Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
ПИМС и МП. Лекции, задания / УчебноеПособие_Р2_1_м.doc
Скачиваний:
283
Добавлен:
11.05.2015
Размер:
4.84 Mб
Скачать

4.5.2 Проектирование плёночных катушек

Как отмечалось, вследствие влияния собственного и внешнего размагничивания в спиральных катушках, обеспечение заданной индуктивности по проектным оценкам не отличается достаточной точностью. Требуемое значение индуктивности обеспечивается подстройкой параметра или компенсируется в резонансных включениях подбором ёмкости конденсаторов.

К проектированию спиральных катушек формируется перечень исходных данных:

  • функциональные параметры:

а) индуктивность, L;

б) добротность, Q;

в) рабочая частота, f, МГц;

  • параметры материалов катушки:

а) удельное сопротивление проводника, ρ;

б) параметры материала подложки (диэлектрическая проницаемость ε, tg δ учитываются косвенно);

  • конструктивно-технологические ограничения:

а) погрешность линейных размеров ∆L (или минимально допустимые размеры зазора между проводниками и ширины проводника) и совмещения ∆С для компоновки вывода от внутреннего витка;

б) допустимая толщина проводника, h;

в) максимально-допустимый наружный диаметр катушки Dн max;

г) наличие и вид экранирующих элементов.

В результате расчёта должны быть приведены в соответствие наружный диаметр, число витков катушки, ширина проводника, зазор между витками с заданными значениями индуктивности и добротности на заданной рабочей частоте.

Расчётная методика, позволяющая сформировать оценочные значения размеров для доводки на экспериментальных образцах, сводится к последовательности операций:

  • назначается допустимый наружный Dн и оптимальный внутренний Dвн диаметр катушки;

  • из соотношения (4.57) определяется шаг t расположения витков:

t = k ∙ (Dвн)3/2/√L; (4.62)

  • из формулы (4.59) определяется ширина проводника витка катушки:

b = Q∙ρ∙t∙ (D2н/D2вн – 1) ∙104/16 ∙f∙Dвн∙k2∙h; (4.63)

  • для учёта влияния поверхностного эффекта расчётное значение ширины проводника завышается в 1,5–2 раза;

  • по допустимому технологическому значению межвиткового зазора и ширине проводника b проверяется и приводится в соответствие размер шага катушки t (если это возможно, или констатируется факт несоответствия заданным функциональным параметрам);

  • для оптимального отношения Dн/Dвн ≈ 0,4 определяется число витков катушки по размещению:

N = (Dн – Dвн)/2∙ t;

  • по формулам (4.57), (4.59) проводится поверочный расчёт с приоритетом обеспечения заданной индуктивности;

  • по результатам расчёта корректируются размеры и число витков и принимается заключение об исполнимости предъявленных требований;

  • в случае общего соответствия требований к функциональным параметрам и конструктивному исполнению катушки по графикам рисунков 4.16, 4.17 и формуле (4.60) оцениваются влияние и поправки на размагничивающее действие смежных размагничивающих элементов;

  • в случае несоответствия конструкции катушки предъявленным требованиям принимается решение о применении исполнения катушек в виде компонент.

4.6 Соединения и контакты гис

Подобно исполнению соединений на кристаллах, для электрического соединения элементов на платах ГИМС применяются тонкопленочные проводники с высокой электрической проводимостью и хорошей адгезией к подложке. В таблице 4.13 приведены параметры многокомпонентных структур, рекомендуемых к исполнению проводников и контактных площадок с удовлетворением требований адгезии к несущему основанию, обеспечением приемлемой проводимости и требуемых качественных показателей в электромонтажных соединениях.

В качестве адгезионных буферных материалов по ситаллу, стеклу, керамике или межслойной изоляции токопроводящих слоёв моноокисью кремния, широко применяется подслой хрома или нихрома. Приемлемая проводимость соединений и контактов обеспечивается при исполнении основного проводящего слоя из алюминия, золота или меди вакуумной плавки. При этом для защиты от окисления и подготовки контактных поверхностей к электромонтажу по меди применяются покрытия из серебра или золота, а по алюминию в качестве монтажного покрытия наносятся плёнки никеля.

Таблица 4.13 — Параметры многокомпонентных структур контактов и соединений

Материалы

Толщина

слоя, мкм

R□, Ом

Способ контактирования внешних выводов

Подслой — нихром

Слой — золото

0,01–0,03

0,6–0,8

0,03–0,04

Пайка, сварка импульсно-косвенным нагревом

Подслой — нихром Слой — медь

Покрытие — никель

0,01–0,03 0,6–0,8

0,05–0,06

0,02–0,04

Сварка импульсным косвенным нагревом

Подслой — нихром Слой — медь

Покрытие — серебро

0,01–0,03 0,4–1,0

0,08–0,1

0,02–0,04

Пайка, сварка импульсным косвенным нагревом или сдвоенным электродом

Подслой — нихром

Слой — медь

Покрытие — золото

0,01–0,03

0,6–0,8

0,05–0,06

0,02–0,04

Пайка, сварка импульсным косвенным нагревом

Подслой — нихром

Слой — алюминий

Покрытие — никель

0,04–0,05

0,25–0,35

0,05

0,1–0,2

Сварка сдвоенным электродом

В местах пересечения плёночные проводные соединения могут изолироваться друг от друга диэлектрическими пленками межслойной изоляции. Для изоляции проводников применяют моноокись кремния и халькогенидное стекло, параметры которых приведены в таблице 4.14.

Таблица 4.14 — Свойства материалов межслойной изоляции

Материал

Удельная емкость,

пФ/см2

(не более)

Тангенс угла диэле ктри-

ческих потерь при частоте

1 кГц,

(не более)

Удельное объемное сопротивление, Ом∙см

(не менее)

Критическая напряжённость поля, В/см

(не менее)

Моноокись кремния

1700

0,03

1012

0,8∙106

Халькогенидное стекло

5000

0,01

1012

1,7∙106

Как и для соединений на кристаллах, соединения и контакты на платах ГИМС должны удовлетворять нормам на вносимые активные и реактивные сопротивления. Для оценки сопротивлений и их частотных зависимостей следует применять соотношения, приведенные в разделе 4.3.

В отличие от соединений и контактов на кристаллах проводные соединения гибридных исполняются по технологическим нормам плёночных технологий и потому характеризуются существенно более значительными геометрическими размерами.

Диэлектрические основания гибридных конструкций в развитии технологии печатных плат в современных микроэлектронных устройствах выполняют функции объединительных (коммутационных) плат.