- •Оглавление
- •Классификация мэт
- •Проводниковые материалы
- •Физическая природа электропроводности металлов
- •Зависимость электропроводности металлов от температуры и примеры
- •Электрические свойства металлических сплавов
- •Сопротивление проводников на высоких частотах
- •Сопротивление тонких металлических плёнок. Размерный эффект
- •Контактные явления в металлах
- •Материалы высокой проводимости. Медь
- •Алюминий
- •Сверхпроводящие металлы и сплавы
- •Специальные сплавы
- •Сплавы для термопар
- •Сплавы для корпусов приборов
- •Тугоплавкие металлы
- •Благородные металлы
- •Неметаллические проводящие материалы
- •Полупроводники. Классификация полупроводниковых материалов
- •Собственные и примесные полупроводники
- •Температурная зависимость концентрации носителей заряда.
- •Подвижность носителей заряда в полупроводниках
- •Электрофизические явления в полупроводниках.
- •Кремний
- •Физико-химические и электрические свойства Si
- •Марки кремния.
- •Германий
- •Физико-химические и электрические свойства германия
- •Карбид кремния (SiC)
- •Полупроводниковые соединения аiii вv
- •Твердые растворы на основе аiii вv
- •Полупроводниковые соединения aiibvi и трз на их основе
- •Полупроводниковые соединения aivbvi и трз на их основе
- •Диэлектрики, классификация, основные свойства
- •Электропроводность диэлектриков
- •Потери в диэлектриках
- •Пробой диэлектриков
- •Полимеры в электронной технике
- •Композиционные пластмассы и пластики
- •Электроизоляционные компаунды
- •Неорганические стекла
- •Ситаллы
- •Керамики
- •Активные диэлектрики
- •Сегнетоэлектрики
- •Пьезоэлектрики
- •Пироэлектрики
- •Электреты
- •Жидкие кристаллы
- •Материалы для твердотельных лазеров
- •Магнитные материалы. Их классификация
- •Магнитомягкие материалы
- •Магнитотвердые материалы
- •Технология получения материалов электронной техники Методы получения тонких пленок
- •Вакуумные методы. Термическое вакуумное напыление.
- •Кинетика процесса конденсации. Роль подложки
- •Создание вакуума в вакуумных установках
- •Измерение вакуума
- •Вакуумные установки термического напыления
- •Катодное вакуумное распыление (диодное)
- •Ионно - плазменное распыление
- •Эпитаксиальные процессы в технологии материалов электронной техники
- •Механизм процесса эпитаксии
- •Автоэпитаксия кремния
- •Гетероэпитаксия кремния
- •Эпитаксия полупроводниковых соединений аiiibv и трз на их основе
- •Температурно - временной режим эпитаксии
- •Эпитаксия SiC
- •Оборудование для наращивания эпитаксиальных слоев
- •Элионные технологии
- •Ионно-лучевые установки
- •Механическая обработка полупроводниковых материалов
- •Шлифование и полирование пластин
- •Химическая обработка поверхности полупроводника
- •Методы отчистки поверхности
- •Фотолитография (операции, материалы)
- •Нанотехнология, определения и понятия
- •Инструменты для измерения наноструктур
- •Наноструктуры и наноустройства
- •Методы нанотехнологий
Измерение вакуума
Для нанесения пленок термическим испарением требуется разряжение 10-5-10-7 мм.рт.ст. В таком диапазоне давлений вакуум измеряется только косвенными методами. В технологических установках нашли применение 2 основных типа манометров - вакууметров: термопарный и ионизационный.
Принцип действия термопарного вакуумметра основан на зависимости теплопроводности газа от его плотности, т.е давления. Эта зависимость наиболее сильно наблюдается для давлений 10-10-4 мм.рт.ст. Измерительным элементом является манометрическая лампа типа ЛМ. В ней расположен спай термопары и подогреватель. При нагрева слоя, на холодных концах термопары появляется Э.Д.С, которая зависит от температуры спая. Если давление газа уменьшается, то ухудшается теплообмен между газом и подогревателем, температура его увеличивается и, следовательно, увеличивается термо ЭДС.
Марка термодинамического вакуумметра – ВТ-2. Измеряет давление от 1 до 10-3 мм.рт.ст. Лампы манометрические: ЛТ-2(стеклянный баллон) ЛТ-4М (металлический баллон).
Принцип действия ионизационного вакуумметра основан на ионизации молекул газов электронами, эмитируемыми нагретым катодом, и измерении ионизационного тока, величина которого зависит от давления газа. Чем меньше молекул газа, тем реже электроны с ним сталкиваются, тем меньше ионный ток Ii = кIeP, где Iэ-ток эмиссии.
Марки ионизационнных вакуумметров: ВИТ-2,3, ВИТ-1, ВИ-12. В них стоят ионизационные манометрические лампы ЛМ-2, МИ-12. ВИТ-1 позволяет измерять давление от 10-3 до 10-7 мм.рт.ст, ВИ-12 даже более низкие давления: до 10-10 мм.рт.ст.
Изменение толщины и скорости нанесения пленки
Резистивный метод. Данным методом измеряется не толщина, а омическое сопротивление участка пленки. Используется пропорциональная зависимость . Метод применяется, как правило, для металлических пленок. Промышленный прибор КС-1. Диапазон рабочих R: от 0 до 50 кОм. Точность 5%. Максимальная толщина δ ~ 1мкм.
Резонансо - частотный метод или метод кварцевого резонатора. В основу метода свойство Si-кристалла изменять частоту колебаний при изменении напыленной на него массы пленки. Измеряемые толщины = 0,01÷5 мкм. Чувствительность 1 /Гц, 1 /см2 . Прибор - КИТ-1.
Ионизационный метод. В основе метода измерение ионизационного тока, возникшего за счет ионизации части потока паров осаждаемого материала. Ионизация осуществляется в специальном ионизационном преобразователе, соединенном с вакуумной камерой. Предельная измеряемая толщина неограниченна. Чувствительность - 1 /сек. Точность 1-5% . Промышленный прибор ИСТИ - 1. Он может измерять так же и скорость осаждения. Нельзя использовать при катодном и ионно-плазменном распылении.
Оптические методы.
– по расчету кривой интерференции пленки. При этом необходимо знать показатель преломления материала. Точность 30%. Измеряемые толщины 0,3÷5 мкм (МИИ - 4).
- по измерению оптической плотности материала пленки δ ≤ 1 мкм.
Вакуумные установки термического напыления
Классифицируются:
- по величине предельного вакуума (высоковакуумные и сверхвысоковакуумные);
- по числу операций осаждения пленок за один вакуумный цикл (однооперационные и многооперационные);
- по типу испарителя и другим конструктивным особенностям.
Установки серии УВН.
1) Однооперационная установка УВН-2М-2
- предельное разряжение, Па - 1,3∙10-4
- время достижения Рпред – 90 мин
- максимальная температура испарителя 1500°С
- мощность испарителей - 2 кВт (5шт)
- температурный диапазон нагрева подложек 100 - 400°С
- частота вращения карусели – 50-150 об/мин
- количество позиций подложек и масок – 8 шт.
- имеется ионная отчистка подложек
- вакуум создается форвакуумным механическим насосом ВНМ-7Г и паромасляным насосом Н-2Т
- масса 700 кг
2) УВН-2М-1- многооперационная
- дополнительно имеет еще 1 электролучевой испаритель
- 2 карусели по 6 позиций каждая
3) УВН-2М-3
- 2 электронно - лучевых испарителя
- максимальная температура испарителя 3000°С
Преимущества метода термического напыления:
простота и универсальность метода - практически для всех элементарных материалов и ряда соединений;
из-за относительно высокого вакуума (10-6-10-9 мм.рт.ст) можно получать пленки практически не загрязненные остаточными газами.
Недостатки метода:
неоднородный химический состав пленок;
недостаточная стабильность характеристик пленок.