- •Л.А. Торгонский
- •Содержание
- •4 Проектирование гимс 4
- •5 Проектирование бис 105
- •4.2 Подложки и платы гимс
- •4.3 Резисторы гис
- •4.3.1 Конструкции пленочных резисторов
- •4.3.2 Функциональные параметры резисторов гис
- •4.3.3 Материалы тонкоплёночных резисторов
- •4.3.4 Материалы толстоплёночных резисторов
- •4.3.5 Технологические ограничения
- •4.3.6 Тонкоплёночные резисторы без подгонки
- •4.3.7 Проектирование резисторов в форме меандра
- •4.3.8 Резисторы с подгонкой сопротивления
- •4.3.9 Проектирование толстоплёночных резисторов
- •4.3.10 Частотные свойства плёночных резисторов
- •4.4 Плёночные конденсаторы гис
- •4.4.1 Введение
- •4.4.2 Конструкции плёночных конденсаторов гимс
- •4.4.3 Функциональные параметры конденсаторов гимс
- •4.4.4 Материалы тонкоплёночных конденсаторов
- •4.4.5 Проектирование тонкоплёночных конденсаторов
- •4.4.6 Подгоняемые плёночные конденсаторы
- •4.4.7 Материалы толстоплёночных конденсаторов
- •4.4.8 Проектирование толстоплёночных конденсаторов
- •4.5 Индуктивные элементы гис
- •4.5.1 Введение
- •4.5.2 Проектирование плёночных катушек
- •4.6 Соединения и контакты гис
- •4.7 Коммутационные платы
- •4.8 Компоненты гис
- •4.8.1 Введение
- •4.8.2 Конструкции кристаллов
- •4.8.3 Конструкции конденсаторов
- •4.8.4 Конструкции резисторов
- •4.8.5 Индуктивные компоненты гимс
- •4.9 Гибридные микросхемы свч диапазона
- •4.9.1 Введение
- •4.9.2 Элементы гимс свч
- •4.9.3 Подложки гимс свч
- •4.9.4 Микрополосковые линии передачи гимс свч
- •4.9.5 Пассивные элементы гимс свч
- •4.9.6 Активные элементы гимс свч
- •4.9.7 Конструкции гимс свч
- •5 Проектирование бис
- •5.1 Введение
- •5.2 Проблемы проектирования бис
- •5.3 Этапы проектирования бис
- •5.4 Элементная база бис. Матричные кристаллы
- •5.4.1 Введение
- •5.4.2 Библиотечный набор функциональных элементов и узлов
- •5.4.3 Конструктивные параметры модулей матричных бис
- •5.5 Автоматизация проектирования топологии имс
- •5.6 Системы автоматизации проектирования бис
- •6 Обеспечение защиты имс и мп
- •6.1 Введение
- •6.2 Корпуса микросхем
- •6.3 Бескорпусные микросхемы
- •6.4 Тепловые режимы имс
- •6.5 Внешние и внутренние паразитные связи и помехи в ис
- •6.6 Обеспечение механической устойчивости конструкций ис
- •6.7 Защита микросхем от воздействия агрессивных сред
- •6.8 Монтаж кристаллов и плат
- •6.9 Электрический монтаж кристаллов и плат
- •7 Конструкторская документация ис
- •7.1 Понятия и определения
- •7.2 Состав и содержание текстовых документов
- •7.3 Схемная докумнтация
- •7.4 Масштабные графические документы микросхем
- •8 Заключение
- •Список литературы
4.9.7 Конструкции гимс свч
Наиболее распространенным является модульное конструирование СВЧ-ИМС, обеспечивающее электромагнитное экранирование, механическую прочность и защиту от воздействий окружающей среды. Большинство СВЧ-модулей герметизируют, что обеспечивает стабильность их характеристик. Кроме того, конструкция модуля должна обеспечивать проведение испытаний и оптимизацию отдельных узлов до их объединения в блок, герметизацию для защиты открытых полупроводниковых переходов, охлаждение модуля, а также его малые размеры и массу.
Применяют два способа сборки сложных ГИМС СВЧ из отдельных узлов. Один из них — непосредственное соединение отдельных ИМС, представляющих элементы СВЧ тракта, на плоском основании. Для более плотного монтажа подбирают такую конфигурацию проводника на составляющих микросхемах, которая обеспечивала бы ее стыковку с соседней схемой. При повышенных требованиях к защите от радиопомех и межсхемной изоляции модули собирают из отдельных полностью экранированных отсеков, ослабление сигналов между которыми достигает 100 дБ. Этот способ уменьшает время сборки и настройки модуля, обеспечивает минимальный объем, дополнительную механическую защиту, возможность быстрой замены отдельных элементов модуля.
Для герметизации модулей используются цельнометаллические корпуса из латуни или алюминия с углублениями, фрезерованными отсеками для размещения модуля. Экономичны корпуса, изготовленные методом литья под давлением или методом штамповки на основе керамики и других материалов.
Металлические корпуса обеспечивают экранирование модулей от внешних электромагнитных полей. Однако при этом часто наблюдается нарушение формы частотных характеристик, проявляющееся в виде пиков потерь или фазовых искажений. Эти искажения объясняются возникновением колебаний высших типов в местах переходов и неоднородностей, в местах подключений шлейфов и микрополосковых резонаторов и др. При больших коэффициентах стоячих волн напряжения (КСВН) и преобразовании одного типа волн в другой может возникать паразитное излучение неэкранированных МПЛ. Нежелательные резонансы устраняются применением поглощающих материалов, компромиссным уменьшением расстояния между подложкой и экранами. Предотвращение паразитных резонансов в конкретном частотном диапазоне обеспечивается соответствующим выбором размеров корпуса и расчетом. Учёт влияния расстояния Н1 верхней экранирующей крышки от элементов платы с МПЛ показывает, что оно становится существенным при условии Н1/h (h — толщина платы). Для предотвращения появления паразитных волн высших типов из-за влияния излучения неоднородностями стыков и переходов должно выполняться условие
λ < 2[(M/L)2 + (N/A)2]–1/2, (4.69)
где М и N — целые положительные числа;
L, A — линейные размеры платы ГИМС.
При выборе размера Н1 по формуле
Н1 + h = (R/R–1) ∙ h ∙ (1–1/ε), (4.70)
где R = (λ/2)2 ∙ [(M/L)2 + (N/A)2], возбуждение волн высших типов благоприятно.
Выбор высоты корпуса зависит от многих факторов, и обычно высота подбирается на основе опыта проектировщика экспериментально с контролем изменений характеристик и параметров модулей. Соотношения (4.69), (4.70) следует учитывать при выборе размеров корпуса микросхем.
В ГИМС СВЧ регулировка параметров внутри корпуса исключается, в связи с чем обычно повышаются требования к точности расчета изготовления элементов микросхем. Для активных элементов наиболее распространены методы измерения их параметров до монтажа с последующим учетом результатов измерений, но и это не дает хороших результатов. Обычно требуется дополнительная настройка ГИМС СВЧ.
Для дополнительной настройки СВЧ-ИМС применяют в основном два метода:
активный, с помощью емкостных и индуктивных элементов;
механический, с помощью селективного испарения пленки лазерным лучом, настроечных винтов, перемещаемых магнитных сердечникови т.д.
Перечисленные методы, за исключением селективного испарения пленки лазерным лучом, требуют введения в схему дополнительных элементов.
Соединение ГИМС СВЧ с аппаратурой внешнего взаимодействия осуществляется с помощью коаксиально- или волноводно-микрополосковых переходов. Из коаксиально-микрополо-сковых переходов наибольшее распространение получили соосные переходы, в которых оси соединяемых линий параллельны. В переходе, показанном на рис. 4.43, МПЛ 5 шириной 500 мкм соединяется методом сварки с внутренним проводником 1 коаксиального разъема 9 золотой лентой 4 шириной порядка 500 мкм. Чем тоньше лента, тем меньше неоднородность, а значит и КСВН. При использовании для электромонтажа пайки толщина и ширина проводника должны быть минимальными. Позиция 2, 3, 6, 7, 8 соответственно обозначают фиксирующий изолятор, крышку корпуса, медное основание, плату ГИМС, основание корпуса.
Другая конструкция коаксиально-микрополоскового перехода изображена на рисунке 4.44. Здесь коаксиальный разъем модифицирован с целью создания ступенчатого перехода от стандартного к меньшему разъему, размеры которого выбирают в соответствии с толщиной МПЛ. Размер перехода выбирают таким образом, чтобы обеспечить согласование между обеими коаксиальными секциями. Внутренний проводник разъёма нависает над микрополосковым проводником и соединяется с ним с помощью пайки индиевым припоем (либо сваркой). Компактный низкоиндуктивный контакт с заземленной пластиной формируется с помощью широкой золотой ленты, которая приваривается к подложке и прижимается к боковой стенке. Характеристики такого перехода можно оценить с помощью оконечной нагрузки МПЛ, состоящей из секции магнитного поглощающего материала и металлического клина, который соединен с верхней крышкой корпуса миниатюрными пружинами.
Соответствующим выбором поглощающего материала, длины и угла ленты КСВН оконечной нагрузки может быть уменьшен до 1,1 в полосе частот 8–10 ГГц. Для разделения отражения от перехода и нагрузки последняя сделана скользящей вдоль МПЛ, что позволило экспериментально оптимизировать размеры коаксиально-микрополоскового перехода. В результате КСВН всей конструкции составил 1,15 в полосе частот 8–12 ГГц.
Волноводно-микрополосковый переход изображён на рисунке 4.45. Соединение волновода с МПЛ осуществляется широкополосным ступенчатым трансформатором гребенчатого типа, состоящим из четвертьвол-новых секций и механически связанным с микрополосковой схемой посредством специального контакта при-жимного винта. Волновые сопротивления и геометрические размеры каждой ступени трансформатора определяются для заданной полосы частот. Высоту последней ступени трансформатора выбирают таким образом, чтобы подложка соприкасалась с гребенчатой линией в ее центре. Применяемые в переходах гребенчатые линии имеют ширину 2–2,5 мм. Для большей механической прочности волновод и подложку закрепляют на общем основании. Изолированный прижимной винт соединяет контактный элемент с МПЛ. Край гребенчатой линии используют в качестве стопорного устройства для установки подложки.
При переходе с волновода на МПЛ происходит преобразование типов волн в основной для коаксиально-микрополосковых тип с поперечным электрическим полем.