- •Строение атома.
- •Собственный полупроводник.
- •Примесный полупроводник n-типа.
- •Примесный полупроводник p-типа.
- •Германий.
- •Кремний.
- •Арсенид Галия.
- •Кристаллическая решётка.
- •Диффекты кристаллических решёток.
- •Вырожденный и компенсированный полупроводник.
- •Движение зарядов в полупроводниках.
- •Образование “p-n” перехода.
- •История создания "p-n" перехода.
- •Прямое и обратное включение p-n перехода.
- •Вольтамперная характеристика “p-n” перехода (вах).
- •Пробои “p-n” перехода.
- •Температурные и частотные свойства “p-n” перехода.
- •Контакт металл – полупроводник. Омический не выпрямляющий контакт.
- •Гиперпереходы.
- •Полупроводниковые приборы. Классификация и системы обозначений.
- •Выпрямительный диод. Vd.
- •В ах выпрямительного диода.
- •Варикап.
- •Стабилитрон.
- •Т уннельный диод.
- •Диод Ганна.
- •Лавинно-пролётные диоды.
- •Обращённый диод.
- •Транзисторы. Vt.
- •4 Режима работы транзистора.
- •Принцип работы транзистора.
- •Схемы включения транзистора.
- •Статические характеристики транзистора.
- •Транзистор, как активный четырёхполюсник.
- •Частотные свойства транзистора.
- •Температурные свойства транзисторов.
- •Динамический режим работы транзистора.
- •Составной транзистор.
- •Высоковольтные транзисторы.
- •Мощные транзисторы.
- •Собственные шумы транзистора.
- •Эксплуатационные параметры транзистора.
- •П олевые транзисторы.
- •Полевой транзистор с "p-n" переходом.
- •Полевой транзистор с изолированным затвором.
- •Характеристики полевых транзисторов.
- •Основные параметры полевых транзисторв.
- •Однопереходные транзисторы.
- •Тиристоры.
- •Семисторы.
- •Оптоэлектронные приборы.
- •Светоизлучающие диоды (светодиоды).
- •Фотоприёмник.
- •Фоторезистор.
- •Фотодиод.
- •Фототранзистор.
- •Фототиристоры.
- •Оптрон (vu).
- •Резисторный оптрон.
- •Диодный оптрон.
- •Транзисторные оптопары.
- •Тиристорные оптопары.
- •Оптоэлектронные интегральные микросхемы.
- •Когерентная оптоэлектроника. Принцип работы лазера.
- •Свойства лазерного излучения.
- •Основные типы лазеров.
- •Области применения лазера.
- •Микроэлектронника. Виды интегральных схем.
- •Технологические процессы изготовления мсх.
- •Виды изоляции элементов.
- •Полупроводниковые интегральные схемы.
- •Интегральный “n-p-n” транзистор.
- •Разновидности “n-p-n” транзистора.
- •Интегральный “p-n-p” транзистор.
- •Интегральные диоды.
- •Электровакуумные приборы.
- •Виды электронной эмиссии.
- •Вакуумный диод.
- •Усилитель нч на триоде.
- •Паразитные ёмкости триода.
- •Тетрод и пентод.
- •Осцилографическая трубка.
- •И ндикаторные трубки.
- •Кинескоп.
- •Получение цветного изображения.
Образование “p-n” перехода.
П ри объединении 2 приместных полупроводников p и n – типа одним из технологических способов, образуется контакт, в результате которого начинается обмен носителями. Носители из области высокой концентрации перемещаются в область с низкой концентрацией, т.е. электроны, которые являются основными носителями в полупроводниках n типа перемещаются в p область, а дырки, которые являются основными носителями в полупроводниках p типа перемещаются в n область. Область, разделяющая полупроводник на 2 части с разной проводимостью, называют электронно-дырочным или p-n переходом. Обычно p-n переходы создаются методами плавления или диффузии примесей в полупроводник, или выращиванием p-n перехода. Поэтому, p-n переходы бывают сплавные, диффузионные, и т.д. В примесях, помимо основных носителей заряда, имеются и не основные, которые тоже перемещаются в противоположенные области.
П ри уходе основных носителей из своих областей, в p области образуется отрицательно заряженные ионы акцепторной примеси, а в n области ионы донорной примеси. В результате, на границе разделения образуются 2 объёмных, пространственных заряда, противоположенных по знаку. Область образования пространственных зарядов и называется p-n переходом, его ширина не превышает десятых долей микрометров. Создавшиеся пространственные заряды образуют электрическое поле, которое направлено от + ионов донорной примеси, к – ионам акцепторной, т.е. от полупроводника n типа, к полупроводнику p типа. Образовавшиеся поле будет тормозящим для основных носителей заряда и ускоряющим для неосновных. Т.е. это поле стремится вернуть основные носители вглубь своих полупроводников, а неосновные, совершая тепловое, хаотичное движение (дрейф) ускоряются этим полем и выталкиваются за границы p-n перехода. Наибольшая напряжённость в p-n переходе находится на границе разделения p и n областей. Перепад потенциалов в переходе равен контактной разности потенциалов, которая называется потенциальным барьером т.к. он препятствует переходу основных носителей заряда. Но в переходе всегда найдутся носители, способные преодолеть потенциальный барьер. Они образуют электронную и дырочную составляющую диффузионного тока. Также через потенциальный барьер беспрепятственно будут проходить не основные носители, которые будут создавать электронную и дырочную составляющую дрейфового тока, противоположенного направлению движения диффузионного. (inдиф+ipдиф)-(inдрей+ipдрей)=0. Это уравнение термодинамического равновесия pn перехода, т.е. небольшой по величине дрейфовый ток уравновешивает большой по величине диффузионный ток. Т.к. p-n переход находится в изолированном положении.
История создания "p-n" перехода.
Полупроводниковые приборы и интегральные МСХ в настоящее применяют прктически во всех отраслях науки и техники и особенно в радиоэлектроннике. Впервые полупроводниковый прибор (диод-детоктор) был использован в 1900г. Русским учёным А.С.Поповым в радиотелеграфичеком приёмнике. В 30-е года в нашей стране под руководством академика А.Ф.Иоффе было начато систематическое исследование свойств полупроводников. Советскими учёными Б.В.Курчатовым, В.П. Жузе, В.М.Гохбертом и М.С. Соминским проводились исследования явления электропроводимости и зависимости её от концентрации и природы примесей. В 1937г. А.Ф.Иоффе, А.В.Иоффе и Б.И.Давыдовым была разработана теория выпримления на границе 2 полупроводников с разным типом электропроводности. В 1940г. В.Е.Лашкарёв экспиреминтально доказал наличей слоёв различного типа электропроводимости по обе стороны от запирающего слоя в селеновых выпрямителях и доказал существование "p-n" перехода. Большим событием в радиотехнике и технике связи было появление тунельного диода. Его изобретение принадлежит японскому учёному Л.Есаки. В 1957г., изучая "p-n" переходы, изготовленные в сильнолегированном германии, он обнаружил аномальный ход ВАХ, обусловленый туннельным эффектом. Переходы с барьером Шотки получили широкое применение в самых разнообразных приборах, начиная с выпрямительных диодов и кончая БИСами. Это привело к значительному улучшению ряда характеристик приборов.