- •Л.А. Торгонский
- •Содержание
- •4 Проектирование гимс 4
- •5 Проектирование бис 105
- •4.2 Подложки и платы гимс
- •4.3 Резисторы гис
- •4.3.1 Конструкции пленочных резисторов
- •4.3.2 Функциональные параметры резисторов гис
- •4.3.3 Материалы тонкоплёночных резисторов
- •4.3.4 Материалы толстоплёночных резисторов
- •4.3.5 Технологические ограничения
- •4.3.6 Тонкоплёночные резисторы без подгонки
- •4.3.7 Проектирование резисторов в форме меандра
- •4.3.8 Резисторы с подгонкой сопротивления
- •4.3.9 Проектирование толстоплёночных резисторов
- •4.3.10 Частотные свойства плёночных резисторов
- •4.4 Плёночные конденсаторы гис
- •4.4.1 Введение
- •4.4.2 Конструкции плёночных конденсаторов гимс
- •4.4.3 Функциональные параметры конденсаторов гимс
- •4.4.4 Материалы тонкоплёночных конденсаторов
- •4.4.5 Проектирование тонкоплёночных конденсаторов
- •4.4.6 Подгоняемые плёночные конденсаторы
- •4.4.7 Материалы толстоплёночных конденсаторов
- •4.4.8 Проектирование толстоплёночных конденсаторов
- •4.5 Индуктивные элементы гис
- •4.5.1 Введение
- •4.5.2 Проектирование плёночных катушек
- •4.6 Соединения и контакты гис
- •4.7 Коммутационные платы
- •4.8 Компоненты гис
- •4.8.1 Введение
- •4.8.2 Конструкции кристаллов
- •4.8.3 Конструкции конденсаторов
- •4.8.4 Конструкции резисторов
- •4.8.5 Индуктивные компоненты гимс
- •4.9 Гибридные микросхемы свч диапазона
- •4.9.1 Введение
- •4.9.2 Элементы гимс свч
- •4.9.3 Подложки гимс свч
- •4.9.4 Микрополосковые линии передачи гимс свч
- •4.9.5 Пассивные элементы гимс свч
- •4.9.6 Активные элементы гимс свч
- •4.9.7 Конструкции гимс свч
- •5 Проектирование бис
- •5.1 Введение
- •5.2 Проблемы проектирования бис
- •5.3 Этапы проектирования бис
- •5.4 Элементная база бис. Матричные кристаллы
- •5.4.1 Введение
- •5.4.2 Библиотечный набор функциональных элементов и узлов
- •5.4.3 Конструктивные параметры модулей матричных бис
- •5.5 Автоматизация проектирования топологии имс
- •5.6 Системы автоматизации проектирования бис
- •6 Обеспечение защиты имс и мп
- •6.1 Введение
- •6.2 Корпуса микросхем
- •6.3 Бескорпусные микросхемы
- •6.4 Тепловые режимы имс
- •6.5 Внешние и внутренние паразитные связи и помехи в ис
- •6.6 Обеспечение механической устойчивости конструкций ис
- •6.7 Защита микросхем от воздействия агрессивных сред
- •6.8 Монтаж кристаллов и плат
- •6.9 Электрический монтаж кристаллов и плат
- •7 Конструкторская документация ис
- •7.1 Понятия и определения
- •7.2 Состав и содержание текстовых документов
- •7.3 Схемная докумнтация
- •7.4 Масштабные графические документы микросхем
- •8 Заключение
- •Список литературы
4.4.3 Функциональные параметры конденсаторов гимс
Проектными параметрами плёночных конденсаторов являются:
рабочее напряжение конденсатора Uр, В;
номинальная ёмкость С, пФ;
допустимое относительное отклонение ёмкости δC;
допустимый температурный диапазон ∆Т, град;
временной интервал эксплуатации конденсатора ∆Тв, час;
допустимые потери (добротность Q) в конденсаторе;
граничная частота конденсатора Fгр, Гц.
К проектированию конденсаторов необходимо подготовить перечень исходных ограничений, в число которых включаются:
перечисленные функциональные параметры;
абсолютные технологические допуски на формирование линейных размеров (∆L, ∆hд), совмещение слоёв (∆C), относительный технологический допуск удельной ёмкости (δСуд) или диэлектрической проницаемости δεд;
ограничения на электрофизические свойства материалов (R□, eотн, tgδ, Екр, ТКЕ, коэффициент старения или интегральный по времени эксплуатации допуск δСст) доступных в принятой технологии производства конденсаторов.
4.4.4 Материалы тонкоплёночных конденсаторов
В производстве тонкоплёночных конденсаторов применяются материалы электрофизические, параметры которых приведены в таблице 4.10. В таблице приведены совместимые с диэлектрической плёнкой материалы обкладок.
Диэлектрический слой конденсаторов должен иметь высокое значение диэлектрической проницаемости, низкое значение tgδ, высокую химическую стойкость, высокое качество адгезии к смежным в структуре материалам, сравнимые коэффициенты ТКЛР слоёв структуры.
Материал обкладок для достижения повышенных добротностей конденсаторов, наряду с хорошей адгезией, стойкостью к образованию химических соединений, пониженной миграционной подвижностью атомов, пониженной по сравнению с диэлектрическим материалом температурой формирования слоя, должен иметь высокую электропроводность. Согласно данным таблицы 4.9, наиболее распространённым является алюминий. Применение в качестве нижней обкладки тантала исключительно связано со спецификой танталовой технологии при использовании в качестве диэлектрика Т2О5.
4.4.5 Проектирование тонкоплёночных конденсаторов
При площади перекрытия обкладок 5 мм2 и более, по рабочему напряжению Up определяется необходимая толщина диэлектрика:
hД ≥ Kз∙Up/Екр,
где Кз = 24 — коэффициент запаса; принимается в зависимости от условий эксплуатации (чем более жесткие условия, тем большее значение принимает коэффициент).
Минимальная толщина диэлектрика, таким образом, ограничивается электрической прочностью, а максимальная — возможностями пленочной технологии. Чаще всего толщина диэлектрика находится в пределах от 0,3–0,5 до 1 мкм.
По толщине и диэлектрической проницаемости определяется удельная ёмкость Суд:
Суд = εд/ hд. (4.51)
По заданной номинальной ёмкости С и значению Суд определяется необходимая площадь S перекрытия обкладок конденсатора:
S = C/Cуд.
По верхней рабочей частоте Fp и сопротивлению R□ обкладок рекомендуемой таблицей структуры по формуле (4.44) определяется граничное значение длины в перекрытии обкладок Адоп. Принимается размер А ≤ Адоп и определяется необходимая ширина В перекрытия обкладок конденсатора:
В= S/A. (4.52)
Если значение В < A, то производится взаимная замена значений размеров А и В с целью снижения сопротивления обкладок и достижения более высокого значения добротности конденсатора.
По значениям длины A, ширины B площади перекрытия обкладок учётом технологических погрешностей определяется относительное проектное отклонение ёмкости конденсатора δCпр от номинального значения по формуле
δCпр = δCуд + δСt + ∆В/B + ∆L/A + δCCT, (4.53)
где δCуд — погрешность воспроизведения удельной емкости (составляет 5–10 %;
δСt = αс∙∆T — температурная погрешность емкости;
δCСТ — погрешность емкости, обусловленная старением тонкопленочных конденсаторов (не превышает 2–3 %).
Если выполняется условие
δС ≥ δCпр,
то выбор размеров по заданным ограничениям электрической прочности, номинального значения ёмкости и относительной погрешности считается завершённым. В противном случае проверяется выполнение неравенства
(δC – δCуд – δСt – δCCT) ≥ (0,01–0,02) (4.54)
и принимается решение об увеличении толщины диэлектрика hД и повторении расчёта размеров для коррекции составляющих (∆В/B + ∆L/A) в выражении (3.50) в сторону снижения.
Если неравенство (4.50) не выполняется, то необходимым является переход к конструкциям с подгонкой номинала ёмкости или применению компонентного исполнения. При прочих равных условиях, как отмечалось ранее, составляющие (∆В/B + ∆L/A) минимизируются при выполнении условия А = В = √S, если иные ограничения это условие не исключают.
Потери в конденсаторе определяются по формуле (4.46) с учётом (4.44, 4.45).
Если допустимая норма потерь не задана или согласуется с проектной оценкой, то проектирование конденсатора полагается завершённым и может исполняться эскиз топологии конденсатора.
В противном случае анализируется причина несоответствия конденсатора по вносимым потерям. Если определяющее влияние на потери оказывают обкладки конденсатора, то предпринимается коррекция длины А в сторону уменьшения с одновременным увеличением размера В и повышение толщины плёнок обкладок. Иначе необходимо рассматривать возможность применения иных материалов слойного состава конденсатора. И в одном и в другом случаях должны повторятся оценки погрешности исполнения конденсатора из-за изменения размеров А и В.
Геометрические размеры топологических слоёв конденсатора определяются по размерам верхней обкладки (Ав, Вв) с учетом технологических погрешностей линейных размеров и совмещения формулам:
для нижней обкладки:
Ан = Ав + (2–4)∙(∆L + ∆C); Вн = Вв + (2–4)∙(∆L + ∆C), (4.55)
для слоя диэлектрика:
Ад = Ан + (2–4)∙(∆L + ∆C); Вд = Вн + (2–4)∙(∆L + ∆C). (4.56)
При расчете конденсаторов с площадью перекрытия обкладок до (1–5) мм2 следует оценивать влияние краевого эффекта, корректируя размеры обкладок с учётом выражения (4.41).
С учетом краевого эффекта для получения заданной емкости конденсатора необходимо уменьшить площадь перекрытия S. Соответствие расчётных оценок погрешности и потерь фактическим значениям для таких размеров ухудшается.