- •Л.А. Торгонский
- •Содержание
- •4 Проектирование гимс 4
- •5 Проектирование бис 105
- •4.2 Подложки и платы гимс
- •4.3 Резисторы гис
- •4.3.1 Конструкции пленочных резисторов
- •4.3.2 Функциональные параметры резисторов гис
- •4.3.3 Материалы тонкоплёночных резисторов
- •4.3.4 Материалы толстоплёночных резисторов
- •4.3.5 Технологические ограничения
- •4.3.6 Тонкоплёночные резисторы без подгонки
- •4.3.7 Проектирование резисторов в форме меандра
- •4.3.8 Резисторы с подгонкой сопротивления
- •4.3.9 Проектирование толстоплёночных резисторов
- •4.3.10 Частотные свойства плёночных резисторов
- •4.4 Плёночные конденсаторы гис
- •4.4.1 Введение
- •4.4.2 Конструкции плёночных конденсаторов гимс
- •4.4.3 Функциональные параметры конденсаторов гимс
- •4.4.4 Материалы тонкоплёночных конденсаторов
- •4.4.5 Проектирование тонкоплёночных конденсаторов
- •4.4.6 Подгоняемые плёночные конденсаторы
- •4.4.7 Материалы толстоплёночных конденсаторов
- •4.4.8 Проектирование толстоплёночных конденсаторов
- •4.5 Индуктивные элементы гис
- •4.5.1 Введение
- •4.5.2 Проектирование плёночных катушек
- •4.6 Соединения и контакты гис
- •4.7 Коммутационные платы
- •4.8 Компоненты гис
- •4.8.1 Введение
- •4.8.2 Конструкции кристаллов
- •4.8.3 Конструкции конденсаторов
- •4.8.4 Конструкции резисторов
- •4.8.5 Индуктивные компоненты гимс
- •4.9 Гибридные микросхемы свч диапазона
- •4.9.1 Введение
- •4.9.2 Элементы гимс свч
- •4.9.3 Подложки гимс свч
- •4.9.4 Микрополосковые линии передачи гимс свч
- •4.9.5 Пассивные элементы гимс свч
- •4.9.6 Активные элементы гимс свч
- •4.9.7 Конструкции гимс свч
- •5 Проектирование бис
- •5.1 Введение
- •5.2 Проблемы проектирования бис
- •5.3 Этапы проектирования бис
- •5.4 Элементная база бис. Матричные кристаллы
- •5.4.1 Введение
- •5.4.2 Библиотечный набор функциональных элементов и узлов
- •5.4.3 Конструктивные параметры модулей матричных бис
- •5.5 Автоматизация проектирования топологии имс
- •5.6 Системы автоматизации проектирования бис
- •6 Обеспечение защиты имс и мп
- •6.1 Введение
- •6.2 Корпуса микросхем
- •6.3 Бескорпусные микросхемы
- •6.4 Тепловые режимы имс
- •6.5 Внешние и внутренние паразитные связи и помехи в ис
- •6.6 Обеспечение механической устойчивости конструкций ис
- •6.7 Защита микросхем от воздействия агрессивных сред
- •6.8 Монтаж кристаллов и плат
- •6.9 Электрический монтаж кристаллов и плат
- •7 Конструкторская документация ис
- •7.1 Понятия и определения
- •7.2 Состав и содержание текстовых документов
- •7.3 Схемная докумнтация
- •7.4 Масштабные графические документы микросхем
- •8 Заключение
- •Список литературы
6.9 Электрический монтаж кристаллов и плат
Электромонтаж бескорпусных кристаллов и плат ИМС заключается в электрическом соединении их контактных монтажных площадок с контактными монтажными площадками на поверхности коммутационных плат более высокого конструктивного уровня или с выводами корпуса. Как отмечалось, кристалл предварительно фиксируется на плате или основании корпуса с помощью клея или припоя. Групповая пластина до разделения ее на отдельные части может быть металлизирована со стороны противоположной структурам металлом, который хорошо смачивается припоем. Облуживанию подлежат и контактные площадки на плате, на которые устанавливаются кристаллы.
При электромонтаже используются гибкие проволочные, жесткие (шариковые или столбиковые) выводы, балочные и паучковые выводы.
К конструкциям соединений предъявляются требования:
по величине и стабильности электрического сопротивления вывода и контактов;
по механической прочности, виброустойчивости, антикоррозионной стойкости, совместимости материалов, конструкции вывода;
по их физическим (термический коэффициент линейного расширения, значениям коэффициентов взаимной диффузии материалов друг в друге и др.) и химическим (отсутствие интерметаллических соединений, хорошая адгезионная способность) свойствам;
по возможности применения групповых методов изготовления выводов и автоматизированной сборки микросхемы в корпус или на коммутационную плату.
Гибкие выводыизготавливают из золотой или алюминиевой проволоки диаметром 25...50 мкм или в виде лент толщиной 50–60 мкм и шириной более 50 мкм. На иллюстрации 6.29 приведена фотография исполнения электромонтажа кристалла проволочными проводниками. При проволочном электромонтаже перемычка формируется в процессе монтажа. После совмещения свободного конца проволоки с площадкой на кристалле (плате) производится сварка. После перемещения изделия и совмещения инструмента с другой площадкой производится сварка и обрезка проводника. Далее формируется перемычка следующей пары контактов.
При перемещении пла-ты с приваренным концом проволоки последняя сматывается с катушки неподвижной сварочной головки так, чтобы образовался небольшой избыток по длине. В результате упругости проволоки перемычка получает плавный изгиб вверх, который при температурных изменениях длины перемычки предотвращает замыкание ее на кристалл.
В современных установках для микросварки рабочий цикл сварки (контролируемые давление инструмента, нагрев, время выдержки) автоматизирован. Что касается вспомогательных приемов (перемещения, совмещения), то существуют установки с ручным перемещением изделия и визуальным совмещением с помощью микроскопа, а также установки с автоматическими программируемыми перемещениями в сочетании с системой «машинного зрения», освобождающей оператора от зрительного напряжения.
При проволочном и ленточном монтаже применяется специальный микросварочный инструмент. Ввиду малых толщин соединяемых элементов (порядка 1,5 мкм для площадки и несколько десятков мкм для перемычки) сварка должна выполняться без расплавления соединяемых элементов. Все разновидности микросварки представляют собой сварку давлением. Прочность соединения обеспечивается электронным взаимодействием соединяемых поверхностей и взаимодиффузией материалов в твердой фазе, что, в свою очередь, требует применения пластичных материалов и обеспечения плотного контакта на достаточно большой площади. Так как необходимую площадь контакта можно получить лишь за счет пластической деформации перемычки, к материалу последней предъявляются требования пластичности. Для облегчения пластического течения материала, а также для ускорения взаимной диффузии во всех видах микросварки предусматривается нагрев зоны соединения до температуры ниже эвтектической (во избежание расплавления). Все виды микросварки характеризуются температурой в зоне соединения (300800) °C и удельным давлением инструмента (100200) Н/мм2.
В производстве нашли применение следующие разновидности микросварки (см. рис. 6.30):
термокомпрессионная сварка (ТКС);
сварка косвенным импульсным нагревом (СКИН);
электроконтактная односторонняя сварка (ЭКОС);
ультразвуковая сварка (УЗС).
Основная тенденция развития методов микросварки — локализация тепла в зоне соединения и уменьшение теплового воздействия на изделие в целом, что позволяет повысить температуру сварки и применять для перемычек менее пластичные материалы (например, медь). Способ нагрева зоны соединения находит свое отражение в конструкции сварочного инструмента, схематически представленного на рисунке 6.30. Независимо от вида микросварки в случае проволочного монтажа инструмент должен быть снабжен «капилляром» для направления проволоки под рабочую часть инструмента (на рис. 6.30 показан только для метода ТКС).
В случае СКИН (см. рис. 6.30, б) разогрев зоны соединения осуществляется только в момент сварки. Это достигается V-об-разной конструкцией инструмента, через который пропускается амплитудно-модулированный импульс тока с несущей частотой 0,51,5 кГц. В результате температуру в зоне сварки можно повысить до 650 °C. Инструмент является частью электрической цепи и благодаря малому сечению рабочего конца инструмента выделяемое тепло концентрируется именно в этой части. При ТКС (см. рис. 6.30, а) нагреву подвергают все изделие или инструмент (или то и другое), обеспечивая температуру порядка 400 °C.
Инструмент для ЭКОС (см. рис. 6.30, в) состоит из двух частей, разделенных изолирующей термостойкой прокладкой, которые являются составной частью электрической цепи. Цепь замыкается при контакте электродов с перемычкой. Импульс тока проходит через свариваемый участок перемычки, причем тепло выделяется в зоне контакта. В установках для ЭКОС предусмотрено автоматическое измерение контактного сопротивления, регулирование по сопротивлению усилия и формирование параметров импульса тока, что повышает воспроизводимость характеристик соединения. Температура в зоне сварки может быть повышена до 800°C, что дает возможность применять и медные проводники.
Ультразвуковая сварка может выполняться без специально организованного нагрева, т.к. тепло, необходимое для повышения пластичности, выделяется в результате трения перемычки о площадку. Сварочный инструмент жестко закрепляется в концентраторе магнитострикционной головки (см. рис. 6.30, г) и вместе с ним совершает продольные колебательные движения, «втирая» перемычку в площадку. Частота ультразвуковых колебаний выбирается в пределах (2060) кГц, а амплитуда — (0,52) мкм. В таблице 6.7 приведены сведения по свариваемости материалов при различных методах микросварки.
Таблица 6.7
Материал контактной площадки |
Метод сварки, материал проволоки | |||||||||||
ТКС |
СКИН |
ЭКОС |
УЗС | |||||||||
Au |
Cu |
Al |
Au |
Cu |
Al |
Au |
Cu |
Al |
Аu |
Cu |
Al | |
Au |
++ |
– |
+ |
++ |
+ |
++ |
++ |
++ |
– |
++ |
+ |
++ |
Cu, Ni |
++ |
– |
+ |
++ |
+ |
+ |
++ |
+ |
– |
++ |
+ |
+ |
Al |
++ |
– |
+ |
+ |
– |
+ |
+ |
+ |
– |
+ |
– |
++ |
Примечание: ++ — свариваются хорошо; + — свариваются удовлетворительно; – — не свариваются.
Этот вид электромонтажа применяется для конструкций кристаллов и плат с жёсткими выводами.
Достоинством проволочного монтажа является возможность размещения перемычек при произвольном расположении любого количества монтажных площадок на коммутационной плате, т.е. гибкость в процессе ее конструирования. Недостаток заключается в высокой трудоемкости монтажа, т.к. сварные соединения можно получать только последовательно, индивидуально.
Отказ от проволоки и переход к плоским ленточным перемычкам позволяет изготовить их заранее и одновременно вне кристалла методом избирательного травления (фотолитографии) ленты, однако взаимное расположение перемычек должно быть жестко предопределено расположением монтажных площадок на кристалле и плате. Ленточные перемычки толщиной 70 мкм остаются гибкими, поэтому для сохранения их взаимной ориентации они удерживаются в заданном положении изолирующими перемычками из полиимида. Таким образом, исходная лента для изготовления системы перемычек должна быть двухслойной: алюминий (70 мкм) и полиимид (40 мкм). Для исключения замыкания перемычек на кристалл их специально формуют перед монтажом. Преимущественно ленточный электромонтаж применяется в так называемых паучковых конструкциях, комментируемых далее по тексту.
Жесткие выводы (шариковые, столбиковые, балочные) имеют многослойную конструкцию (рис. 6.31). Нижний слой обеспечивает качественный контакт с контактной площадкой или полупроводниковой областью и качество адгезии к изоляционному материалу на поверхности кристалла. Верхний слой призван обеспечить высокую проводимость, качественный контакт к контактным площадкам платы и антикоррозийную защиту. Промежуточные слои выполняют роль буфера, устраняющего нежелательные взаимодействия между материалами слоев, ведущие к образованию интерметаллических соединений.
а — шариковый вывод; б — столбиковый вывод; в — балочный вывод.
1 — кремний; 2 — пленка окисла SiQ2; 3 — проводник (Al); 4 — защитный слой боросиликатного стекла или пленка осажденного из газовой фазы SiO2; 5 — контактный и адгезионный слои хрома (а), молибдена (б) титана или тантала (в); 6 — буферные слои меди (а), меди и серебра (б), молибдена (в); 7 — слой золота; 8 — слой припоя (а); 9 — медный шарик (а); золотой или медный стрлбик (б); 10 — слой никеля; 11 — слой золота
Рисунок 6.31
Для изготовления шариковых выводов после создания алюминиевых контактных площадок кремниевую пластину покрывают слоем боросиликатного стекла толщиной 1,5 мкм (рис. 6.31, а). В слое стекла с помощью фотолитографии над контактными площадками формируются окна, в которых поверх алюминия формируется многослойная система: хром — медь — золото — припой (оловянно-свинцовый). Пластины помещаются в гнезда кассеты, и на подготовленные контактные площадки помещаются медные шарики, покрытые двойным слоем никеля и золота. Кассета с пластиной нагревается в атмосфере водорода и происходит пайка шарика на контактные площадки. Наиболее «узким» местом в этом процессе является изготовление микрошариков и сборка кассеты.
Столбиковые выводы (см. рис. 6.31, б) изготавливаются из золота или меди, которые покрываются слоем серебра и оловянно-свинцовым припоем. Шариковые и столбиковые выводы формируются на кристаллах заранее и одновременно до разделения групповой пластины. В первом приближении они представляют собой выступы полусферической или цилиндрической формы высотой порядка 30–60 мкм. Облуженными должны быть и ответные монтажные площадки на коммутационной плате.
В отличие от проволочного и ленточного монтажа объемные выводы соединяют с площадками платы пайкой, а кристалл при этом оказывается в перевернутом положении, т.е. структурами вниз. Электромонтаж в этих конструкциях совмещается с монтажом. Кристалл, находящийся в кассете в ориентированном положении, забирается вакуумным присосом («пинцетом») и переносится в позицию монтажа с определенным зазором. В зазор вводится полупрозрачное зеркало, позволяющее оператору через микроскоп наблюдать одновременно площадки на плате и выводы на кристалле. После совмещения зеркало выводится из зазора, а присос опускает кристалл на плату и прижимает его. Из миниатюрного сопла подается горячий инертный газ, выполняющий одновременно функции нагревательной и защитной среды, затем холодный инертный газ, чем и заканчивается цикл монтажа.
К достоинствам монтажа с помощью жестких объемных выводов относится:
сокращение числа соединений вдвое, что повышает надежность изделия при эксплуатации;
сокращение трудоемкости за счет одновременного присоединения всех выводов;
уменьшение монтажной площади до площади, занимаемой кристаллом;
исключение предварительного механического монтажа кристалла.
Ограничением для использования данного метода является необходимость применения коммутационных плат на основе тонких пленок с использованием фотолитографии, т.е. высокого разрешения, т.к. размеры площадок и шаг их расположения на плате и кристалле должны совпадать.
Недостатком таких конструкций выводов является применение метода перевернутого кристалла при электромонтаже, который исключает возможность эффективного контроля качества монтажа и ухудшает условия отвода тепла от кристалла.
Этих недостатков лишены конструкции с балочными (рис. 6.31, в) и паучковыми (ленточными) выводами (рис. 6.32).
В одном из вариантов балочных выводов используется трехслойная система Ti-Pt-Аи. Балочный вывод имеет толщину 10–15 мкм, ширину около 100 мкм и длину за пределами кромки кристалла 150–200 мкм.
Расстояние между балочными выводами на периферии кристалла 100–200 мкм. Балочные выводы позволяют осуществлять простой визуальный контроль качества монтажа кристаллов к контактным площадкам коммутационной платы с её лицевой стороны, существенно упрощается технологический процесс группового монтажа кристаллов. Недостатком применения балочных выводов является существенное усложнение технологического процесса разделения полупроводниковых пластин на отдельные кристаллы.
В других вариантах конструкций балочных выводов используются системы металлизации PtSi-Ti-Pt или Al-Ti-Mo-Аи. Контакт, адгезионный и буферный слои наносят методом тонкопленочной технологии, а платиновые или золотые балки наращивают из растворов электролитов.
Паучковые выводы (см. рис. 6.32) формируются механическим (вырубка) или химическим (локальным травлением с использованием фотолитографии) способом из тонкой 25–75 мкм медной, коваровой или алюминиевой фольги с золотым или никелевым покрытием. Число и расположение выводов соответствует числу и расположению контактных площадок микросхемы, с которыми они будут соединены. До и в процессе присоединения к контактным площадкам паучковые выводы составляют единое целое с металлической рамкой или лентой, в которой они сформированы. После индивидуального или одновременного группового присоединения всех выводов к контактным площадкам кристалла вслед за герметизацией кристалла обрамляющие части рамки обрубаются.
Для удобства монтажа и электромонтажа, внедрения автоматизации групповых процессов сборки и контроля кристаллов применяются гибкие ленточные кристаллоносители. Ленточные кристаллоносители на основе применения полиимида выполняются двух- или трехслойными.
Двухслойный носитель выполняется нанесением на медную металлическую фольгу толщиной 20–30 мкм полиимидного лака с его последующей полимеризацией. Рисунок формируется избирательным химическим травлением металлической фольги и полиимида. Фрагмент размещения кристалла на носителе изображён на рисунке 6.33.
В трехслойном носителе на пленку из полиимида наносится слой адгезива на основе эпоксидов (акрила или полиэфирных), и после разрезания пленки на ленты в ней пробиваются краевая перфорация, отверстия под кристаллы и балочные выводы. Лента наклеивается на металлическую фольгу (с кратковременным температурным воздействием и механическим усилием), и выполняется избирательное травление металлической фольги для формирования паучковых выводов с последующим осаждением защитного покрытия из олова, никеля или золота.
После монтажа кристаллов на носитель и контроля их параметров производится автоматическая вырубка кристаллов с выводами носителя, перенос и электромонтаж кристаллов на плате согласно рисунку 6.34.
1 — лента-носитель с кристаллами; 2 — несущее основание;
3 — многослойная полиимидная плата
Рисунок 6.34
При использовании технологии монтажа и электромонтажа с непрерывной металлической ленты возможна вытяжка тонкой фольги и образование механических повреждений, перегибов паучковых выводов. Для ослабления последствий этого явления, увеличения механической прочности системы проводников выводной рамки, удобства тестирования и сборки применяют конструкции с использованием гибкого носителя (см. рис. 6.35). На рисунке 6.35 приняты следующие обозначения: 1 — столбиковый вывод; 2 — паучковый вывод (Al или Cu); 3 — полиимидная плёнка-носитель; 4 — кристалл; 5 — контактные площадки контроля ИС и соединений; 6 — перфорационные отверстия; 7 — защитное покрытие.
Гибким диэлектрическим носителем служат ленты из полиимида, лавсана, полиэфира толщиной 40–120 мкм с перфорацией для осуществления автоматической подачи кадров этой ленты при формировании рисунка паучковых выводов в нанесенной на гибкую ленту-носитель медной или алюминиевой фольги. Чаше других используются конструкции паучковых выводов, сформированные на основе полиимидной пленки толщиной 40–50 мкм с накатанной на пленку медной фольгой толщиной 35 мкм. Для закрепления фольги на пленке перед накаткой на ленту наносят специальные клеи или адгезивы. Помимо перфорированных отверстий в полиимидной пленке локально протравливают сквозные отверстия, над которыми нависают внешние концы паучковых выводов и через которые осуществляется присоединение паучковых выводов микросхемы к коммутационной плате при сборке аппаратуры. Для контроля параметров микросхемы на концах выводов предусматриваются контактные площадки.
Присоединение паучковых выводов к кристаллу ИС приходится проводить с использованием промежуточных жестких шариковых или столбиковых выводов из-за невозможности присоединения плоского вывода к контактной площадке через окно в слое защитного диэлектрика. Перспективна конструкция паучковых выводов, на внутренних, обращенных к кристаллу концах которых имеются вытравленные выступы 2 толщиной около 30 мкм (см. рис. 6.36). Благодаря этим выступам отпадает необходимость в формировании жестких выводов (шариковых или столбиковых) на кристалле. На внешних концах паучковых выводов могут фор-мироваться утолщения вывода 1 до 60–70 мкм, повышающие его жесткость.
Использование ориентированных ленточных перемычек позволяет существенно снизить трудоемкость монтажа. Во-первых, для совмещения всей системы перемычек с кристаллом достаточно совместить две пары «перемычка-площадка», расположенных по диагонали. После приварки всех перемычек кристалл с системой перемычек переносится на плату и аналогично производится совмещение свободных концов с площадками платы и их приварка. Во-вторых, появляется возможность одновременной (групповой) приварки всех перемычек, расположенных в одном ряду. Из рассмотренных способов для групповой сварки могут быть использованы термокомпрессионный и ультразвуковой способы.
К недостатку ленточных конструкций следует отнести ограничения, накладываемые на конструкцию коммутационной платы и самого кристалла по числу и расположению монтажных площадок. Для смягчения этого недостатка предусматривается нормирование размерных рядов перемычек, отличающихся числом и шагом расположения.
Обычно внешние выводы микросхемы присоединяются к контактным площадкам, расположенным на рабочей (стороне расположения элементов) поверхности кристалла. Недостатками такого расположения являются: большая площадь кристалла, занимаемая контактными площадками (см. рис. 2.19.1, 2.19.2), деградация параметров и снижение надежности микросхем при присоединении внешних выводов, неудобства контроля качества сборки и электромонтажа бескорпусных микросхем на коммутационных платах.
Современными технологиями поддерживается ряд вариантов выноса контактных площадок на нерабочую сторону кристалла с применением проводящих каналов через толщу кристалла. Эти варианты реализуются по методу термомиграции и по методу лазерного прожигания отверстий (см. рис. 6.37).
Пометоду термоми-грации каналы создаются проплавлением алюминия через кремниевую пластину под действием градиента температуры, для чего на рабочую сторону пластины в местах планируемого про-плавления наносятся пло-щадки алюминия. Градиент температуры в пластине создаётся путем односто-роннего нагрева её нерабо-чей поверхности до температуры выше 577 °С. Термомиграция проводится при температуре 1100–1300 °С с градиентом температуры по толщине пластины 50–150 °С/см. На поверхности пластины в месте контакта алюминия с кремнием образуется зона жидкого эвтектического сплава, которая перемещается в направлении более горячей стороны пластины. В результате термоградиентной зонной миграции (ТГЗМ) в кремнии n-типа образуются каналы р+-типа с выходами на нерабочую сторону подложки (см. рис. 6.37, а). Скорость ТГЗМ при 1100 °С и градиенте температуры 50 °С/см составляет около 3 мкм/мин. Увеличение поперечного размера проводящего канала составляет 3–5 мкм при толщине пластины 200–400 мкм. Концентрация примеси (Al) в канале приблизительно соответствует уровню растворимости алюминия в кремнии при эвтектической температуре, что соответствует удельному сопротивлению в канале ρ = 0,005 Ом∙см. Проводящие каналы следует формировать до начала формирования элементов в полупроводниковой микросхеме, однако проблемой является перераспределение примеси в канале. Поэтому для получения каналов n-типа в кремнии р-типа в качестве легирующего и создающего движущуюся жидкую зону материала используется альтернативный сплав олово-сурьма.
По методу лазерного прожигания отверстий прожигаются сквозные отверстия в сапфировых (см. рис. 6.37, б) или кремниевых подложках Ø 200 мкм. Отверстия заполняются жидким проводящим материалом за счет капиллярного эффекта. В кремниевых пластинах перед заполнением отверстий проводящим материалом стенки легируют подходящей примесью, с тем чтобы изолировать проводящие каналы от подложки с помощью р-п-пе-рехода (см. рис. 6.37, в).
Создание сквозных проводящих каналов, соединяющих рабочую и обратную стороны кристалла, позволяет осуществить соединение кристаллов в этажерочную конструкцию. Благодаря этому можно перейти к созданию микроэлектронной аппаратуры в виде этажерочных микромодулей на новом уровне, когда каждый этаж будет содержать не отдельный радиоэлемент, а функциональное устройство в виде больших (БИС) или сверхбольших ИС (СБИС).