- •Лабораторная работа 1 температурная зависимость проводимости полупроводниковых материалов
- •1.1 Основные понятия и определения
- •1.2. Описание образцов, использованных в работе
- •1.3. Описание установки
- •1.4. Проведение испытаний
- •1.5. Обработка результатов.
- •1.6. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 2 исследование полупроводниковых выпрямительных диодов
- •2.1. Основные понятия и определения
- •2.2. Описание установки
- •2.3. Проведение исследований
- •2.3.1. Исследование прямой ветви вольт-амперной характеристики
- •2.3.2. Исследование обратной ветви вольт-амперной характеристики
- •2.3.3. Исследование частотных свойств выпрямительного диода
- •2.3.4 Исследование вольт-амперной характеристики диодов при повышенной температуре
- •2.4. Обработка результатов
- •2.5. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 3 исследование статических характеристик и параметров биполярного транзистора
- •3.1. Основные понятия и определения
- •3.2. Исследование статических характеристик биполярного транзистора методом характериографа
- •3.2.1. Описание установки
- •3.2.2. Исследование статических характеристик транзистора
- •3.2.3. Исследование статических коэффициентов передачи тока транзистора
- •3.2.4. Измерение обратного тока коллектора
- •3.2.5. Исследование пробивного напряжения транзистора
- •3.3. Обработка результатов и расчет параметров
- •3.5. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 4 исследование статических характеристик и параметров полевых транзисторов
- •4.1. Основные понятия и определения
- •4.2. Описание установки
- •4.3. Проведение измерений
- •4.4. Обработка результатов и расчет параметров
- •4.5. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 5 исследование биполярного транзистора при работе на малом переменном сигнале
- •5.1. Основные понятия и определения
- •5.2. Описание установки
- •5.3. Проведение испытаний
- •5.3.1. Исследование h-параметров транзистора в схеме с общей базой
- •5.3.2. Исследование h-параметров транзистора в схеме с общим эмиттером
- •5.3.3. Исследование частотных зависимостей коэффициентов передачи токов эмиттера и базы
- •5.4. Обработка результатов
- •5.5. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 6 исследование импульсных свойств биполярного транзистора
- •6.1. Основные понятия и определения
- •6.2. Схема установки
- •6.3. Проведение испытаний
- •6.3.1. Подготовка к испытаниям
- •6.3.2. Исследование зависимости времени нарастания и времени рассасывания от напряжения источника питания в цепи коллектора
- •6.3.3. Исследование зависимости времени нарастания и времени рассасывания от амплитуды импульса тока эмиттера
- •6.4. Обработка результатов
- •6.5. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 7 исследование интегральных микросхем
- •7.1. Основные понятия и определения
- •7.2. Описание установки
- •7.3. Проведение испытаний
- •7.3.1. Определение логических операций, выполняемых полупроводниковой микросхемой
- •7.3.2. Исследование входной и прямой передаточной характеристик логической полупроводниковой микросхемы
- •7.3.3. Определение мощности, потребляемой логической полупроводниковой микросхемой
- •7.3.4. Изучение конструкции гибридной имс
- •7.4. Обработка результатов и расчет параметров
- •7.5. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 8 исследование полупроводниковых источников излучения
- •8.1. Основные понятия и определения
- •8.2. Описание установки
- •8.3 Проведение измерений
- •8.3.1. Исследование спектральных характеристик сид
- •8.3.2. Исследование яркостных и вольт-амперных характеристик сид
- •8.3.3. Исследование яркостной характеристики ил
- •8.3.4. Исследование спектральных характеристики ил
- •8.4. Обработка результатов
- •9.1. Основные понятия и определения
- •9.2. Описание установки
- •9.3. Проведение испытаний
- •9.3.1. Исследование спектральной характеристики фд
- •9.3.2. Исследование световых характеристик фд
- •9.4. Обработка результатов
- •9.5. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 10 исследование полупроводниковых стабилитронов и стабистора
- •10.1. Основные понятия и определения
- •10.2. Установка для исследований
- •10.3. Порядок проведения исследований
- •10.3.1. Исследование вах стабилитрона
- •10.3.2. Исследование параметров стабилитронов
- •10.3.3. Исследование параметрического стабилизатора напряжения
- •10.4. Обработка экспериментальных результатов и расчет параметров
- •10.5. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 11 исследование тиристора
- •11.1. Основные понятия и определения
- •11.2. Описание установки
- •11.3. Проведение исследований
- •11.3.1. Исследование вольт-амперной характеристики тиристора
- •11.3.2. Измерение параметров тиристора
- •11.3.3. Исследование зависимости напряжения включения тиристора от тока управляющего электрода
- •11.3.4. Исследование параметров тиристора при повышенной температуре
- •11.3.5. Исследование регулятора мощности
- •11.4. Обработка результатов
- •11.5. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа 12 исследование туннельных диодов
- •12.1. Основные понятия и определения
- •12.2. Описание установок для проведения исследований
- •12.2.1. Схема для исследования вольт-амперной характеристики тд
- •12.2.2. Схема для изучения эффекта дискретно-аналоговой памяти
- •12.2.3. Схема для исследования эффектов усиления и генерации электрических сигналов
- •12.3. Порядок проведения исследований
- •12.3.1. Исследование вольт-амперной характеристики
- •12.3.2. Исследование функции дискретно-аналоговой памяти
- •12.3.3. Изучение эффекта усиления
- •12.3.4. Изучение эффекта генерации
- •12.4. Обработка результатов
- •12.5. Контрольные вопросы
- •Список рекомендованной литературы
- •Содержание
3.5. Контрольные вопросы
1. Каким образом в транзисторе происходит усиление электрических колебаний по мощности?
2. Объясните статические характеристики транзистора в схеме с ОЭ.
3. Почему обратный ток коллектора в схеме с ОЭ больше, чем в схеме с ОБ?
4. Какие физические процессы происходят в транзисторе при его пробое?
5. Как объяснить различие выходных проводимостей транзистора в схеме с ОБ и ОЭ?
Лабораторная работа 4 исследование статических характеристик и параметров полевых транзисторов
4.1. Основные понятия и определения
Полевой транзистор – это полупроводниковый прибор, усилительные свойства которого обусловлены потоком основных носителей, протекающим через проводящий канал и управляемым электрическим полем (рис. 4.1).
Среди полевых транзисторов важное место занимают МДП-транзис-торы с индуцированным каналом и полевые транзисторы с управляющим p-n-переходом. Структура МДП-транзистора с индуцированным n-каналом показана на рис. 4.1, а и 4.2.
|
|
||
а |
б |
||
Рис. 4.1. Структура: а – МДП-транзистора с индуцированным каналом; б – полевого транзистора с управляющим p-n-переходом |
|||
|
|
|
|
|
|||
|
|||
|
|||
|
|||
|
|||
|
|
а |
|
б |
|
в |
Рис. 4.2. Изменение формы канала (и области объемного заряда) в МДП-транзисторе при UЗИ > UЗИ пор: а – UСИ < UЗИ; б – UСИ ~ UЗИ; в – UСИ > UЗИ |
Так как ток затвора из-за наличия диэлектрика практически отсутствует, для описания работы МДП-транзистора используется семейство вольт-амперных характеристик передачи (в биполярном транзисторе – входные ВАХ), а также семейство выходных ВАХ (рис. 4.3).
|
|
а |
б |
Рис. 4.3 ВАХ МДП-транзистора: а – передачи; б – выходные |
Статические вольт-амперные характеристики передачи МДП‑тран-зистора – это зависимости тока стока IС от напряжения на затворе относительно истока UЗИ, IС = f (UЗИ), при различных фиксированных напряжениях на стоке UСИ (рис. 4.3, а). Характеристики для разных напряжений на стоке выходят из точки на оси абсцисс, соответствующей пороговому напряжению UЗИ пор.
С ростом напряжения на затворе растет концентрация носителей заряда в канале, следовательно, и ток стока. При большом напряжении на затворе UЗИ заряд в канале экранирует влияние затвора на подложку и ток стока IC практически не увеличивается. Носители заряда в канале движутся под действием напряжения на стоке (дрейф под действием поля в канале), поэтому с увеличением напряжения на стоке растут дрейфовая скорость носителей заряда, а также ток стока. По характеристике передачи можно найти основной параметр, определяющий усилительные свойства прибора – крутизну характеристики передачи S = dIС/dUЗИ при UСИ = const.
Выходные статические характеристики МДП-транзистора – это зависимости тока стока IС от напряжения на стоке относительно истока UСИ, IС = f (UСИ), при различных фиксированных напряжениях на затворе UЗИ (рис. 4.3, б). При напряжении на затворе, большем порогового, характеристика выходит из начала координат. Вначале она линейна и проходит под углом, соответствующим сопротивлению канала между стоком и истоком в открытом состоянии транзистора, RCИ отк = UСИ/IC (см. рис. 4.2, а).
|
а |
|
б |
|
в |
Рис. 4.4. Изменение формы канала (и области объемного заряда) в полевом транзисторе с управляющим p-n-переходом: а – UСИ = UЗИ = 0; б – UСИ ~ UЗИ; в – UСИ > UЗИ |
При увеличении напряжения на затворе с возрастанием концентрации носителей заряда в канале при малых напряжениях на стоке увеличивается ток стока (характеристики имеют больший наклон) и возрастает напряжение насыщения, поэтому вся характеристика смещается в область больших токов стока.
Структура полевого транзистора с управляющим p-n-переходом показана на рис. 4.1, б и 4.4. В нем канал уже существует, а модуляция сопротивления канала и, следовательно, управление током стока происходят при изменении обратного напряжения на p-n-переходе затвора: изменяются геометрические размеры канала, но не изменяется концентрация носителей в канале (рис. 4.4). С увеличением напряжения на затворе растет толщина p-n-перехода и сужается толщина канала, следовательно, растет сопротивление канала протекающему через него току стока. Поэтому здесь (в отличие от МДП-транзистора) ток стока с ростом напряжения на затворе уменьшается (рис. 4.5, а – ВАХ передачи), и при некотором напряжении UЗИ отс – напряжении отсечки – канал полностью перекрывается областью объемного заряда, т. е. сток полностью отсекается от истока.
В этом случае ток стока минимальный, он определяется только током обратно смещенного p-n-перехода. При фиксированном напряжении на затворе (рис. 4.5, б – выходная ВАХ) вначале при малом напряжении на стоке ток стока быстро растет (ВАХ линейна), затем с ростом напряжения на стоке область p-n-перехода расширяется в сторону стока (рис. 4.4, б), что приводит к сужению канала и, следовательно, к росту сопротивления канала и замедлению роста тока стока (участок сублинейный). Это соответствует крутому участку ВАХ. Далее канал, сужаясь, практически не изменяет своей толщины (рис. 4.4, в), и ВАХ переходит в область насыщения – ток стока меняется незначительно (рис. 4.5, б).
|
|
а |
б |
Рис. 4.5. ВАХ полевого транзистора с управляющим p-n-переходом: а – передачи; б – выходные |
Таким образом, вид выходной ВАХ совпадает с видом ВАХ МДП-тран-зистора, но при нулевом напряжении на затворе ток стока максимальный. С увеличением напряжения на затворе ток стока уменьшается, и при большем напряжении на затворе (по абсолютному значению) выходная ВАХ полевого транзистора с управляющим p-n-переходом (в отличие от МДП-транзистора с индуцированным каналом) смещается в область меньших токов.