- •Л.А. Торгонский
- •Содержание
- •4 Проектирование гимс 4
- •5 Проектирование бис 105
- •4.2 Подложки и платы гимс
- •4.3 Резисторы гис
- •4.3.1 Конструкции пленочных резисторов
- •4.3.2 Функциональные параметры резисторов гис
- •4.3.3 Материалы тонкоплёночных резисторов
- •4.3.4 Материалы толстоплёночных резисторов
- •4.3.5 Технологические ограничения
- •4.3.6 Тонкоплёночные резисторы без подгонки
- •4.3.7 Проектирование резисторов в форме меандра
- •4.3.8 Резисторы с подгонкой сопротивления
- •4.3.9 Проектирование толстоплёночных резисторов
- •4.3.10 Частотные свойства плёночных резисторов
- •4.4 Плёночные конденсаторы гис
- •4.4.1 Введение
- •4.4.2 Конструкции плёночных конденсаторов гимс
- •4.4.3 Функциональные параметры конденсаторов гимс
- •4.4.4 Материалы тонкоплёночных конденсаторов
- •4.4.5 Проектирование тонкоплёночных конденсаторов
- •4.4.6 Подгоняемые плёночные конденсаторы
- •4.4.7 Материалы толстоплёночных конденсаторов
- •4.4.8 Проектирование толстоплёночных конденсаторов
- •4.5 Индуктивные элементы гис
- •4.5.1 Введение
- •4.5.2 Проектирование плёночных катушек
- •4.6 Соединения и контакты гис
- •4.7 Коммутационные платы
- •4.8 Компоненты гис
- •4.8.1 Введение
- •4.8.2 Конструкции кристаллов
- •4.8.3 Конструкции конденсаторов
- •4.8.4 Конструкции резисторов
- •4.8.5 Индуктивные компоненты гимс
- •4.9 Гибридные микросхемы свч диапазона
- •4.9.1 Введение
- •4.9.2 Элементы гимс свч
- •4.9.3 Подложки гимс свч
- •4.9.4 Микрополосковые линии передачи гимс свч
- •4.9.5 Пассивные элементы гимс свч
- •4.9.6 Активные элементы гимс свч
- •4.9.7 Конструкции гимс свч
- •5 Проектирование бис
- •5.1 Введение
- •5.2 Проблемы проектирования бис
- •5.3 Этапы проектирования бис
- •5.4 Элементная база бис. Матричные кристаллы
- •5.4.1 Введение
- •5.4.2 Библиотечный набор функциональных элементов и узлов
- •5.4.3 Конструктивные параметры модулей матричных бис
- •5.5 Автоматизация проектирования топологии имс
- •5.6 Системы автоматизации проектирования бис
- •6 Обеспечение защиты имс и мп
- •6.1 Введение
- •6.2 Корпуса микросхем
- •6.3 Бескорпусные микросхемы
- •6.4 Тепловые режимы имс
- •6.5 Внешние и внутренние паразитные связи и помехи в ис
- •6.6 Обеспечение механической устойчивости конструкций ис
- •6.7 Защита микросхем от воздействия агрессивных сред
- •6.8 Монтаж кристаллов и плат
- •6.9 Электрический монтаж кристаллов и плат
- •7 Конструкторская документация ис
- •7.1 Понятия и определения
- •7.2 Состав и содержание текстовых документов
- •7.3 Схемная докумнтация
- •7.4 Масштабные графические документы микросхем
- •8 Заключение
- •Список литературы
4.4.7 Материалы толстоплёночных конденсаторов
Электрофизические свойства рекомендуемых к применению в толстоплёночных микросхемах конденсаторных и изолирующих паст приведены в таблице 4.11.
Таблица 4.11 — Параметры диэлектрических паст
|
|
|
|
|
|
|
Марка пасты |
Толщина, мкм |
Суд, пФ/см2 |
tgδ, 10–3 1,5 МГц |
Uпр, B |
ТКЕ, К–1,10–4 |
Назначение |
ПК-1000 -30 |
40–60 |
3700 |
3,5 |
150
|
± 3,5 |
Диэлектрик С, изоляция проводников |
ПК-12 |
40–60 |
10000 |
3,5 |
150
|
± 3,5 |
Диэлектрик С |
ПД-1 |
40–70 |
160 |
2 |
500 |
– |
Межслоевая изоляция |
П
Окончание
табл. 4.11 |
50–60 |
220 |
3 |
500 |
– |
Межслоевая изоляция |
ПД-3 |
30–50 |
– |
2 |
– |
– |
Защитный слой по слою ПД-1 |
ПД-4 |
30–50 |
– |
3 |
– |
– |
Защитный слой по слою ПД-2 |
Цемент СЦ-273 |
30–50 |
= 17 |
2,5 |
300 |
– |
Межслоевая изоляция |
Цемент СЦ-45 |
30–50 |
= = (7–8) |
3 |
300 |
– |
Межслоевая изоляция |
Согласно табличным данным, параметры конденсаторных паст по большинству параметров сопоставимы, различаясь значением удельной ёмкости. Температура вжигания изолирующих паст сопоставима с температурой вжигания проводящих паст. Нижнюю обкладку необходимо исполнять с более высокой температурой вжигания, а верхнюю — с более низкой.
4.4.8 Проектирование толстоплёночных конденсаторов
Толстоплёночные конструкции конденсаторов, как и резисторов, отличаются в связи со специфическими ограничениями технологии формирования слоёв. Вследствие значительного производственного разброса удельной ёмкости не имеет смысла вводить ограничения на размеры иначе, чем по критериям электрической прочности и ожидаемого минимального значения ёмкости. Подгонка ёмкости для толстоплёночных конденсаторов также мало эффективна. Вместе с тем толстоплёночные конденсаторы могут быть встроены в конструкции толстоплёночных ГИМС в качестве блокировочных или разделительных элементов, когда требуемые номиналы технологически достижимы и позволяют исключить однотипные компоненты. К проектированию толстоплёночных конденсаторов исходными данными являются функциональные параметры:
номинальная емкость конденсатора С, пФ;
рабочее напряжение Upaб, В.
Технологические ограничения:
по погрешностям линейных размеров ∆В, мкм;
по погрешностям совмещения ∆С, мкм;
по толщине паст h, мкм;
По параметрам паст, согласно таблицам 4.10, 4.6, 4,7.
Последовательность проектирования:
в зависимости от диапазона номинальных значений ёмкости выбирается диэлектрическая паста ПК-1000-30 или ПК-12 из табл. 4.10 и проводящие пасты нижней и верхней обкладок из таблицы 4.6;
определяется площадь верхней обкладки конденсатора:
S = C/Cуд.
Для обкладок квадратной формы определяются линейные размеры верхней обкладки:
Ав = Bв = √S
и геометрические размеры нижней обкладки конденсатора:
Ан = Вн = Ав + 2∙p,
где р — перекрытие между нижней и верхней обкладками.
Определяются геометрические размеры диэлектрика между обкладками:
АД = ВД = Ан + 2∙f,
где f — перекрытие между нижней обкладкой и диэлектриком. Размеры перекрытий p и f принимаются в соответствии с нормами, представленными в таблице 4.9. Размеры окон шаблонов для учёта растекания паст (для обкладок) должны быть уменьшены на (1–2) толщины пасты после вжигания, подобно тому как это принималось в проектировании толстоплёночных резисторов.
Оценка потерь в толстоплёночном конденсаторе выполняется по формуле (4.47) с учётом (4.44). Для повышения добротности при прочих равных условиях следует уменьшать отношение размеров А/В. В формообразовании топологических областей конденсаторов следует учитывать направленность нанесения слоёв через сеточные трафареты, как это оговаривалось для конструкций резисторов.