- •Л.А. Торгонский
- •Содержание
- •4 Проектирование гимс 4
- •5 Проектирование бис 105
- •4.2 Подложки и платы гимс
- •4.3 Резисторы гис
- •4.3.1 Конструкции пленочных резисторов
- •4.3.2 Функциональные параметры резисторов гис
- •4.3.3 Материалы тонкоплёночных резисторов
- •4.3.4 Материалы толстоплёночных резисторов
- •4.3.5 Технологические ограничения
- •4.3.6 Тонкоплёночные резисторы без подгонки
- •4.3.7 Проектирование резисторов в форме меандра
- •4.3.8 Резисторы с подгонкой сопротивления
- •4.3.9 Проектирование толстоплёночных резисторов
- •4.3.10 Частотные свойства плёночных резисторов
- •4.4 Плёночные конденсаторы гис
- •4.4.1 Введение
- •4.4.2 Конструкции плёночных конденсаторов гимс
- •4.4.3 Функциональные параметры конденсаторов гимс
- •4.4.4 Материалы тонкоплёночных конденсаторов
- •4.4.5 Проектирование тонкоплёночных конденсаторов
- •4.4.6 Подгоняемые плёночные конденсаторы
- •4.4.7 Материалы толстоплёночных конденсаторов
- •4.4.8 Проектирование толстоплёночных конденсаторов
- •4.5 Индуктивные элементы гис
- •4.5.1 Введение
- •4.5.2 Проектирование плёночных катушек
- •4.6 Соединения и контакты гис
- •4.7 Коммутационные платы
- •4.8 Компоненты гис
- •4.8.1 Введение
- •4.8.2 Конструкции кристаллов
- •4.8.3 Конструкции конденсаторов
- •4.8.4 Конструкции резисторов
- •4.8.5 Индуктивные компоненты гимс
- •4.9 Гибридные микросхемы свч диапазона
- •4.9.1 Введение
- •4.9.2 Элементы гимс свч
- •4.9.3 Подложки гимс свч
- •4.9.4 Микрополосковые линии передачи гимс свч
- •4.9.5 Пассивные элементы гимс свч
- •4.9.6 Активные элементы гимс свч
- •4.9.7 Конструкции гимс свч
- •5 Проектирование бис
- •5.1 Введение
- •5.2 Проблемы проектирования бис
- •5.3 Этапы проектирования бис
- •5.4 Элементная база бис. Матричные кристаллы
- •5.4.1 Введение
- •5.4.2 Библиотечный набор функциональных элементов и узлов
- •5.4.3 Конструктивные параметры модулей матричных бис
- •5.5 Автоматизация проектирования топологии имс
- •5.6 Системы автоматизации проектирования бис
- •6 Обеспечение защиты имс и мп
- •6.1 Введение
- •6.2 Корпуса микросхем
- •6.3 Бескорпусные микросхемы
- •6.4 Тепловые режимы имс
- •6.5 Внешние и внутренние паразитные связи и помехи в ис
- •6.6 Обеспечение механической устойчивости конструкций ис
- •6.7 Защита микросхем от воздействия агрессивных сред
- •6.8 Монтаж кристаллов и плат
- •6.9 Электрический монтаж кристаллов и плат
- •7 Конструкторская документация ис
- •7.1 Понятия и определения
- •7.2 Состав и содержание текстовых документов
- •7.3 Схемная докумнтация
- •7.4 Масштабные графические документы микросхем
- •8 Заключение
- •Список литературы
4.5.2 Проектирование плёночных катушек
Как отмечалось, вследствие влияния собственного и внешнего размагничивания в спиральных катушках, обеспечение заданной индуктивности по проектным оценкам не отличается достаточной точностью. Требуемое значение индуктивности обеспечивается подстройкой параметра или компенсируется в резонансных включениях подбором ёмкости конденсаторов.
К проектированию спиральных катушек формируется перечень исходных данных:
функциональные параметры:
а) индуктивность, L;
б) добротность, Q;
в) рабочая частота, f, МГц;
параметры материалов катушки:
а) удельное сопротивление проводника, ρ;
б) параметры материала подложки (диэлектрическая проницаемость ε, tg δ учитываются косвенно);
конструктивно-технологические ограничения:
а) погрешность линейных размеров ∆L (или минимально допустимые размеры зазора между проводниками и ширины проводника) и совмещения ∆С для компоновки вывода от внутреннего витка;
б) допустимая толщина проводника, h;
в) максимально-допустимый наружный диаметр катушки Dн max;
г) наличие и вид экранирующих элементов.
В результате расчёта должны быть приведены в соответствие наружный диаметр, число витков катушки, ширина проводника, зазор между витками с заданными значениями индуктивности и добротности на заданной рабочей частоте.
Расчётная методика, позволяющая сформировать оценочные значения размеров для доводки на экспериментальных образцах, сводится к последовательности операций:
назначается допустимый наружный Dн и оптимальный внутренний Dвн диаметр катушки;
из соотношения (4.57) определяется шаг t расположения витков:
t = k ∙ (Dвн)3/2/√L; (4.62)
из формулы (4.59) определяется ширина проводника витка катушки:
b = Q∙ρ∙t∙ (D2н/D2вн – 1) ∙104/16 ∙f∙Dвн∙k2∙h; (4.63)
для учёта влияния поверхностного эффекта расчётное значение ширины проводника завышается в 1,5–2 раза;
по допустимому технологическому значению межвиткового зазора и ширине проводника b проверяется и приводится в соответствие размер шага катушки t (если это возможно, или констатируется факт несоответствия заданным функциональным параметрам);
для оптимального отношения Dн/Dвн ≈ 0,4 определяется число витков катушки по размещению:
N = (Dн – Dвн)/2∙ t;
по формулам (4.57), (4.59) проводится поверочный расчёт с приоритетом обеспечения заданной индуктивности;
по результатам расчёта корректируются размеры и число витков и принимается заключение об исполнимости предъявленных требований;
в случае общего соответствия требований к функциональным параметрам и конструктивному исполнению катушки по графикам рисунков 4.16, 4.17 и формуле (4.60) оцениваются влияние и поправки на размагничивающее действие смежных размагничивающих элементов;
в случае несоответствия конструкции катушки предъявленным требованиям принимается решение о применении исполнения катушек в виде компонент.
4.6 Соединения и контакты гис
Подобно исполнению соединений на кристаллах, для электрического соединения элементов на платах ГИМС применяются тонкопленочные проводники с высокой электрической проводимостью и хорошей адгезией к подложке. В таблице 4.13 приведены параметры многокомпонентных структур, рекомендуемых к исполнению проводников и контактных площадок с удовлетворением требований адгезии к несущему основанию, обеспечением приемлемой проводимости и требуемых качественных показателей в электромонтажных соединениях.
В качестве адгезионных буферных материалов по ситаллу, стеклу, керамике или межслойной изоляции токопроводящих слоёв моноокисью кремния, широко применяется подслой хрома или нихрома. Приемлемая проводимость соединений и контактов обеспечивается при исполнении основного проводящего слоя из алюминия, золота или меди вакуумной плавки. При этом для защиты от окисления и подготовки контактных поверхностей к электромонтажу по меди применяются покрытия из серебра или золота, а по алюминию в качестве монтажного покрытия наносятся плёнки никеля.
Таблица 4.13 — Параметры многокомпонентных структур контактов и соединений
Материалы |
Толщина слоя, мкм |
R□, Ом |
Способ контактирования внешних выводов |
Подслой — нихром Слой — золото |
0,01–0,03 0,6–0,8 |
0,03–0,04 |
Пайка, сварка импульсно-косвенным нагревом |
Подслой — нихром Слой — медь Покрытие — никель |
0,01–0,03 0,6–0,8 0,05–0,06 |
0,02–0,04 |
Сварка импульсным косвенным нагревом |
Подслой — нихром Слой — медь Покрытие — серебро |
0,01–0,03 0,4–1,0 0,08–0,1 |
0,02–0,04 |
Пайка, сварка импульсным косвенным нагревом или сдвоенным электродом |
Подслой — нихром Слой — медь Покрытие — золото |
0,01–0,03 0,6–0,8 0,05–0,06 |
0,02–0,04 |
Пайка, сварка импульсным косвенным нагревом |
Подслой — нихром Слой — алюминий Покрытие — никель |
0,04–0,05 0,25–0,35 0,05 |
0,1–0,2 |
Сварка сдвоенным электродом |
В местах пересечения плёночные проводные соединения могут изолироваться друг от друга диэлектрическими пленками межслойной изоляции. Для изоляции проводников применяют моноокись кремния и халькогенидное стекло, параметры которых приведены в таблице 4.14.
Таблица 4.14 — Свойства материалов межслойной изоляции
Материал |
Удельная емкость, пФ/см2 (не более) |
Тангенс угла диэле ктри- ческих потерь при частоте 1 кГц, (не более) |
Удельное объемное сопротивление, Ом∙см (не менее) |
Критическая напряжённость поля, В/см (не менее) |
Моноокись кремния |
1700 |
0,03 |
1012 |
0,8∙106 |
Халькогенидное стекло |
5000 |
0,01 |
1012 |
1,7∙106 |
Как и для соединений на кристаллах, соединения и контакты на платах ГИМС должны удовлетворять нормам на вносимые активные и реактивные сопротивления. Для оценки сопротивлений и их частотных зависимостей следует применять соотношения, приведенные в разделе 4.3.
В отличие от соединений и контактов на кристаллах проводные соединения гибридных исполняются по технологическим нормам плёночных технологий и потому характеризуются существенно более значительными геометрическими размерами.
Диэлектрические основания гибридных конструкций в развитии технологии печатных плат в современных микроэлектронных устройствах выполняют функции объединительных (коммутационных) плат.