- •Л.А. Торгонский
- •Содержание
- •4 Проектирование гимс 4
- •5 Проектирование бис 105
- •4.2 Подложки и платы гимс
- •4.3 Резисторы гис
- •4.3.1 Конструкции пленочных резисторов
- •4.3.2 Функциональные параметры резисторов гис
- •4.3.3 Материалы тонкоплёночных резисторов
- •4.3.4 Материалы толстоплёночных резисторов
- •4.3.5 Технологические ограничения
- •4.3.6 Тонкоплёночные резисторы без подгонки
- •4.3.7 Проектирование резисторов в форме меандра
- •4.3.8 Резисторы с подгонкой сопротивления
- •4.3.9 Проектирование толстоплёночных резисторов
- •4.3.10 Частотные свойства плёночных резисторов
- •4.4 Плёночные конденсаторы гис
- •4.4.1 Введение
- •4.4.2 Конструкции плёночных конденсаторов гимс
- •4.4.3 Функциональные параметры конденсаторов гимс
- •4.4.4 Материалы тонкоплёночных конденсаторов
- •4.4.5 Проектирование тонкоплёночных конденсаторов
- •4.4.6 Подгоняемые плёночные конденсаторы
- •4.4.7 Материалы толстоплёночных конденсаторов
- •4.4.8 Проектирование толстоплёночных конденсаторов
- •4.5 Индуктивные элементы гис
- •4.5.1 Введение
- •4.5.2 Проектирование плёночных катушек
- •4.6 Соединения и контакты гис
- •4.7 Коммутационные платы
- •4.8 Компоненты гис
- •4.8.1 Введение
- •4.8.2 Конструкции кристаллов
- •4.8.3 Конструкции конденсаторов
- •4.8.4 Конструкции резисторов
- •4.8.5 Индуктивные компоненты гимс
- •4.9 Гибридные микросхемы свч диапазона
- •4.9.1 Введение
- •4.9.2 Элементы гимс свч
- •4.9.3 Подложки гимс свч
- •4.9.4 Микрополосковые линии передачи гимс свч
- •4.9.5 Пассивные элементы гимс свч
- •4.9.6 Активные элементы гимс свч
- •4.9.7 Конструкции гимс свч
- •5 Проектирование бис
- •5.1 Введение
- •5.2 Проблемы проектирования бис
- •5.3 Этапы проектирования бис
- •5.4 Элементная база бис. Матричные кристаллы
- •5.4.1 Введение
- •5.4.2 Библиотечный набор функциональных элементов и узлов
- •5.4.3 Конструктивные параметры модулей матричных бис
- •5.5 Автоматизация проектирования топологии имс
- •5.6 Системы автоматизации проектирования бис
- •6 Обеспечение защиты имс и мп
- •6.1 Введение
- •6.2 Корпуса микросхем
- •6.3 Бескорпусные микросхемы
- •6.4 Тепловые режимы имс
- •6.5 Внешние и внутренние паразитные связи и помехи в ис
- •6.6 Обеспечение механической устойчивости конструкций ис
- •6.7 Защита микросхем от воздействия агрессивных сред
- •6.8 Монтаж кристаллов и плат
- •6.9 Электрический монтаж кристаллов и плат
- •7 Конструкторская документация ис
- •7.1 Понятия и определения
- •7.2 Состав и содержание текстовых документов
- •7.3 Схемная докумнтация
- •7.4 Масштабные графические документы микросхем
- •8 Заключение
- •Список литературы
4.8.5 Индуктивные компоненты гимс
Индуктивные компоненты исполняются на магнитных сердечниках, что позволяет концентрировать магнитное поле, ограничить взаимную связь витков катушки с окружающими электро- и магнитнопроводящими объектами, в десятки раз повысить индуктивность и добротность катушек. На рисунке 4.29 изображен навесной индуктивный элемент на тороидальном магнитном сердечнике.
Размеры (диаметр D и высота Н) катушек индуктивности и их совокупностей определяются размерами плат и высоты полости корпуса. Внешний диаметр катушек D для ГИМС ограничивается по максимуму значением (6–8) мм при высоте катушки H не более (2–2,5) мм. Минимальный диаметр провода для намоткикатушек вследствие сни-жения механической прочности ограничивается значением 0,1 мм (в изоляции). Для типовых тороидальных магнитных сердечников с отношением диаметров (2–2,5) при коэффициенте заполнения окна медью 0,15 максимальное число витков катушек может достигать (80–100). Индуктивность тороидальных катушек с магнитным сердечником определяется по формуле
L = (1,26∙10–2 ∙ μ эф∙N2∙Ѕсер/Lcр), мкГн, (4.64)
где μ эф — эффективная магнитная проницаемость сердечника;
N — число витков катушки;
Ѕсер — средняя площадь поперечного сечения сердечника, см2;
Lcр — длина средней силовой линии сердечника, см.
При эффективной магнитной проницаемости (10–20) единиц индуктивность достигает (0,8–1,5) мГн. Добротность таких катушек определяется омическим сопротивлением провода катушки на постоянном токе (0,5–1) Ом. В расчёте на названное число витков могут исполняться многообмоточные моточные изделия (трансформаторы). Допустимые токи в миниатюрных катушках в расчёте на допустимую плотность тока более 2 А/мм2 определяются для диаметра провода не менее 0,07 мм. Относительная магнитная проницаемость материала тороидальных сердечников находится в достаточно широком диапазоне значений от 2–5 до 2000–3000 и в отсутствие немагнитных зазоров магнитной цепи может рассматриваться как эффективное значение μ эф.
4.9 Гибридные микросхемы свч диапазона
4.9.1 Введение
Диапазон сверхвысоких частот (СВЧ) охватывает область спектра электромагнитных колебаний в пределах от единиц до сотен гигагерц. Диапазон СВЧ разделяется на три поддиапазона:
дециметровый (1–3), ГГц;
сантиметровый (3–30), ГГц;
миллиметровый (30–300), Гц.
Совокупность элементов, объединённых в общую цепь с электромагнитными связями, выполняющую заданную функцию по отношению к сигналу СВЧ, называют схемой СВЧ или функциональным узлом (ФУ) СВЧ. Типовыми ФУ СВЧ являются: генераторы, усилители, преобразователи частоты, коммутирующие устройства, фазосдвигающие устройства (фазовращатели) и т.п. Функциональные узлы, включая элементы с распределенными параметрами, объединяются операциями сборки и электромонтажа.
Интегральная микросхема (ИМС СВЧ) реализуется из не отделимых друг от друга элементов. В ней принципиально невозможна замена отдельных элементов в процессе обработки, проверки и эксплуатации. В СВЧ ИМС не применяется механическая подстройка и регулировка элементов. Если это необходимо, то для этих целей применяются электронные элементы состава микросхемы.
Подобно иным ИМС микросхемы СВЧ могут быть полупроводниковыми или гибридными. Полупроводниковые ИМС СВЧ из-за низкого процента выхода годных схем, технологических ограничений и больших потерь имеют ограниченное применение. Однако совместимость групповых технологических процессов производства конструкций активных и пассивных элементов даёт основание полагать, что в верхней части СВЧ диапазона (в миллиметровом диапазоне) полупроводниковые микросхемы получат более широкое распространение.
Сложность технологии производства приборов СВЧ не позволяет сразу перейти к высоким степеням интеграции на основе технологии пленочных или полупроводниковых микросхем. Практическое использование находят преимущественно гибридные микросхемы ограниченного функционального назначения с небольшим числом активных элементов.
В гибридных ИС СВЧ активные элементы включаются как компоненты, заранее изготовленные методами полупроводниковой технологии. В основном применяются планарные приборы, которые монтируются либо последовательно (в разрыв микрополоскового проводника), либо параллельно (между сигнальным проводником и металлизированной поверхностью подложки, выполняющей функцию обратного провода). Активные приборы располагаются как на поверхности подложки, так и в ее объеме (в углублениях или отверстиях). Распространение получили ГИМС в диапазоне частот от 1 до 15 ГГц, изготовляемые на диэлектрических или ферритовых подложках. Пассивные элементы изготавливаются осаждением тонких или толстых пленок. Активные приборы (в корпусном или бескорпусном исполнении) монтируются на подложке и электрически соединяются с пассивными элементами микросхемы.
Гибридные ИС СВЧ разделяются на два основных типа:
с распределенными параметрами;
с сосредоточенными параметрами.
К преимуществам гибридных ИС относится существенное уменьшение габаритов и массы, снижение стоимости и повышение надёжности по сравнению с волноводными и коаксиальными устройствами. Вопросы проектирования диапазона микросхем СВЧ рассматриваются в работах [10,12,13].