 Фотодиоды на основе гетероперехода
- •6.1.3 Полупроводниковые фотоэлементы
- •6.1.4 Фототранзисторы
- •6.1.5 Фототиристоры
- •6.2 Полупроводниковые излучатели света
- •6.2.1 Светодиоды
- •6.2.1.1 Параметры светодиодов
- •6.2.1.2 Кпд или эффективность светодиодов
- •6.2.2 Полупроводниковые лазеры
- •6.2.2.1 Конструкция и принцип действия инжекционного лазера
- •6.2.2.2 Структура полупроводникового лазера
- •6.2.2.3 Основные отличия
- •6.2.3 Электролюминесцентные порошковые излучатели
- •6.2.4 Плёночные люминесцентные излучатели
- •6.3 Оптоэлектронные приборы
- •6.3.1 Оптроны
- •6.3.2 Варисторы
6.1.2 Фотодиоды
Полупроводниковый фотодиод– фоточувствительный прибор сp-n-переходом или с выпрямляющим контактом металл-полупроводник.
В фотодиодах наиболее часто используется обратная ветвь ВАХ.
.
При освещении p-n-перехода световым потоком фотоны могут создавать пары носителей заряда вблизи p-n-перехода или в самом p-n-переходе. Если это произошло на длине свободного пробега от p-n-перехода, то носители заряда разделяются. Через p-n-переход будет протекать ток, величина которого прямо пропорциональна величине светового потока и практически не зависит от обратного приложенного напряжения.
Световая характеристика фотодиода – зависимость обратного фототока от освещённости. Представляет собой прямую линию, что объясняется тем, что толщина базы фотодиода значительно меньше длины свободного пробега. Практически все носители заряда, которые возникают в базе диода за счёт генерации, достигают p-n-перехода, участвуют в образовании . Потери неосновных носителей заряда незначительны и не зависят от величины освещённости.
Важным следствием является то, что фототок не зависит от приложенного напряжения, поэтому фотодиод характеризуется не удельной интегральной чувствительностью, а просто интегральной чувствительностью:
. (6.4)
Ещё одна важная особенность: малая инерционность (высокое быстродействие). На это могут влиять три основных фактора:
1) Время диффузии или дрейфа неосновных носителей заряда: .
2) Время пролёта неосновных носителей заряда через p-n-переход: .
3) Время перезарядки барьерной ёмкости p-n-перехода: .
В фотодиодах толщина базы имеет малые размеры (десятки мкм). Поэтому- не более 50 нс.
Время пролёта носителей заряда через p-n-переход определяется толщиной перехода и скоростью носителей. = 0,1 – 1 нс.
зависит от обратного напряжения. Чем больше напряжение, тем меньше ёмкость.
Общее время задержки – не более 100 нс. Лучшие диоды: = 10 нс.
Это самые быстродействующие фотоэлектронные приборы.
6.1.2.1 Спектральная характеристика фотодиодов
Эта характеристика также определяется со стороны больших длин волн шириной запрещённой зоны, а со стороны коротковолновой части − увеличением поглощения. Основная масса носителей заряда сосредоточена в поверхностном слое.
Большинство фотодиодов имеют максимум чувствительности в инфракрасной области.
6.1.2.2 Фотодиоды на основе контакта металл-полупроводник
Эти диоды выполняются на основе полупроводников, на которые нанесён тонкий слой золота.
Отличия:
1. В фотодиодах с использованием барьера Шотки высота потенциального барьера может быть ниже, нежели в кремниевых фотодиодах. Фотоны, имеющие энергию, меньшую, чем энергия запрещённой зоны полупроводника, могут поглощаться в металле. Низкочастотная характеристика таких фотодиодов располагается дальше.
2. С уменьшением длины волны и увеличением показателя поглощения в полупроводнике квантов света последние продолжают поглощаться в зоне объёмного заряда, где существует электрическое поле. Высокочастотная часть будет располагаться значительно дальше, чем у обычных фотодиодов. Спектральная характеристика значительно шире, чем у фотодиодов с p-n-переходом.
Кроме того, в этих фотодиодах сопротивление базы значительно меньше, и толщина этой базы невелика. В результате задержка на пролёт области базы, а также задержка на перезарядку барьерной ёмкости пренебрежимо малы. Основную задержку в этих фотодиодах вносит время пролёта через область объёмного заряда. Эта величина колеблется в пределах: 0,01 – 0,1 нс. Это позволяет использовать частоту модуляции светового потока очень высокой, вплоть до СВЧ-диапазона.