- •1.Потенц барьер на пов-ти. Работа выхода.
- •2.Термоэлектронная эмиссия и её законы.
- •3.Термоэлектронная эмиссия при наличии ускоряющего поля.
- •4.Электростатическая эмиссия.
- •5.Фотоэлектронная эмиссия и её законы.
- •6.Характеристики и параметры фотоэлектронной эмиссии.
- •7.Вторичная электронная эмиссия.
- •15. Статические параметры диодов.
- •19. Физические процессы в триоде.
- •14. Реальна вах двохэлектродных вакуумных систем и ее отличие от теоретической.
- •8.Характеристики катода.
- •Параметры катодов
- •Катоды из чистых металлов
- •Плёночные катоды
- •Полупроводниковые катоды.
- •9.Движение ел. В однородном эл. Поле
- •10. Движ. Эл. В неоднородном эл. Поле.
- •11. Движение электронов в магнитном поле
- •12.Влияние обемного заряда напрохождение тока в двух зл. Лампе.
- •23.Рабочие параметры триода.
- •24.Выбор рабочего режима триода.
- •20.Статические характеристики и параметры триода.
- •21.Токораспределение и закон 3/2 для трех электродных ламп.
- •22. Характеристики триода в рабочем режиме.
- •25 Экранирующая сетка в эл. Лампе.
- •26. Динатронный эффект в тетродах.
- •27.Лучевой тетрод
- •28.Пентод и его характеристики.
- •29. Устройство электронно--лучевой трубки.
- •30.Системы что фокусируют, и системы что отклоняют, элт.
- •31. Экраны элт
- •32. Кинескопы
- •33.Электронновакуумные и газонаполненные фотоэлементы.
- •34. Фотоэлектронный умножитель
- •35. Види електричного розряду в газі. Збудження і іонізація атомів газу.
- •36. Самостоятельный разряд в газе
- •38. Пролетный клистрон
- •39. Отражательный клистрон
- •40. Магнетрон
- •1.Потенц барьер на пов-ти. Работа выхода.
- •2.Термоэлектронная эмиссия и её законы.
- •1.Потенц барьер на пов-ти. Работа выхода.
- •2.Термоэлектронная эмиссия и её законы.
7.Вторичная электронная эмиссия.
Если на пов-ть металла падает поток эл-нов, обладающих большой энергией, то наблюдается идущий от этой пов-ти новый встречный поток эл-нов – вторичная эмиссия.
Если постоянно увеличивать ускоряющее напряжение, то при малых значениях только отражённые эл-ны, при главную часть встречного потока эл-нов будут составлять вторичные эл-ны. При больших энергиях эл-нов в ряде случаев получают поток вторичных эл-нов > первичных эл-нов, т. е. это указывает на то, что каждый первичный эл-н освобождает из металла не один, а несколько вторичных эл-нов.
Отношение кол-ва вторичных эл-нов, выходящих из металла, к числу первичных эл-нов, падающих на металл, наз коэффициентом вторичной эмиссии.
Измерения величины для различных материалов показали, что у чистых ме не превышает 11,2. Для сложных активированных пов-тей достигает 810. Коэффициент вторич эмиссии зависит от энергии первичных электронов.
Вначале увеличивается по нелинейному закону. Достигая некоторого максимального значения при напряжении, которое характерно для конкретного металла max достигается при напряжении в несколько сотен вольт. И его значение для различных металлов от 0,51,8. Установлено, что вторичная эмиссия чистых металлов мала и практически не завист от работы выхода. Наличие на пов-ти металлического катода адсорбированных молекул газа увеличивает вторичную эмиссию. Процессы, определяющие вторич эмиссию, протекают не на пов-ти эмиттера, а внутри. Первичные эл-ны проникают внутрь металла и на своём пути передают энергию встречающимся на пути эл-нам металла. Предельная глубина проникновения первичных эл-нов Н0 зависит от их энергии. Возникающие вторич эл-ны получают ускорение в направлении первычных, однако в следствие столкновения с атомами и др эл-нами меняют направление скорости так, что некоторая часть из них получает движение, направленное к пов-ти металла. Если энергия этих эл-нов будет достаточна для совершения работы выхода, то они покинут металл(расположенные недалеко от пов-ти). А эл-ны, расположенные вдали от пов-ти, не покинут эмиттер, т. к. их энергия либо растрачивается при столкновении с другими атомами и эл-нами, либо они дойдут с недостаточной энергией необходимой для выхода. Предельная глубина, двигаясь с которой, эл-ны ещё могут выйти из ме, наз предельная глубина диффузии. В чистых ме предельная глубина диффузии мала и малой получается вторич эмиссия, т. к. вторич эл-ны испытывают очень много столкновений. Вторичная эмиссия сильно зависит от угла падения вторичных эл-нов на пов-ть ме. При увеличении угла увеличивается число вторич эл-нов в пределах глубины , в следствие чего увеличивается . В сложных пп катодах, имеющих структуру МДП или металл с активированным слоем может быть получена очень большая вторичная эмиссия с и более.
15. Статические параметры диодов.
Основной характеристикой диодов является анодная характеристика. По ней судят пригодна лампа или нет. Стремятся получить большее значение Iа при малых Uа.
S-крутизна характеристика: изменение анодного тока при изменении анодного напряжения. S=Ia/Ua S=dIa/dUa . При увеличении U накала крутизна будет возрастать за счет увеличения Sдейств анода .
Диод
Плотность конвенционного тока между катодом и анодом разная, будет наблюдатся сдвиг фаз между I и Uа . Чем дальше пролетают e от A и К, тем больше будет сдвиг фаз. Угол пролета харектеризует сдвиг фаз между конвенционным током и Ua : =2/T , где -время пролета е внизу АК. =, угол пролета, величина измеряемая в угловых единицах именения фазы анодного гармонического напряжения за время .Iак=jcaкUа Rc=1/cак
Высоких частотах может сказатся индуктивность La и Lк: L0,01млГн; RL=L . В анодной лампе при RC=RL наступает резонанс RС=1/2сан =1/(LC)