- •М инистерство образования российской федерации
- •Глава 1. Введение в электронную теорию твердого тела 5
- •Глава 2. Теория и практика эмиссионных процессов. 21
- •Глава 3. Электронно-вакуумные приборы с электростатическими полями 69
- •Глава 4. Теория и практика фокусировки и управления электронными пучками в электромагнитных полях 95
- •Глава 5. Электронно-лучевые приборы 133
- •Глава 6. Газоразрядная и плазменная электроника 158
- •Глава 1.
- •1.1.Энергия связи в твердом теле.
- •2.1. Металлическое состояние.
- •3.1. Состояние электрона в кристаллической решетке
- •4.1.Статистика электронов в кристаллической решетке металла.
- •5.1.Энергия Ферми.
- •6.1. Плотность электронных состояний.
- •7.1. Особенности зонной структуры ионных и ковалентных кристаллов.
- •8.1.Особенности положения уровня Ферми в полупроводниках.
- •Глава 2.
- •1.2. Работа выхода электрона из твердых тел.
- •2.2. Термоэлектронная эмиссия
- •1.3. Термоэлектронные катоды.
- •1.1.3. Металлические катоды.
- •2.1.3. Пленочные катоды
- •3.1.3. Оксидные катоды.
- •4.1.3. Способы нагрева катодов.
- •4.2. Закон Лэнгмюра-Богуславского.
- •4.2. Эффект Шоттки.
- •6.2. Автоэлектронная эмиссия.
- •6.2. Взрывная эмиссия.
- •8.2 Автоэмиссионные катоды.
- •7.2. Вторичная электронная эмиссия
- •8.2. Фотоэлектронная эмиссия.
- •10.2 Фотокатоды.
- •1.10.2. Фотокатоды для видимой области спектра.
- •2.10.2 Фотокатоды для ультрафиолетовой области.
- •3.10.2. Фотокатоды для инфракрасной области.
- •11.2 Аноды электронно-вакуумных приборов.
- •12.2 Управление электронным потоком
- •Глава 3.
- •1.3.Рентгеновские трубки.
- •Длина волны характеристических линий и потенциал возбуждения к-серии ряда элементов.
- •1.1.3 Области применения и конструктивные
- •2.1.3. Двухэлектродные трубки для просвечивания.
- •3.1.3. Импульсные рентгеновские трубки.
- •4.1.3. Трубки для диагностики биологических объектов.
- •5.1.3. Трубки для рентгенотерапии.
- •6.1.3. Рентгеновские трубки для радиационной химии
- •7.1.3. Рентгеноструктурный анализ.
- •8.1.3. Рентгеноспектральный анализ
- •9.1.3. Бескристальные спектрометры
- •2.3. Электронно-ионный микроскоп.
- •3.3. Фотоэлектронный умножитель.
- •Глава 4
- •1.4.Силы, действующие на заряженную частицу в электромагнитном поле. Уравнения движения.
- •2.4. Аналогия между движением заряженных частиц в электростатическом поле и распространением световых лучей в прозрачной среде.
- •3.4. Центрированные электронно-оптические системы.
- •4.4. Фокусировка электронных пучков в аксиально-симметричных
- •1.4.4. Катодная линза.
- •2.4.4. Электронные пушки.
- •3.4.4. Автоэмиссионные пушки.
- •4.4.4. Электронный прожектор.
- •5.4.4. Электростатические системы управления электронным лучом.
- •6.4.4. Анализатор скорости заряженных частиц.
- •7.4.4. Осциллографическая трубка.
- •5.4. Фокусировка и управление потоком заряженных частиц в постоянных магнитных полях.
- •1.5.4. Конструкции магнитных линз.
- •2.5. 4. Дефекты электронно-оптических линз.
- •3.5.4. Отклонение заряженных частиц магнитным полем.
- •Глава 5
- •1.5. Кинескопы.
- •2.5 Электронно-оптический преобразователь.
- •3.5. Электронные микроскопы.
- •1.3.5. Принцип работы электронных микроскопов.
- •2.3.5. Просвечивающие электронные микроскопы.
- •3.3.5. Рентгеновские микроанализаторы.
- •4.3.5. Растровые электронные микроскопы.
- •Глава 6.
- •1.6. Слабоионизированные газы.
- •2.6. Ионизация газа, находящегося в термодинамическом равновесии.
- •3.6. Диффузионный ток.
- •4.6. Проводимость
- •5.6. Ударная ионизация
- •6.6. Вольтамперная характеристики газового разряда.
- •1.6.6. Несамостоятельный газовый разряд.
- •2.6.6. Самостоятельный газовый разряд.
- •7.6. Газоразрядные приборы с холодным катодом
- •1.7.6. Дуговые разрядники.
- •2.7.6. Газоразрядные источники света.
- •3.7.6. Лампы тлеющего свечения (лтс).
- •4.7.6. Стабилитрон тлеющего разряда.
- •5.7.6. Многоэлектродные газоразрядные приборы тлеющего разряда.
- •6.7.6. Тиратрон тлеющего разряда.
- •7.7.6. Тиратроны дугового разряда.
- •8.6. Дисплеи с плазменной панелью.
- •1.8.6.Структура ячейки
1.10.2. Фотокатоды для видимой области спектра.
Экспериментально установлено, что наиболее эффективным эмиттером для видимой области спектра является антимонид цезия (табл. 2.2). Фотокатод из этого материала называется сурмянно - цезиевым и он наиболее изучен и распространен. Его применяют в различных фотоэлектронных приборах как в виде массивных, непрозрачных слоёв, так и в виде весьма тонких полупрозрачных пленок.
Получают сурмянно цезиевые катоды при взаимодействии пленки сурьмы, нанесенной на подложку термическим испарением в вакууме, с переведенным в парообразное состояние металлическим цезием. Для непрозрачных фотокатодов (работающих на отражение) толщина нанесенного слоя сурьмы не имеет практического значения. Для прозрачных фотокатодов (работающих на пропускание) слой сурьмы наносят до тех пор, пока не будет достигнута 70%-ная прозрачность по сравнению с исходной. В процессе взаимодействия образуется не сплав двух металлов, а интерметаллическое соединение Cs3Sb. Структура сформированной пленки фотокатода зависит от условий изготовления, главным образом от условий нанесения пленки сурьмы (глубина вакуума, скорость испарения, состояние подложки и т.д.). Электронно-микроскопическое исследование пленок показало, что высокочувствительные сурмянно – цезиевые катоды обладают однородной мелкокристаллической структурой и равномерным распределением эмиссионных центров по поверхности. Образующиеся микрокристаллы Cs3Sb имеют кубическую решетку и представляют собой полупроводник с шириной запрещённой зоны 1,6 эВ (рис. 19.2). Избыточные атомы Sb (1020см-3) создают акцепторные уровни, расположенные на 0,5 эВ выше валентной зоны, поэтому кристаллы имеют проводимость р-типа с энергией Ферми, несколько меньшей 0,5 эВ. Фотоны с энергией h ≤ (Δ+Ао)≈[1,6+(0,2-0,4)]≈2 эВ генерируют в материале электроны, которые не могут преодолеть потенциальный барьер на границе раздела с вакуумом и не эмитируются.
.
Рис. 19.2. Зонная структура Cs3Sb поверхности скола в высоком вакууме без поверхностных состояний (а); изгиб зон с учетом поверхностных состояний. (в). Спектральные зависимости квантового выхода и оптического поглощения Cs3Sb.
Для фотоэлектронов с кинетической энергией Ек ≥ (Δ+А0) квантовый выход определяется вероятностью диффузии к поверхности с малыми потерями энергии. Благоприятное соотношение между величинами Δ и А0 обеспечивает отсутствие энергетических потерь фотоэлектронов на ударную ионизацию, что обуславливает сравнительно большую глубину выхода фотоэлектронов, составляющую по измерениям различных авторов, величину порядка (1500-2000) нм, эмиссия регистрируется вплоть до 1,5 эВ ( ≈ 0,69 мкм). Эта эмиссия обусловлена возбуждением электронов, захваченных акцепторными уровнями, которые имеют очень высокую плотность состояний. Высокий квантовый выход вблизи порога фотоэффекта и хорошее соответствие формы кривой собственного оптического поглощения (h) и спектральной характеристики фотоэмиссии (рис. 19.2) подтверждают то, что эмиссия фотоэлектронов происходит из валентной зоны полупроводника Cs3Sb. быть объяснен эмиссией электронов с заполненных акцепторных уровней.