- •1. Классификация твердых тел по электрофизическим свойствам.
- •2. Основы зонной теории твердого тела.
- •4. Понятие эффективной массы электрона.
- •6. Плотность электронных состояний.
- •7. Функция Ферми-Дирака
- •8. Концентрация эл-ов и дырок в зонах.
- •9. Концентрация носителей заряда в невырожденном проводнике.
- •10. Концентрация носителей заряда в вырожденном полупроводнике
- •11. Степень заполнения примесных уровней. Уравнение электронейтральности
- •12. Температурная зависимость концентрации плотности заряда в полупроводниках
- •13. Температурная зависимость электропроводимости п/п-ов.
- •14. Квазиуровень Ферми.
- •15.Время жизни неравновесных носителей заряда. Межзонная рекомбинация
- •16. Фотопроводимость полупроводников. Эффект Дембера
- •17.Уравнение непрерывности
- •18. Дрейфовые и диффузионные токи
- •19 Диффузия и дрейф неравновесных носителей заряда в случае в случае монополярной проводимости
- •20. Диффузия и дрейф неосновных избыточных носителей заряда
- •21. Полупроводник во внешнем электрическом поле.
- •22. Контакт метал-полупроводник. Омический контакт
- •23.Выпрямление тока в контакте метал-полупровадник. Диоды Шотки
- •27. Выпрямление тока в р-n переходе.
- •26. Толщина слоя объемного заряда p/n перехода.
- •28, Вах тонкого р-н перехода
- •29. Барьерная и диффузионная емкости p-n-перехода
- •31. Фотоэффект на p-n-переходе
- •32. Гетеропереход.
- •33. Принцип действия б.Т. Физические параметры б.Т.
- •36. Эффект поля. Мдп-транзисторы.
- •24. Емкость запорного слоя Шотки
- •3. Заполнение энерг. Зон эл. И деление тел на металы, диэл., полупров.
36. Эффект поля. Мдп-транзисторы.
В полевых транзисторах с изолированным затвором поперечное электрическое поле прикладывается к металлическому электроду, отделенному от полупроводника слоем диэлектрика. Рассмотрим энергетическую диаграмму структуры металл-диэлектрик-полупроводник, сокращенно называемой МДП.
При приложении внешнего напряжения U3 такой полярности, что металл заряжается положительно, на границе полупроводника с диэлектриком появляется индуцированный отрицательный заряд.
При смене полярности внешнего напряжения в полупроводнике индуцируется положительный заряд, образуемый в результате оттеснения электронов от поверхности в глубь полупроводника.
В зависимости от знака и величины внешнего напряжения поверхностная проводимость может уменьшаться, увеличиваться, а также менять знак носителей заряда. Изменение поверхностной проводимости полупроводника, являющегося одной из обкладок конденсатора, при изменении напряжения на нем называется «эффектом поля». Этот эффект используется в полевых транзисторах с изолированным затвором, называемых по типу структуры МДП-транзисторами.
Существует два типа МДП-транзисторов, со встроенным и инверсным каналами.
МДП-транзистор со встроенным каналом может работать при любой полярности напряжения на затворе. При положительном напряжении область канала обогащается электронами и его сопротивление уменьшается, а при отрицательном – наоборот. Соответственно меняется ток между истоком и стоком.
В конструкции МДП-транзистора с инверсным каналом диффузионная область n-типа отсутствует. При отсутствии напряжения на затворе n контакты разъединены областью р-типа и ток между ними не протекает. Если напряжение на затворе положительное, то концентрация дырок у поверхности уменьшается и при достаточной величине U3 электронов у поверхности может стать больше, чем дырок, т. е. произойдет инверсия типа электропроводности полупроводника. Вследствие этого на поверхности образуется канал n-типа проводимости и между истоком и стоком протекает ток. МДП-транзистор с индуцированным каналом работает только при одной полярности напряжения на затворе в отличие от транзистора со встроенным каналом.
Выходные характеристики МДП-транзистора со встроенным каналом n-типа
Подложка, на которой изготавливается МДП-транзистор, имеет противоположный каналу тип проводности. При подаче на нее обратного смещения она действует как затвор в полевом транзисторе с р-n-переходом. Изменяя постоянное напряжение на подложке, можно менять начальную ширину капала, а следовательно, сдвигать напряжение отсечки металлического затвора.
Задачи
Через пластину кремния с уд. сопр. ρ=0,01 Ом*м протекает эл. ток j=10 мА/мм2. Подвижность электронов μn=0,14 м2/Вс, дырок μp=0,05 м2/Вс. Найти и .
Решение
№3
Ур. Ферми в полупроводнике находится на 0,3 эВ ниже ЗП. Какова вероятность того, что при комн. температуре энерг. уровни, расположенные на 3kT выше дна ЗП заполнены электронами?
Ec – F = 0,3 эВ
Т = 300k
E – Ec = 3kT
fn – ?
(kT = 0,026 эВ)